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镀膜法制备高磁导率低介电片状吸收剂
1
作者
刘时通
鲍禹
+1 位作者
李维
官建国
《功能材料》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2020年第9期9001-9005,9044,共6页
提出一种基于磁控溅射镀膜技术制备高性能磁性吸收剂的方法,通过预涂一层可溶性有机薄膜在基底上,继而溅射一层磁性薄膜及SiO2介质层,后在溶剂中超声获得具有大宽厚比的片形吸收剂。该吸收剂由于其高达80的宽厚比而具备大的磁导率;而磁...
提出一种基于磁控溅射镀膜技术制备高性能磁性吸收剂的方法,通过预涂一层可溶性有机薄膜在基底上,继而溅射一层磁性薄膜及SiO2介质层,后在溶剂中超声获得具有大宽厚比的片形吸收剂。该吸收剂由于其高达80的宽厚比而具备大的磁导率;而磁性薄膜之上覆盖一层SiO2介质层则显著降低了介电,提高了阻抗匹配性。在吸收剂体积分数仅10%、厚度1.6 mm时,反射率(RL)<-5 dB及<-10 dB的带宽分别达到了7.8 GHz(4.2~12 GHz)和7 GHz(10~17 GHz)。这说明该工艺可以用于制备高性能片形吸收剂,并在轻质高效吸波材料方面有很大应用潜力。
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关键词
磁控溅射
轻质吸收剂
片状吸波
剂
宽带吸波
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职称材料
题名
镀膜法制备高磁导率低介电片状吸收剂
1
作者
刘时通
鲍禹
李维
官建国
机构
武汉理工大学材料复合新技术国家重点实验室
武汉理工大学材料科学与工程国际化示范学院
出处
《功能材料》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2020年第9期9001-9005,9044,共6页
基金
国家自然科学基金资助项目(51577138)。
文摘
提出一种基于磁控溅射镀膜技术制备高性能磁性吸收剂的方法,通过预涂一层可溶性有机薄膜在基底上,继而溅射一层磁性薄膜及SiO2介质层,后在溶剂中超声获得具有大宽厚比的片形吸收剂。该吸收剂由于其高达80的宽厚比而具备大的磁导率;而磁性薄膜之上覆盖一层SiO2介质层则显著降低了介电,提高了阻抗匹配性。在吸收剂体积分数仅10%、厚度1.6 mm时,反射率(RL)<-5 dB及<-10 dB的带宽分别达到了7.8 GHz(4.2~12 GHz)和7 GHz(10~17 GHz)。这说明该工艺可以用于制备高性能片形吸收剂,并在轻质高效吸波材料方面有很大应用潜力。
关键词
磁控溅射
轻质吸收剂
片状吸波
剂
宽带吸波
Keywords
magnetron sputtering
lightweight microwave absorbents
flaky absorbents
broadband absorption
分类号
TB34 [一般工业技术—材料科学与工程]
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题名
作者
出处
发文年
被引量
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1
镀膜法制备高磁导率低介电片状吸收剂
刘时通
鲍禹
李维
官建国
《功能材料》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2020
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