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脉冲法制备低轮廓微纳表面结构电子铜箔 被引量:1
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作者 王丽娟 廖娟 +6 位作者 宋宁 黄剑 刘伟飞 罗意昕 樊小伟 唐云志 谭育慧 《表面技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2024年第22期202-209,共8页
目的随着5G通信高频高速传输技术的发展,亟需开发出低轮廓、高剥离、微细纳米铜颗粒结构的电子铜箔,以满足5G材料低介电、低损耗的要求。方法开发了一种复合添加剂的粗化液体系,通过脉冲电沉积制备了低轮廓电子铜箔,表面形成了微纳米铜... 目的随着5G通信高频高速传输技术的发展,亟需开发出低轮廓、高剥离、微细纳米铜颗粒结构的电子铜箔,以满足5G材料低介电、低损耗的要求。方法开发了一种复合添加剂的粗化液体系,通过脉冲电沉积制备了低轮廓电子铜箔,表面形成了微纳米铜颗粒。利用扫描电子显微镜、接触角测试、激光共聚焦显微镜和电化学测试等技术手段表征了脉冲占空比和复合添加剂粗化对纳米铜颗粒形貌、铜箔表面粗糙度和剥离强度的影响。结果调节脉冲占空比能有效控制纳米铜颗粒微观形貌。当占空比为20%、40%和60%时,平均尺寸小于80 nm,纳米铜颗粒微观形貌差异不明显,均呈现出近似圆球状的形貌。占空比为80%的条件下,得到了平均尺寸为59 nm的圆球状纳米级微细瘤点。此时铜箔表面粗糙度Rz为0.817μm,剥离强度为0.95 N/mm。此外,复合添加剂使纳米铜颗粒平均粒径从274 nm降低至77.4 nm。电化学测试发现,加入复合添加剂后极化曲线由-0.49 V正移至-0.39 V,这说明复合添加剂的加入能够显著提升镀液的去极化能力。结论当脉冲占空比为80%时,颗粒尺寸最小,铜箔同时具有极低轮廓与高剥离强度的性能。复合添加剂体系能够有效细化纳米铜颗粒,稳定其形貌。对高频高速传输中降低信号传输损耗具有重要意义。 展开更多
关键词 粗化处理 纳米铜颗粒 超低轮廓 剥离强度 添加剂
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不同厂家高频高速铜箔指标对抗剥离强度的影响 被引量:1
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作者 于洁 白忠波 +3 位作者 孟建龙 刘二勇 张菁丽 蔡辉 《电镀与精饰》 CAS 北大核心 2024年第6期1-7,共7页
随着5G信息技术的不断发展,对5G用高频高速电解铜箔提出了更高的要求和更新的规范。目前我国生产的硬板用电解铜箔有反转铜箔(RTF)和超低轮廓铜箔(HVLP)两种,本文主要分别对国内外6个不同厂家同一批次的12μm反转铜箔(12RTF)与2个不同... 随着5G信息技术的不断发展,对5G用高频高速电解铜箔提出了更高的要求和更新的规范。目前我国生产的硬板用电解铜箔有反转铜箔(RTF)和超低轮廓铜箔(HVLP)两种,本文主要分别对国内外6个不同厂家同一批次的12μm反转铜箔(12RTF)与2个不同厂家同一批次的12μm超轮廓铜箔(12HVLP)随机进行检验,对比了经过粗化的处理面与非处理面的显微形貌、单位面积的铜箔质量、抗拉强度、延伸率、轮廓度、抗剥离强度以及抗氧化等测试数据,并检测了样品的指标达标情况。结果表明:RTF的剥离强度与粗化层形貌有着直接的联系,同时HVLP的剥离强度与轮廓度的增大密切相关,研究结果为生产中改善高频高速铜箔抗剥离性能提供一定的指导依据。 展开更多
关键词 高频高速电解铜箔 反转铜箔 超低轮廓铜箔 抗剥离强度
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铜冠铜箔公司实现5G通信关键材料技术新突破
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《中国有色冶金》 CAS 北大核心 2024年第2期41-41,共1页
日前,安徽铜冠铜箔集团股份有限公司(以下简称铜冠铜箔公司)申请的“一种电解高阶通讯用极低轮廓电子铜箔的制作方法及应用”发明专利获得国家知识产权局授权。该创新成果标志着我国5G通信关键材料技术取得重大突破。随着全球5G通信技... 日前,安徽铜冠铜箔集团股份有限公司(以下简称铜冠铜箔公司)申请的“一种电解高阶通讯用极低轮廓电子铜箔的制作方法及应用”发明专利获得国家知识产权局授权。该创新成果标志着我国5G通信关键材料技术取得重大突破。随着全球5G通信技术的快速发展,高频高速电子铜箔的需求日益增长。然而,目前国际上高频超低轮廓铜箔的生产技术主要被日本企业垄断,我国该领域的发展尚处于起步阶段,主要依赖进口,这无疑成为我国在5G基础材料产业中的“卡脖子”难题。 展开更多
关键词 国家知识产权局 高频高速 超低轮廓铜箔 轮廓 关键材料 电子铜箔 方法及应用 卡脖子
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挠性板用电解铜箔的黑色表面处理及其性能研究 被引量:5
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作者 孙云飞 王其伶 +4 位作者 徐策 薛伟 宋佶昌 谢锋 杨祥魁 《贵州师范大学学报(自然科学版)》 CAS 2017年第3期107-110,共4页
对挠性印刷电路板(FPC)用超低轮廓(VLP)铜箔进行黑色表面处理,通过电镀钴-镍合金,得到了均匀的黑色外观,该处理过程不使用对人体及环境有严重危害的砷化合物。对铜箔进行性能测试发现,该黑色表面处理的电解铜箔具有良好的可蚀性,且蚀刻... 对挠性印刷电路板(FPC)用超低轮廓(VLP)铜箔进行黑色表面处理,通过电镀钴-镍合金,得到了均匀的黑色外观,该处理过程不使用对人体及环境有严重危害的砷化合物。对铜箔进行性能测试发现,该黑色表面处理的电解铜箔具有良好的可蚀性,且蚀刻线条经盐酸浸泡后基本无侧蚀。铜箔的抗氧化性能优异,在耐潮湿及高温试验中均无氧化变色现象,光面微蚀也无条纹、斑点等异常。此外,铜箔的抗拉强度、延伸率、抗剥离强度及耐弯曲等性能也表现优异,能很好地满足挠性印刷电路板的生产要求。 展开更多
关键词 挠性印刷电路板 超低轮廓铜箔 黑色表面处理 钴镍合金
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