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超细疏水SiO_2对丁羟衬层流变性影响的研究 被引量:1
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作者 楼阳 詹国柱 +1 位作者 黄洪勇 宋洪标 《固体火箭技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2013年第3期371-375,共5页
采用红外光谱(FTIR)、热重分析(TGA)、光学显微镜(OM)、流变分析等方法,研究了超细疏水SiO2(UF-SiO2)的物理化学特性及对丁羟衬层流变性的影响。研究表明,超细SiO2表面经二甲基硅油处理后疏水性增强,在丁羟衬层中易分散,可形成均匀、致... 采用红外光谱(FTIR)、热重分析(TGA)、光学显微镜(OM)、流变分析等方法,研究了超细疏水SiO2(UF-SiO2)的物理化学特性及对丁羟衬层流变性的影响。研究表明,超细SiO2表面经二甲基硅油处理后疏水性增强,在丁羟衬层中易分散,可形成均匀、致密的网络结构,对丁羟衬层的触变性有显著的改善效果。随UF-SiO2用量的增加,丁羟衬层的触变环面积增大,其触变性随之提高,UF-SiO2用量为0.8~1.6 phr时,可赋予丁羟衬层优异的工艺性能。此外,UF-SiO2用量在0~1.6 phr范围内,对丁羟衬层本体力学和界面(衬层/推进剂)粘接性能均无明显影响。 展开更多
关键词 丁羟衬层 超细疏水sio2 流变性 界面粘接
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