期刊导航
期刊开放获取
上海教育软件发展有限公..
期刊文献
+
任意字段
题名或关键词
题名
关键词
文摘
作者
第一作者
机构
刊名
分类号
参考文献
作者简介
基金资助
栏目信息
任意字段
题名或关键词
题名
关键词
文摘
作者
第一作者
机构
刊名
分类号
参考文献
作者简介
基金资助
栏目信息
检索
高级检索
期刊导航
共找到
2
篇文章
<
1
>
每页显示
20
50
100
已选择
0
条
导出题录
引用分析
参考文献
引证文献
统计分析
检索结果
已选文献
显示方式：
文摘
详细
列表
相关度排序
被引量排序
时效性排序
亚波长超微细减反射结构研究
被引量：
1
1
作者
杨李茗
柴立群
+1 位作者
周礼书
杨春林
《光子学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2002年第0Z2期87-92,共6页
当光栅周期小于所使用的波长时，亚微米的表面微结构可以具有减反射作用。西方报导率了理论研究和制作技术，成功地制作了周期为400nm等的超微细结构，测量结果与理论值具有良好的一致性。
关键词
超
微
细结构
减反射
亚波长
BKK矢量分析法
光栅
零级反向衍射
超微加工技术
刻蚀
衍射光学
在线阅读
下载PDF
职称材料
新型智能电化学微加工系统的研究
被引量：
4
2
作者
刘品宽
孙立宁
+2 位作者
荣伟彬
蒋利民
田昭武
《高技术通讯》
EI
CAS
CSCD
2002年第6期83-87,共5页
约束刻蚀剂层技术是三维超微图形复制加工的新型技术。本文根据约束刻蚀剂层技术的工艺特点 ,介绍了约束刻蚀剂层电化学微加工仪器的组成 ,讨论了具有微力传感的纳米级微定位系统的研究与开发。利用研制的加工仪器 ,在半导体GaAs进行刻...
约束刻蚀剂层技术是三维超微图形复制加工的新型技术。本文根据约束刻蚀剂层技术的工艺特点 ,介绍了约束刻蚀剂层电化学微加工仪器的组成 ,讨论了具有微力传感的纳米级微定位系统的研究与开发。利用研制的加工仪器 ,在半导体GaAs进行刻蚀加工 ,复制出微孔阵列 ,其排列周期与模板的微锥阵列的排列周期吻合得很好 。
展开更多
关键词
智能电化学
微
加工
系统
约束刻蚀剂层
技术
压电陶瓷驱动器
半导体
三维
超
微
图形复制
加工
技术
在线阅读
下载PDF
职称材料
题名
亚波长超微细减反射结构研究
被引量：
1
1
作者
杨李茗
柴立群
周礼书
杨春林
机构
成都精密光学工程研究中心
出处
《光子学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2002年第0Z2期87-92,共6页
文摘
当光栅周期小于所使用的波长时，亚微米的表面微结构可以具有减反射作用。西方报导率了理论研究和制作技术，成功地制作了周期为400nm等的超微细结构，测量结果与理论值具有良好的一致性。
关键词
超
微
细结构
减反射
亚波长
BKK矢量分析法
光栅
零级反向衍射
超微加工技术
刻蚀
衍射光学
分类号
O436.1 [机械工程—光学工程]
TN305 [电子电信—物理电子学]
在线阅读
下载PDF
职称材料
题名
新型智能电化学微加工系统的研究
被引量：
4
2
作者
刘品宽
孙立宁
荣伟彬
蒋利民
田昭武
机构
哈尔滨工业大学机器人研究所
厦门大学固体表面物理化学国家重点实验室
出处
《高技术通讯》
EI
CAS
CSCD
2002年第6期83-87,共5页
基金
国家自然科学基金 ( 2 98330 70
50 1750 19)资助项目
文摘
约束刻蚀剂层技术是三维超微图形复制加工的新型技术。本文根据约束刻蚀剂层技术的工艺特点 ,介绍了约束刻蚀剂层电化学微加工仪器的组成 ,讨论了具有微力传感的纳米级微定位系统的研究与开发。利用研制的加工仪器 ,在半导体GaAs进行刻蚀加工 ,复制出微孔阵列 ,其排列周期与模板的微锥阵列的排列周期吻合得很好 。
关键词
智能电化学
微
加工
系统
约束刻蚀剂层
技术
压电陶瓷驱动器
半导体
三维
超
微
图形复制
加工
技术
Keywords
Confined Etchant Layer Technique, Nanopositioning, Piezo actuator
分类号
TH705 [机械工程—精密仪器及机械]
在线阅读
下载PDF
职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
亚波长超微细减反射结构研究
杨李茗
柴立群
周礼书
杨春林
《光子学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2002
1
在线阅读
下载PDF
职称材料
2
新型智能电化学微加工系统的研究
刘品宽
孙立宁
荣伟彬
蒋利民
田昭武
《高技术通讯》
EI
CAS
CSCD
2002
4
在线阅读
下载PDF
职称材料
已选择
0
条
导出题录
引用分析
参考文献
引证文献
统计分析
检索结果
已选文献
上一页
1
下一页
到第
页
确定
用户登录
登录
IP登录
使用帮助
返回顶部
