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激光驻波透镜聚焦原子束制作超微细图形研究: 1; 作者陈元培李展 +1 位作者陈旭南陈献忠《激光杂志》 CAS CSCD 北大核心 2003年第6期18-19,共2页; 介绍将原子束激光准直技术和驻波聚焦沉积技术用于制作纳米级图形的基本原理和实验系统设计。研究了驻波透镜对原子束的聚焦特性 ,数值结果显示在原子束高度准直的情况下 ,原子束在置于焦平面处的基底上所沉积的条纹半高宽为 10nm左右 ... 展开更多; 关键词原子光学光刻原子束驻波透镜激光准直技术驻波聚焦沉积技术超微细图形微细加工; 在线阅读下载PDF 职称材料

一种制作量子尺寸超微细图形的新方法: 2; 作者傅绍军夏安东 +1 位作者洪义麟田扬超《仪器仪表学报》 EI CAS CSCD 北大核心 1996年第S1期251-,259,共2页; 一种制作量子尺寸超微细图形的新方法傅绍军，夏安东，洪义麟，田扬超（中国科技大学国家同步辐射实验室）０引言具有二维和三维量子限域作用的量子细线和量子点等量子微结构，目前已成为低维物理和材料科学中的一个最活跃的前沿工作。... 展开更多; 关键词超微细图形量子尺寸量子微结构国家同步辐射实验室光栅图形新方法透射光栅中国科技大学等离子体氧化电子束曝光; 在线阅读下载PDF 职称材料

超微细图形加工技术进展被引量：2: 3; 作者田如江韩阶平马俊如《真空科学与技术》 CSCD 北大核心 1998年第2期83-94,共12页; 自1959年集成电路发明以来，它已经对人类的生产和生活方式的很多方面产生了极其重大的影响。集成电路正以线宽每年缩小30％、集成规模增长1倍、芯片价格随之下降的惊人速度发展。光刻技术的发展始终是集成电路发展的决定因素。本文综... 展开更多; 关键词光刻电子束曝光纳米加工超微细图形; 在线阅读下载PDF 职称材料

纳米表面工程基本问题及其进展被引量：41: 4; 作者徐滨士欧忠文马世宁《中国表面工程》 EI CAS CSCD 2001年第3期6-12,共7页; 阐述了纳米表面工程的产生背景、内涵、特点和科学问题,详细综述了纳米表面工程在纳米超薄膜的制备、超光滑表面的制备、表面超微细图形加工、纳米结构涂层的组装、制备纳米复合功能涂层方面的研究进展。; 关键词纳米表面工程纳米材料纳米超薄膜超光滑表面超微细图形纳米结构涂层; 在线阅读下载PDF 职称材料

题名激光驻波透镜聚焦原子束制作超微细图形研究: 1; 作者陈元培李展陈旭南陈献忠; 机构中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室; 出处《激光杂志》 CAS CSCD 北大核心 2003年第6期18-19,共2页; 基金中科院知识创新项目 (A2K0 0 0 9) 微细加工光学技术国家重点实验室开放基金项目 (KFS4); 文摘介绍将原子束激光准直技术和驻波聚焦沉积技术用于制作纳米级图形的基本原理和实验系统设计。研究了驻波透镜对原子束的聚焦特性 ,数值结果显示在原子束高度准直的情况下 ,原子束在置于焦平面处的基底上所沉积的条纹半高宽为 10nm左右 ,可以实现纳米级超微细图形的制作。; 关键词原子光学光刻原子束驻波透镜激光准直技术驻波聚焦沉积技术超微细图形微细加工; Keywords atom optics,atom lithography,atomic beams,standing wave,lens; 分类号 TG665 [金属学及工艺—金属切削加工及机床]; 在线阅读下载PDF 职称材料

题名一种制作量子尺寸超微细图形的新方法: 2; 作者傅绍军夏安东洪义麟田扬超; 机构中国科技大学国家同步辐射实验室; 出处《仪器仪表学报》 EI CAS CSCD 北大核心 1996年第S1期251-,259,共2页; 文摘一种制作量子尺寸超微细图形的新方法傅绍军，夏安东，洪义麟，田扬超（中国科技大学国家同步辐射实验室）０引言具有二维和三维量子限域作用的量子细线和量子点等量子微结构，目前已成为低维物理和材料科学中的一个最活跃的前沿工作。如何产生这种具有量子尺寸的高质量超...; 关键词超微细图形量子尺寸量子微结构国家同步辐射实验室光栅图形新方法透射光栅中国科技大学等离子体氧化电子束曝光; 分类号 TN305 [电子电信—物理电子学]; 在线阅读下载PDF 职称材料

题名超微细图形加工技术进展被引量：2: 3; 作者田如江韩阶平马俊如; 机构中国科学院微电子中心国家外国专家局; 出处《真空科学与技术》 CSCD 北大核心 1998年第2期83-94,共12页; 文摘自1959年集成电路发明以来，它已经对人类的生产和生活方式的很多方面产生了极其重大的影响。集成电路正以线宽每年缩小30％、集成规模增长1倍、芯片价格随之下降的惊人速度发展。光刻技术的发展始终是集成电路发展的决定因素。本文综述了深亚微米光刻和纳米光刻技术。在光学光刻部分，简要描述了光刻的历史演变，较详细综述了光学光刻的最新进展，如相移掩模、离轴照明及深紫外曝光。最后介绍了电子束曝光及X射线曝光的发展状况及SIM纳米加工的发展状况。; 关键词光刻电子束曝光纳米加工超微细图形; Keywords Photolithography,Electron beam lithography,X-ray lithography,Nano-processing; 分类号 TN305.7 [电子电信—物理电子学]; 在线阅读下载PDF 职称材料

题名纳米表面工程基本问题及其进展被引量：41: 4; 作者徐滨士欧忠文马世宁; 机构全军装备维修表面工程研究中心; 出处《中国表面工程》 EI CAS CSCD 2001年第3期6-12,共7页; 基金国家重点基础研究专项经费(G19990650) 国家重点科技创新项目; 文摘阐述了纳米表面工程的产生背景、内涵、特点和科学问题,详细综述了纳米表面工程在纳米超薄膜的制备、超光滑表面的制备、表面超微细图形加工、纳米结构涂层的组装、制备纳米复合功能涂层方面的研究进展。; 关键词纳米表面工程纳米材料纳米超薄膜超光滑表面超微细图形纳米结构涂层; Keywords Nano-Surface Engineering Nano-Materials Nanocrystalline thin films Ultrasmooth Surface Super- fine pattern Nanostructured Coating; 分类号 TB383 [一般工业技术—材料科学与工程]; 在线阅读下载PDF 职称材料