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束参量对X射线照射量的影响
被引量:
10
1
作者
施将君
《强激光与粒子束》
EI
CAS
CSCD
1995年第4期613-618,共6页
用蒙特卡洛方法来讨论束参量(半径、发射度和能量)对韧致辐射照射量的影响。结果表明,当束击靶半径一定时,靶正前方一米处的照射量X_1随发射度增加而减小;当发射度一定时,照射量先随半径增加而急速增加,在束半径大于R_(b...
用蒙特卡洛方法来讨论束参量(半径、发射度和能量)对韧致辐射照射量的影响。结果表明,当束击靶半径一定时,靶正前方一米处的照射量X_1随发射度增加而减小;当发射度一定时,照射量先随半径增加而急速增加,在束半径大于R_(bm)后,随半径进一步的增加而缓慢降低。也研究了束参量对照射量角分布的影响。因为使用了电子束的K-V分布,所得X_1值是偏于保守的。
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关键词
X射线照射量
蒙特卡洛法
束参量
K-V
分布
轫致辐射角分布
电子束发射度
相椭圆
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职称材料
题名
束参量对X射线照射量的影响
被引量:
10
1
作者
施将君
机构
西南流体物理研究所
出处
《强激光与粒子束》
EI
CAS
CSCD
1995年第4期613-618,共6页
文摘
用蒙特卡洛方法来讨论束参量(半径、发射度和能量)对韧致辐射照射量的影响。结果表明,当束击靶半径一定时,靶正前方一米处的照射量X_1随发射度增加而减小;当发射度一定时,照射量先随半径增加而急速增加,在束半径大于R_(bm)后,随半径进一步的增加而缓慢降低。也研究了束参量对照射量角分布的影响。因为使用了电子束的K-V分布,所得X_1值是偏于保守的。
关键词
X射线照射量
蒙特卡洛法
束参量
K-V
分布
轫致辐射角分布
电子束发射度
相椭圆
Keywords
X-ray exposure,K-V distribution,e-beam emittanee, phase el-lipse
分类号
O434.11 [机械工程—光学工程]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
束参量对X射线照射量的影响
施将君
《强激光与粒子束》
EI
CAS
CSCD
1995
10
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