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热烧结及其退火工艺对玻璃衬底印刷碳纳米管薄膜场发射的影响
被引量：
3
1
作者
张秀霞
魏舒怡
《材料导报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2009年第4期19-21,31,共4页
通过实验测试研究了热烧结和退火后处理工艺对玻璃衬底碳纳米管薄膜(CNTF)场发射特性的影响,得到了低成本丝网印刷方法在玻璃衬底制备CNTF阴极的热烧结曲线,250min热烧结过程包括2个升温阶段和3个恒温阶段,热烧结的最高温度为613K。结...
通过实验测试研究了热烧结和退火后处理工艺对玻璃衬底碳纳米管薄膜(CNTF)场发射特性的影响,得到了低成本丝网印刷方法在玻璃衬底制备CNTF阴极的热烧结曲线,250min热烧结过程包括2个升温阶段和3个恒温阶段,热烧结的最高温度为613K。结果表明,623K、15min是样品退火后处理的最佳条件,适宜的退火后处理使CNTF场发射趋于均匀。
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关键词
碳纳米管
丝网印刷
场致发射
热烧结
退火后处理
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职称材料
题名
热烧结及其退火工艺对玻璃衬底印刷碳纳米管薄膜场发射的影响
被引量：
3
1
作者
张秀霞
魏舒怡
机构
北方民族大学电气信息工程学院
中国科学院研究生院
出处
《材料导报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2009年第4期19-21,31,共4页
基金
国家863计划项目(2001AA313090)
国家自然科学基金资助项目(60844006)
+2 种基金
国家民委项目(08XBE07)
宁夏自然科学基金项目(NZ0884)
宁夏高等学校科学研究项目(2008JY002)
文摘
通过实验测试研究了热烧结和退火后处理工艺对玻璃衬底碳纳米管薄膜(CNTF)场发射特性的影响,得到了低成本丝网印刷方法在玻璃衬底制备CNTF阴极的热烧结曲线,250min热烧结过程包括2个升温阶段和3个恒温阶段,热烧结的最高温度为613K。结果表明,623K、15min是样品退火后处理的最佳条件,适宜的退火后处理使CNTF场发射趋于均匀。
关键词
碳纳米管
丝网印刷
场致发射
热烧结
退火后处理
Keywords
carbon nanotube, screen printing, field emission, thermal sintering, annealing post-treatment
分类号
TB383 [一般工业技术—材料科学与工程]
TF046.4 [冶金工程—冶金物理化学]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
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1
热烧结及其退火工艺对玻璃衬底印刷碳纳米管薄膜场发射的影响
张秀霞
魏舒怡
《材料导报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2009
3
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职称材料
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