期刊文献+
共找到4篇文章
< 1 >
每页显示 20 50 100
粉末触媒合成高品级金刚石的工艺研究 被引量:7
1
作者 李彦涛 王改民 +1 位作者 贾晓鹏 马红安 《金刚石与磨料磨具工程》 CAS 北大核心 2011年第4期23-28,共6页
本文提出了金刚石合成的二阶段升温升压工艺,讨论了各工艺参数(暂停时间、台阶功率、台阶压力)对粉末触媒高温高压合成优质金刚石单晶的影响,并对实验现象进行了分析,确立了高品级金刚石的合成工艺。实验结果表明:暂停时间长短影响成核... 本文提出了金刚石合成的二阶段升温升压工艺,讨论了各工艺参数(暂停时间、台阶功率、台阶压力)对粉末触媒高温高压合成优质金刚石单晶的影响,并对实验现象进行了分析,确立了高品级金刚石的合成工艺。实验结果表明:暂停时间长短影响成核的数量,暂停时间长金刚石产量低,暂停时间短金刚石产量高,但晶形较差;随着台阶功率的增加,金刚石的成核量和产量呈减少趋势;台阶压力的高低影响成核的多寡,台阶压力低,成核少,合成温度偏低,台阶压力高,成核多,金刚石晶形差。实践证实该工艺更有利于腔体的温度稳定。 展开更多
关键词 两阶段升温升压 工艺参数 金刚石成核
在线阅读 下载PDF
镀膜技术及设备
2
《中国光学》 EI CAS 1997年第6期48-51,共4页
TB43 97063842磁控溅射电致变色非晶态氧化钨薄膜=Magnetronsputtered amorphous tungsten oxiden elec-trochromic films[刊,中]/史月艳,陈士元,杨晓继,
关键词 金刚石薄膜 薄膜厚度 人工晶体 微细加工技术 巴基管 金刚石成核 清华大学 分析结果 非晶态 折射率
在线阅读 下载PDF
制膜技术与装置
3
《中国光学》 EI CAS 2000年第6期44-47,共4页
O484.1 2000064020负衬底偏压热灯丝CVD金刚石膜成核的研究=Nucleationof diamond by biased hot filamentchemical vapor deposition[刊,中]/王万录,廖克俊,方亮,王必本,冯斌(重庆大学应用物理系.重庆(400044))//人工晶体学报.—19... O484.1 2000064020负衬底偏压热灯丝CVD金刚石膜成核的研究=Nucleationof diamond by biased hot filamentchemical vapor deposition[刊,中]/王万录,廖克俊,方亮,王必本,冯斌(重庆大学应用物理系.重庆(400044))//人工晶体学报.—1999,28(1).—65-68利用扫描电子显微镜和原子力显微镜研究了Si(100)衬底上热灯丝金刚石膜成核过程。在-240V和250 mA下,在镜面抛光的Si(100)衬底上金刚石最大成核密度超过了10<sup>10</sup> cm<sup>-2</sup>。研究表明,负衬底偏压增强成核主要是发射电子和离子轰击的结果。 展开更多
关键词 金刚石薄膜 金刚石成核 人工晶体 金刚石 成核密度 膜技术 负衬底偏压 过渡层 原子力显微镜 扫描电子显微镜
在线阅读 下载PDF
镀膜技术及设备
4
《中国光学》 EI CAS 1996年第6期42-44,共3页
O484.1 96063831微波等离子体化学气相沉积金刚石薄膜研究=Diamonddeposition using microwave plasmaassisted chemical vapor deposition[刊,中]/王建军,吕反修,于文秀,佟玉梅(北京科技大学.北京(100083)),邬钦崇,王守国(中科院等离... O484.1 96063831微波等离子体化学气相沉积金刚石薄膜研究=Diamonddeposition using microwave plasmaassisted chemical vapor deposition[刊,中]/王建军,吕反修,于文秀,佟玉梅(北京科技大学.北京(100083)),邬钦崇,王守国(中科院等离子体物理研究所.安徽,合肥(230031))//人工晶体学报.- 1996,25(2).-137-142研究了石英钟罩式微波等离子体辅助化学气相沉积装置对沉积金刚石薄膜的影响。与石英管式微波等离子体沉积装置相比,该装置能使用较高的沉积气压、较大的气体流量和较高的微波功率。研究了沉积气压、气体和流量甲烷浓度对金刚石薄膜形貌和生长速度的影响。发现生长速度随着沉积气压和甲烷浓度的增大而增大。 展开更多
关键词 金刚石薄膜 微波等离子体化学气相沉积 金刚石成核 人工晶体 微细加工技术 沉积气压 等离子体物理研究所 甲烷浓度 生长速度 沉积装置
在线阅读 下载PDF
上一页 1 下一页 到第
使用帮助 返回顶部