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题名湿法制作连续微透镜列阵新方法
被引量：1
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作者
罗红心
周礼书
杜春雷
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机构
中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室
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出处
《光电工程》
CAS
CSCD
2000年第6期9-11,65,共4页
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文摘
制作连续微透镜列阵中主要的问题就是浮雕的深度和浮雕面形的控制 ,已有的微透镜列阵制作方法不能很好地解决 ;本文提出了一种利用干法和湿法蚀刻结合在硅片上制作连续深浮雕微透镜列阵的新方法 ,得到了深度
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关键词
微透镜列阵
浮雕
干法蚀刻
湿法蚀刻
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Keywords
Micro-lenses arrays: Etching
Micro optical elements
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分类号
TN256
[电子电信—物理电子学]
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题名一种控制明胶材料微浮雕结构线性蚀刻深度的新方法
被引量：1
- 2
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作者
董小春
杜春雷
陈波
潘丽
王永茹
刘强
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机构
中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室
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出处
《光子学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2001年第8期1006-1009,共4页
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文摘
提出了一种用于扩展固定配方明胶版蚀刻范围的新方法—预曝光蚀刻法 ( for-exposuremothod) ,并通过对光刻过程中各参量的控制 ,最终实现了用固定配方明胶版对多种不同线性深度微浮雕透镜列阵的蚀刻 ,该方法在蚀刻范围、蚀刻效果等方面都大大地优于传统的蚀刻方法 .本文通过对比预曝光蚀刻法与常用的几种蚀刻方法 ,详尽的阐述了预曝光蚀刻法的原理及优点 ,为深浮雕光刻工艺的进一步发展奠定了基础 .
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关键词
连续深浮雕微透镜列阵
预曝光蚀刻法
线性深度
线性面形
深浮雕光刻工艺
明胶材料
微光学元件
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Keywords
Deeps continuous relief micro-optic element
Forexposure method relief depth
Profile
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分类号
TN305.7
[电子电信—物理电子学]
TN405.98
[电子电信—微电子学与固体电子学]
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