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用于无模光刻的连续浮雕谐衍射透镜阵列设计
被引量：
2
1
作者
单明广
钟志
郭黎利
《光学精密工程》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2010年第1期9-14,共6页
为了获得实时调焦写入以及高的系统分辨力和衍射效率,提出了一种基于连续浮雕谐衍射透镜阵列的无模光刻方法。该方法采用连续浮雕谐衍射透镜阵列作为无模光刻的物镜阵列,在兼顾系统分辨力和衍射效率基础上,由同一衍射透镜阵列实现聚焦...
为了获得实时调焦写入以及高的系统分辨力和衍射效率,提出了一种基于连续浮雕谐衍射透镜阵列的无模光刻方法。该方法采用连续浮雕谐衍射透镜阵列作为无模光刻的物镜阵列,在兼顾系统分辨力和衍射效率基础上,由同一衍射透镜阵列实现聚焦写入和检焦;同时利用谐衍射透镜的深浮雕特性调制透镜的环带宽度,降低透镜的制作难度。在分析谐衍射透镜特点以及考虑激光直写制作工艺对连续深浮雕衍射聚焦特性影响的基础上,设计、制作并测试了设计波长为441.6nm,F数为7.5的连续浮雕谐衍射透镜阵列。测试结果表明,该阵列同时具有聚焦写入和检焦功能,且对写入激光和检焦激光的衍射效率均优于70%,有望改善无模光刻的制作质量。
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关键词
无模光刻
连续浮雕衍射透镜
谐
衍射
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职称材料
用于并行激光直写的连续深浮雕衍射透镜阵列研究
2
作者
单明广
郭黎利
钟志
《光子学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2009年第11期2880-2884,共5页
研究了一种用于并行激光直写的连续深浮雕衍射透镜阵列方法.该方法采用连续浮雕衍射透镜阵列替换传统并行激光直写中的物镜阵列,在兼顾系统分辨力基础上,克服了波带片等衍射透镜阵列衍射效率低的缺点;同时因采用深浮雕结构优化环带宽度...
研究了一种用于并行激光直写的连续深浮雕衍射透镜阵列方法.该方法采用连续浮雕衍射透镜阵列替换传统并行激光直写中的物镜阵列,在兼顾系统分辨力基础上,克服了波带片等衍射透镜阵列衍射效率低的缺点;同时因采用深浮雕结构优化环带宽度,可降低阵列的制作难度.针对并行激光直写系统阵列F/#小的特点,在建立连续深浮雕衍射透镜阵列非旁轴近似聚焦模型基础上,设计、制作和测试了波长为441.6nm,F/#为7.5的连续深浮雕衍射透镜阵阵列.测试结果表明:该阵列的衍射效率优于70%,远高于波带片阵列的40%.
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关键词
并行激光直写
连续浮雕衍射透镜
深
浮雕
衍射
效率
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职称材料
题名
用于无模光刻的连续浮雕谐衍射透镜阵列设计
被引量：
2
1
作者
单明广
钟志
郭黎利
机构
哈尔滨工程大学信息与通信工程学院
哈尔滨工业大学超精密光电仪器工程研究所
出处
《光学精密工程》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2010年第1期9-14,共6页
基金
国家自然科学基金资助项目(No.60878028)
黑龙江省博士后经费资助项目(No.LBH-Z08214)
+2 种基金
哈尔滨市科技创新人才研究专项基金资助项目(No.2008RFQXG024
No.2009RFQXG055)
哈尔滨工程大学基础研究基金资助项目(No.HEUFT07079)
文摘
为了获得实时调焦写入以及高的系统分辨力和衍射效率,提出了一种基于连续浮雕谐衍射透镜阵列的无模光刻方法。该方法采用连续浮雕谐衍射透镜阵列作为无模光刻的物镜阵列,在兼顾系统分辨力和衍射效率基础上,由同一衍射透镜阵列实现聚焦写入和检焦;同时利用谐衍射透镜的深浮雕特性调制透镜的环带宽度,降低透镜的制作难度。在分析谐衍射透镜特点以及考虑激光直写制作工艺对连续深浮雕衍射聚焦特性影响的基础上,设计、制作并测试了设计波长为441.6nm,F数为7.5的连续浮雕谐衍射透镜阵列。测试结果表明,该阵列同时具有聚焦写入和检焦功能,且对写入激光和检焦激光的衍射效率均优于70%,有望改善无模光刻的制作质量。
关键词
无模光刻
连续浮雕衍射透镜
谐
衍射
Keywords
maskless lithography
continuous-relief diffractive microlens
harmonic diffraction
分类号
TN305.7 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
用于并行激光直写的连续深浮雕衍射透镜阵列研究
2
作者
单明广
郭黎利
钟志
机构
哈尔滨工程大学信息与通信工程学院
哈尔滨工业大学超精密光电仪器工程研究所
出处
《光子学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2009年第11期2880-2884,共5页
基金
国家自然科学基金(60908026
60878028)
+1 种基金
黑龙江省博士后资助经费(LBH-Z08214)
哈尔滨市科技创新人才研究专项资金(2008RFQXG024)资助
文摘
研究了一种用于并行激光直写的连续深浮雕衍射透镜阵列方法.该方法采用连续浮雕衍射透镜阵列替换传统并行激光直写中的物镜阵列,在兼顾系统分辨力基础上,克服了波带片等衍射透镜阵列衍射效率低的缺点;同时因采用深浮雕结构优化环带宽度,可降低阵列的制作难度.针对并行激光直写系统阵列F/#小的特点,在建立连续深浮雕衍射透镜阵列非旁轴近似聚焦模型基础上,设计、制作和测试了波长为441.6nm,F/#为7.5的连续深浮雕衍射透镜阵阵列.测试结果表明:该阵列的衍射效率优于70%,远高于波带片阵列的40%.
关键词
并行激光直写
连续浮雕衍射透镜
深
浮雕
衍射
效率
Keywords
Maskless lithography
Diffractive optical elements with continuous relief
Deep relief
Diffraction efficiency
分类号
TN305.7 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
用于无模光刻的连续浮雕谐衍射透镜阵列设计
单明广
钟志
郭黎利
《光学精密工程》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2010
2
在线阅读
下载PDF
职称材料
2
用于并行激光直写的连续深浮雕衍射透镜阵列研究
单明广
郭黎利
钟志
《光子学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2009
0
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职称材料
已选择
0
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