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X射线超导转变边沿传感器超导薄膜研究
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作者 贾娥 李万 +8 位作者 胡家昊 白海军 陈建 徐骁龙 郭思明 孙天宝 赵晓波 李劲劲 王雪深 《计量学报》 北大核心 2025年第1期69-74,共6页
采用超高真空直流磁控溅射技术,分别制备了超导Mo薄膜和Mo/Au双层薄膜,研究了不同的溅射功率和溅射气压下薄膜的应力、粗糙度和超导转变温度的变化,实现了应力范围为-421~163 Mpa、粗糙度<1 nm、超导转变温度为1.06~1.10 K的Mo薄膜制... 采用超高真空直流磁控溅射技术,分别制备了超导Mo薄膜和Mo/Au双层薄膜,研究了不同的溅射功率和溅射气压下薄膜的应力、粗糙度和超导转变温度的变化,实现了应力范围为-421~163 Mpa、粗糙度<1 nm、超导转变温度为1.06~1.10 K的Mo薄膜制备,并以此为基础制备了应力范围在-38 MPa至26 MPa之间,超导转变温度为80~350 mK的Mo/Au薄膜,为研制单能X射线超导转变边沿传感器(TES)提供了技术储备。 展开更多
关键词 电学计量 超导转变边沿传感器 磁控溅射 超导薄膜 Mo/Au双层薄膜 单能X射线
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