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射频辉光放电等离子体辅助化学气相沉积法制备类金刚石碳膜工艺与性能表征
被引量：
2
1
作者
陈冲
费振义
+5 位作者
亓永新
曹宁
张益博
王风
吕震
李木森
《金刚石与磨料磨具工程》
CAS
北大核心
2009年第5期7-12,共6页
使用射频辉光放电等离子体辅助化学气相沉积技术(简称RFGDPECVD)在玻璃载玻片表面沉积类金刚石薄膜。用原子力显微镜(AFM)、摩擦试验仪、划痕试验机测定了其表面形貌、耐磨性及附着性。采用X射线光电子能谱(XPS)、分光光度计对两种气源(...
使用射频辉光放电等离子体辅助化学气相沉积技术(简称RFGDPECVD)在玻璃载玻片表面沉积类金刚石薄膜。用原子力显微镜(AFM)、摩擦试验仪、划痕试验机测定了其表面形貌、耐磨性及附着性。采用X射线光电子能谱(XPS)、分光光度计对两种气源(C4H10、C2H2)制备的DLC薄膜微观组成和透光率进行了检测和对比。结果表明:DLC薄膜的表面光滑、平整,表面粗糙度随沉积时间的增加单调递增;耐磨性及附着性优良;与C4H10相比使用C2H2作为碳源气体可以得到较高sp3含量和较低sp1含量的DLC膜;C2H2制备DLC薄膜的透光率低于C4H10;同一种碳源气体,反应流量比例越小,则DLC薄膜的透光性越好。
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关键词
射频
辉
光
放电
等离子体
辅助
化学
气
相
沉积
类金刚石薄膜
放电特性
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职称材料
GPCVD法低温合成纳米金刚石薄膜
被引量：
1
2
作者
葛大勇
赵庆勋
+1 位作者
杨保柱
何雷
《实验室研究与探索》
CAS
北大核心
2011年第8期22-24,共3页
为了在低温衬底(<500℃)上制备出高品质纳米金刚石薄膜,使用辉光等离子体辅助热丝化学气相沉积法,用甲烷、高纯氢为源气体,P型Si(100)为衬底材料,在低温条件下合成了纳米金刚石薄膜,利用Langmuir探针对合成过程进行了实时原位诊断,...
为了在低温衬底(<500℃)上制备出高品质纳米金刚石薄膜,使用辉光等离子体辅助热丝化学气相沉积法,用甲烷、高纯氢为源气体,P型Si(100)为衬底材料,在低温条件下合成了纳米金刚石薄膜,利用Langmuir探针对合成过程进行了实时原位诊断,研究了电子温度Te和电子密度ne的空间变化规律,探讨薄膜生长机理。对所合成的样品,利用扫描电子显微镜、Raman光谱仪、X射线衍射进行了分析。结果表明,实验所得样品为高品质、结晶完善、表面光滑的纳米金刚石薄膜,SEM形貌表明薄膜中晶粒的粒度为40～90 nm,Raman光谱在1 331.5 cm-1处出现了金刚石的(111)特征声子峰。XRD谱在2θ=43.907、5.30处出现了金刚石的(111)(、220)特征衍射峰。实验得出了低温合成纳米金刚石薄膜的最佳工艺条件:①甲烷体积百分比浓度为0.6%;②反应室气压为5 kPa;③气体流量在1 100～1 300 mL/min范围内成核密度较高,并以(100)(、111)面为主,晶粒的平均粒度小于100 nm;在流量为1 300 mL/min时,晶粒的生长表现为一定的定向生长。
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关键词
纳米
金刚石薄膜
辉光等离子体辅助热丝化学气相沉积法
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职称材料
题名
射频辉光放电等离子体辅助化学气相沉积法制备类金刚石碳膜工艺与性能表征
被引量：
2
1
作者
陈冲
费振义
亓永新
曹宁
张益博
王风
吕震
李木森
机构
山东省超硬材料工程技术研究中心
山东大学材料液态结构及其遗传性教育部重点实验室
出处
《金刚石与磨料磨具工程》
CAS
北大核心
2009年第5期7-12,共6页
基金
国家自然科学基金资助(50772060)
山东省自然科学基金资助(Y2007F12)
山东省博士后科研创新专项基金资助(200702024)
文摘
使用射频辉光放电等离子体辅助化学气相沉积技术(简称RFGDPECVD)在玻璃载玻片表面沉积类金刚石薄膜。用原子力显微镜(AFM)、摩擦试验仪、划痕试验机测定了其表面形貌、耐磨性及附着性。采用X射线光电子能谱(XPS)、分光光度计对两种气源(C4H10、C2H2)制备的DLC薄膜微观组成和透光率进行了检测和对比。结果表明:DLC薄膜的表面光滑、平整,表面粗糙度随沉积时间的增加单调递增;耐磨性及附着性优良;与C4H10相比使用C2H2作为碳源气体可以得到较高sp3含量和较低sp1含量的DLC膜;C2H2制备DLC薄膜的透光率低于C4H10;同一种碳源气体,反应流量比例越小,则DLC薄膜的透光性越好。
关键词
射频
辉
光
放电
等离子体
辅助
化学
气
相
沉积
类金刚石薄膜
放电特性
Keywords
RFGDPECVD
diamond-like carbon（DLC） film
flashover characteristic
分类号
TQ164 [化学工程—高温制品工业]
TB43 [一般工业技术]
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职称材料
题名
GPCVD法低温合成纳米金刚石薄膜
被引量：
1
2
作者
葛大勇
赵庆勋
杨保柱
何雷
机构
河北大学物理科学与技术学院
出处
《实验室研究与探索》
CAS
北大核心
2011年第8期22-24,共3页
基金
河北省自然科学基金资助项目(E2009000207)
河北省自然科学基金基地专项资助项目(08B010)
河北大学科研基金资助项目(2008Q15)
文摘
为了在低温衬底(<500℃)上制备出高品质纳米金刚石薄膜,使用辉光等离子体辅助热丝化学气相沉积法,用甲烷、高纯氢为源气体,P型Si(100)为衬底材料,在低温条件下合成了纳米金刚石薄膜,利用Langmuir探针对合成过程进行了实时原位诊断,研究了电子温度Te和电子密度ne的空间变化规律,探讨薄膜生长机理。对所合成的样品,利用扫描电子显微镜、Raman光谱仪、X射线衍射进行了分析。结果表明,实验所得样品为高品质、结晶完善、表面光滑的纳米金刚石薄膜,SEM形貌表明薄膜中晶粒的粒度为40～90 nm,Raman光谱在1 331.5 cm-1处出现了金刚石的(111)特征声子峰。XRD谱在2θ=43.907、5.30处出现了金刚石的(111)(、220)特征衍射峰。实验得出了低温合成纳米金刚石薄膜的最佳工艺条件:①甲烷体积百分比浓度为0.6%;②反应室气压为5 kPa;③气体流量在1 100～1 300 mL/min范围内成核密度较高,并以(100)(、111)面为主,晶粒的平均粒度小于100 nm;在流量为1 300 mL/min时,晶粒的生长表现为一定的定向生长。
关键词
纳米
金刚石薄膜
辉光等离子体辅助热丝化学气相沉积法
Keywords
nanometer
diamond thin film
glow plasma chemical vapour deposition（GPCVD）
分类号
O484 [理学—固体物理]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
射频辉光放电等离子体辅助化学气相沉积法制备类金刚石碳膜工艺与性能表征
陈冲
费振义
亓永新
曹宁
张益博
王风
吕震
李木森
《金刚石与磨料磨具工程》
CAS
北大核心
2009
2
在线阅读
下载PDF
职称材料
2
GPCVD法低温合成纳米金刚石薄膜
葛大勇
赵庆勋
杨保柱
何雷
《实验室研究与探索》
CAS
北大核心
2011
1
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职称材料
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