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连续电解抛光工艺优化前后的钼丝性能比较 被引量:1
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作者 严云涛 张飒 +3 位作者 程璇 张颖 林强 于洋 《厦门大学学报(自然科学版)》 CAS CSCD 北大核心 2012年第3期441-444,共4页
通过对比实验对钼丝的连续电解抛光液及工艺参数进行了优化,并研究连续电解抛光工艺优化前后钼丝的相关性能.结果表明,工艺优化后的钼丝表面形成了连续均匀的氧化膜,整体缺陷减少,表面平整度得到较大的改善,同时抗拉强度、显微硬度、耐... 通过对比实验对钼丝的连续电解抛光液及工艺参数进行了优化,并研究连续电解抛光工艺优化前后钼丝的相关性能.结果表明,工艺优化后的钼丝表面形成了连续均匀的氧化膜,整体缺陷减少,表面平整度得到较大的改善,同时抗拉强度、显微硬度、耐蚀性、抗氧化性也有所提高,综合性能明显优于传统工艺得到的钼丝性能. 展开更多
关键词 钼丝 连续电解抛光 表面平整度 性能
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