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沟道宽度对65nm金属氧化物半导体器件负偏压温度不稳定性的影响研究 被引量:2
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作者 崔江维 郑齐文 +6 位作者 余德昭 周航 苏丹丹 马腾 魏莹 余学峰 郭旗 《电子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2018年第5期1128-1132,共5页
随着MOS器件尺寸缩小,可靠性效应成为限制器件寿命的突出问题.PMOS晶体管的负偏压温度不稳定性(NBTI)是其中关键问题之一.NBTI效应与器件几何机构密切相关.本文对不同宽长比的65nm工艺PMOSFET晶体管开展了NBTI试验研究.获得了NBTI效应... 随着MOS器件尺寸缩小,可靠性效应成为限制器件寿命的突出问题.PMOS晶体管的负偏压温度不稳定性(NBTI)是其中关键问题之一.NBTI效应与器件几何机构密切相关.本文对不同宽长比的65nm工艺PMOSFET晶体管开展了NBTI试验研究.获得了NBTI效应引起的参数退化与器件结构的依赖关系,试验结果表明65nm PMOSFET的NBTI损伤随沟道宽度减小而增大.通过缺陷电荷分析和仿真的方法,从NBTI缺陷产生来源和位置的角度,揭示了产生该结果的原因.指出浅槽隔离(STI)区域的电场和缺陷电荷是导致该现象的主要原因.研究结果为器件可靠性设计提供了参考. 展开更多
关键词 65nm 偏压温度不稳定性 沟道宽度
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环境湿度对非晶铟镓锌氧薄膜晶体管负偏压光照稳定性的影响 被引量:1
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作者 冯国锋 章雯 董承远 《液晶与显示》 CAS CSCD 北大核心 2021年第5期649-655,共7页
为了探究环境湿度对非晶铟镓锌氧薄膜晶体管(a-IGZO TFT)的负偏压光照(NBIS)稳定性的影响,本文使用非密闭腔室进行不同波长光照射下以及不同相对湿度下的TFT负偏压测试。介绍了a-IGZO TFT的基本结构以及实验所用I-V测试系统。测试了不... 为了探究环境湿度对非晶铟镓锌氧薄膜晶体管(a-IGZO TFT)的负偏压光照(NBIS)稳定性的影响,本文使用非密闭腔室进行不同波长光照射下以及不同相对湿度下的TFT负偏压测试。介绍了a-IGZO TFT的基本结构以及实验所用I-V测试系统。测试了不同波长光照条件下a-IGZO TFT的转移特性曲线以及相同波长光照射下不同相对湿度的转移特性曲线。实验结果表明a-IGZO TFT的转移特性曲线随着电压偏置时间的增加而发生负偏;随着光照波长的减小,器件阈值电压负漂越明显。随着相对湿度增加,a-IGZO TFT的NBIS不稳定性逐渐降低,但其电学特性发生了严重的劣化。在相对湿度为50%,光照波长为400 nm时,a-IGZO TFT的NBIS电学特性最好,其在负偏压时间为1500 s时的阈值电压偏移为15 V。 展开更多
关键词 非晶铟镓锌 薄膜晶体管 偏压光照稳定性 湿度 氧空位
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基于40nm CMOS工艺电路的NBTI退化表征方法 被引量:3
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作者 卿健 王燕玲 +3 位作者 李小进 石艳玲 陈寿面 胡少坚 《半导体技术》 CAS 北大核心 2019年第4期302-306,共5页
负偏压温度不稳定性(NBTI)退化是制约纳米级集成电路性能及寿命的主导因素之一,基于40 nm CMOS工艺对NBTI模型、模型提参及可靠性仿真展开研究。首先对不同应力条件下PMOS晶体管NBTI退化特性进行测试、建模及模型参数提取,然后建立了基... 负偏压温度不稳定性(NBTI)退化是制约纳米级集成电路性能及寿命的主导因素之一,基于40 nm CMOS工艺对NBTI模型、模型提参及可靠性仿真展开研究。首先对不同应力条件下PMOS晶体管NBTI退化特性进行测试、建模及模型参数提取,然后建立了基于NBTI效应的VerilogA等效受控电压源,并嵌入Spectre^(TM)仿真库中,并将此受控电压源引入反相器及环形振荡器模块电路中进行可靠性仿真分析,可有效反映NBTI退化对电路性能的影响。提出了一套完整可行的电路NBTI可靠性预测方法,包括NBTI模型、模型参数提取、VerilogA可靠性模型描述以及电路级可靠性仿真分析,可为纳米级高性能、高可靠性集成电路设计提供有效参考。 展开更多
关键词 偏压温度不稳定性(nbti) 模型提参 可靠性仿真 VerilogA 反应-扩散(RD)模型
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NBTI效应导致SET脉冲在产生与传播过程中的展宽 被引量:4
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作者 陈建军 陈书明 +3 位作者 梁斌 刘征 刘必慰 秦军瑞 《电子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2011年第5期996-1001,共6页
本文研究了负偏置温度不稳定性(NBTI)对单粒子瞬态(SET)脉冲产生与传播过程的影响.研究结果表明:NBTI能够导致SET脉冲在产生与传播的过程中随时间而不断展宽.本文还基于工艺计算机辅助设计模拟软件(TCAD)进行器件模拟,提出了一种在130n... 本文研究了负偏置温度不稳定性(NBTI)对单粒子瞬态(SET)脉冲产生与传播过程的影响.研究结果表明:NBTI能够导致SET脉冲在产生与传播的过程中随时间而不断展宽.本文还基于工艺计算机辅助设计模拟软件(TCAD)进行器件模拟,提出了一种在130nm体硅工艺下,计算SET脉冲宽度的解析模型,并结合NBTI阈值电压退化的解析模型,建立了预测SET脉冲宽度在产生的过程中随PMOS器件的NBTI退化而不断展宽的解析模型,TCAD器件模拟的结果与解析模型的预测一致;本文还进一步建立了预测SET脉冲宽度在传播的过程中随PMOS器件的NBTI退化而不断展宽的解析模型,SPICE电路模拟的结果与解析模型所预测的结论一致. 展开更多
关键词 偏置温度不稳定性(nbti) 单粒子瞬态(SET)脉冲 脉冲展宽 解析模型
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NBTI和HCI混合效应对PMOSFET特性退化的影响 被引量:3
5
作者 韩晓亮 郝跃 《西安电子科技大学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2003年第4期429-432,共4页
随着器件尺寸向超深亚微米的不断发展,负偏置温度不稳定性和热载流子注入对器件可靠性的影响越来越严重.研究了负偏置温度不稳定性和热载流子注入共同作用下的PMOSFET的退化问题.首先研究了高温沟道热载流子应力模式下负偏置温度不稳定... 随着器件尺寸向超深亚微米的不断发展,负偏置温度不稳定性和热载流子注入对器件可靠性的影响越来越严重.研究了负偏置温度不稳定性和热载流子注入共同作用下的PMOSFET的退化问题.首先研究了高温沟道热载流子应力模式下负偏置温度不稳定性与热载流子注入两种效应对器件阈值电压和跨导漂移的影响,这两种效应的共同作用表现为一种负偏置温度不稳定性效应增强的热载流子注入效应;然后给出了这种混合效应的解释.最后提出了一种分解负偏置温度不稳定性和热载流子注入这两种效应的方法. 展开更多
关键词 偏置温度不稳定性 热载流子注入 PMOSFET 退化 nbti HCI 可靠性
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NBTI界面电荷反馈引起器件寿命变化的数值分析 被引量:1
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作者 曹建民 贺威 +1 位作者 黄思文 张旭琳 《深圳大学学报(理工版)》 EI CAS 北大核心 2013年第2期144-149,共6页
提出一种用二维器件数值模拟和负偏压温度不稳定性(negative bias temperature instability,NBTI)模型联合计算的方法,分析NBTI效应产生的界面电荷对pMOS器件栅氧化层电场和沟道空穴浓度的反馈作用.通过大量计算和比对分析现有实验得出:... 提出一种用二维器件数值模拟和负偏压温度不稳定性(negative bias temperature instability,NBTI)模型联合计算的方法,分析NBTI效应产生的界面电荷对pMOS器件栅氧化层电场和沟道空穴浓度的反馈作用.通过大量计算和比对分析现有实验得出:当NBTI效应产生较多的界面电荷时,由于界面电荷反馈,pMOS器件的NBTI退化将有一定程度的减小.这种退化减小是一种新的退化饱和机制,对不同类型器件的寿命具有不同的影响.在低NBTI器件中,界面反馈对器件寿命曲线的变化影响不大,器件寿命曲线趋向满足指数变化规律.在高NBTI器件中,界面反馈使得寿命曲线变化基本满足幂指数变化规律. 展开更多
关键词 半导体技术 MOS器件 偏压温度不稳定性 计算机辅助设计 界面反馈 半导体器件寿命
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NBTI效应的退化表征 被引量:1
7
作者 黄勇 恩云飞 章晓文 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2007年第7期562-564,597,共4页
对超深亚微米PMOSFET器件NBTI效应的失效机理和退化表征进行了讨论。反应-扩散模型是最为广泛接受的NBTI退化机理模型,它有效地解释了阈值电压漂移随时间逐渐饱和以及应力去除后NBTI效应部分恢复的退火现象。用阈值电压漂移量表征了NBT... 对超深亚微米PMOSFET器件NBTI效应的失效机理和退化表征进行了讨论。反应-扩散模型是最为广泛接受的NBTI退化机理模型,它有效地解释了阈值电压漂移随时间逐渐饱和以及应力去除后NBTI效应部分恢复的退火现象。用阈值电压漂移量表征了NBTI效应的退化,深入讨论了影响NBTI效应的主要因素:应力作用时间、栅氧电场和温度应力,总结了阈值电压漂移与这些因素的关系,给出了一个经验-逻辑推理公式,对公式中的参数提取后可以得到NBTI寿命值,从而实现NBTI效应的可靠性评价。 展开更多
关键词 偏压温度不稳定性 阈值电压 应力作用时间 栅氧电场 温度应力
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基于输入向量控制和传输门插入的电路NBTI老化缓解
8
作者 胡林聪 易茂祥 +3 位作者 丁力 朱炯 刘小红 梁华国 《合肥工业大学学报(自然科学版)》 CAS 北大核心 2018年第1期55-59,75,共6页
针对现有方案通过输入向量控制(input vector control,IVC)结合门替换(gate replacement,GR)技术缓解负偏置温度不稳定性(negative bias temperature instability,NBTI)引起的电路老化,存在GR应用可能破坏IVC抗老化效果的问题,文章提出... 针对现有方案通过输入向量控制(input vector control,IVC)结合门替换(gate replacement,GR)技术缓解负偏置温度不稳定性(negative bias temperature instability,NBTI)引起的电路老化,存在GR应用可能破坏IVC抗老化效果的问题,文章提出了一种基于IVC和传输门(transmission gate,TG)插入的抗NBTI老化方案。将目标电路切分为多个逻辑锥子电路,然后对各子电路进行动态回溯得到其最优输入控制向量,在恢复各子电路的连接时,通过插入TG消除连线位置出现的逻辑冲突,最后得到由子电路合并后的目标电路的最优输入控制向量。采用相同条件的实验结果表明,与现有方案相比,本文方案提高了电路平均时延退化改善率超过1倍,且面积开销和电路固有时延也明显降低,更好地缓解了电路老化效应。 展开更多
关键词 偏置温度不稳定性(nbti) 老化 输入向量控制(IVC) 传输门(TG)插入 回溯
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考虑NBTI的动态休眠管尺寸电源门控设计
9
作者 袁野 易茂祥 +3 位作者 张林 甘应贤 黄正峰 徐辉 《合肥工业大学学报(自然科学版)》 CAS 北大核心 2017年第3期351-356,共6页
当前纳米互补金属氧化物半导体(complementary metal oxide semiconductor,CMOS)集成电路设计中,利用电源门控(power gating,PG)技术来降低静态功耗已成为一种趋势。随着集成电路工艺尺寸的不断缩小,负偏置温度不稳定性(negative bias t... 当前纳米互补金属氧化物半导体(complementary metal oxide semiconductor,CMOS)集成电路设计中,利用电源门控(power gating,PG)技术来降低静态功耗已成为一种趋势。随着集成电路工艺尺寸的不断缩小,负偏置温度不稳定性(negative bias temperature instability,NBTI)带来的电路老化问题越来越严重。当Header型PG电路处于正常工作模式时,休眠管(sleep transistor,ST)会受到NBTI老化效应的影响,导致PG电路的性能损失加重。文章通过对PG电路的NBTI老化特性分析,提出了考虑NBTI的PG电路性能损失模型;利用PG电路的NBTI老化特性将ST进行分组,并通过间断接通ST,等效于动态调节ST的尺寸或导通电阻,来减小由ST老化引起的PG电路性能损失。结果表明,动态ST尺寸方法与传统ST尺寸方法相比,可以使PG电路的使用寿命提高30%左右,并且提出的模型与HSPICE仿真结果所得到的趋势相吻合。 展开更多
关键词 电源门控(PG) 偏置温度不稳定性(nbti) 性能损失 休眠管(ST) 动态尺寸
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基于电荷泵技术的三维器件的界面电荷特性研究 被引量:2
10
作者 田阳雨 罗军 +1 位作者 金鹰 吴元芳 《半导体技术》 CAS 北大核心 2019年第7期542-547,共6页
利用传统电荷泵技术对三维立体器件界面缺陷特性进行了研究。通过改变测试脉冲上升或下降时间,分析了三维器件界面缺陷能级分布,得出缺陷能级呈现类似'U'型分布。通过在源、漏区施加不同电压,对缺陷沿沟道水平分布进行研究,得... 利用传统电荷泵技术对三维立体器件界面缺陷特性进行了研究。通过改变测试脉冲上升或下降时间,分析了三维器件界面缺陷能级分布,得出缺陷能级呈现类似'U'型分布。通过在源、漏区施加不同电压,对缺陷沿沟道水平分布进行研究,得到界面缺陷在靠近源、漏区的量最大而在远离源、漏区的位置无规则分布。通过改变脉冲保持时间,对缺陷沿高介电常数叠栅垂直分布进行研究,可以明显区分开缺陷在中间介质层和高介电常数层的缺陷量。另外,利用电荷泵技术验证了三维器件负偏压温度不稳定性(NBTI)与界面缺陷的关系。 展开更多
关键词 电荷泵技术 缺陷能级分布 缺陷空间分布 三维器件 偏压温度不稳定性(nbti)
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搭桥晶粒多晶硅薄膜晶体管直流电应力下的退化行为与退化机制研究 被引量:1
11
作者 张猛 夏之荷 +3 位作者 周玮 陈荣盛 王文 郭海成 《液晶与显示》 CAS CSCD 北大核心 2015年第2期187-193,共7页
研究了搭桥晶粒(BG)多晶硅薄膜晶体管(TFT)在直流电应力下的退化行为和退化机制。与普通多晶硅TFT相比,BG多晶硅TFT展现出更好的直流应力可靠性。主要体现在BG多晶硅TFT拥有更好的直流负偏压温度不稳定性(NBTI)可靠性,更好的直流自加热(... 研究了搭桥晶粒(BG)多晶硅薄膜晶体管(TFT)在直流电应力下的退化行为和退化机制。与普通多晶硅TFT相比,BG多晶硅TFT展现出更好的直流应力可靠性。主要体现在BG多晶硅TFT拥有更好的直流负偏压温度不稳定性(NBTI)可靠性,更好的直流自加热(SH)可靠性,更好的直流热载流子(HC)可靠性。有源沟道区的BG结构是上述直流应力可靠性提高的主要原因。更好的NBTI的可靠性主要源于沟道内的硼氢键的形成;更好的SH可靠性主要源于在沟道长度方向上更快的焦耳热扩散率;更好的HC可靠性主要源于漏端横向电场(Ex)的减弱。所有的测试结果都表明,这种高性能高可靠性的BG多晶硅TFT在片上系统中具有很大的应用前景。 展开更多
关键词 搭桥晶粒 多晶硅 薄膜晶体管 偏压温度不稳定性 自加热 热载流子
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栅介质氧化层缺失缺陷的形成原因及解决方案 被引量:2
12
作者 张红伟 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2015年第3期205-210,共6页
氮氧化技术是45 nm及以下技术节点栅介质制备的关键工艺,严格控制由氮氧化工艺所诱发的界面缺陷是提高栅介质质量的重点。研究了形成栅介质氧化层缺失缺陷的原因,并提出了解决方案。结果表明,原位水蒸气生成(ISSG)热氧化形成栅介质氧化... 氮氧化技术是45 nm及以下技术节点栅介质制备的关键工艺,严格控制由氮氧化工艺所诱发的界面缺陷是提高栅介质质量的重点。研究了形成栅介质氧化层缺失缺陷的原因,并提出了解决方案。结果表明,原位水蒸气生成(ISSG)热氧化形成栅介质氧化层后的实时高温纯惰性氮化热处理工艺是形成栅介质氧化层缺失缺陷的主要原因;在实时高温纯惰性氮化热处理工艺中引入适量的O2,可以消除栅介质氧化层的缺失缺陷。数据表明,引入适量O2后,栅介质氧化层的界面陷阱密度(Dit)和界面总电荷密度(ΔQtot)分别减少了12.5%和26.1%;p MOS器件负偏压不稳定性(NBTI)测试中0.1%样品失效时间(t0.1%)和50%样品失效时间(t50%)分别提高了18%和39%;32 MB静态随机存储器(SRAM)在正常工作电压和最小工作电压分别提高了9%和13%左右。 展开更多
关键词 原位水蒸气生成(ISSG) 栅介质氧化层缺失 界面态 偏压不稳定性(nbti) 静态随机存储器(SRAM)成品率
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ISSG及其氮化工艺对栅氧化层性能的改善 被引量:1
13
作者 张红伟 高剑琴 +1 位作者 曹永峰 彭树根 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2014年第2期124-127,141,共5页
栅氧化层的击穿和漏电是阻碍半导体集成电路发展的重要因素,提高栅氧化层的均匀性可极大地改善栅氧化层的性能。通过引入N2等惰性气体,在高温下对原位水汽氧化法形成的栅氧化层进行实时退火处理。实验结果表明:与没有经过高温N2实时退... 栅氧化层的击穿和漏电是阻碍半导体集成电路发展的重要因素,提高栅氧化层的均匀性可极大地改善栅氧化层的性能。通过引入N2等惰性气体,在高温下对原位水汽氧化法形成的栅氧化层进行实时退火处理。实验结果表明:与没有经过高温N2实时退火处理的栅氧化层相比,经过高温N2实时退火处理的栅氧化层表面均匀度可提高40%左右,栅氧界面态总电荷可减少一个数量级。PMOS器件负偏压不稳定性(NBTI)测试中0.1%样品失效时间(t0.1%)和50%样品失效时间(t50%)分别提高28.6%和40.7%。 展开更多
关键词 原位水汽生成(ISSG) 氮化工艺 栅氧化层 界面态 偏压不稳定性(nbti)
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面向微处理器核的片上老化检测模块设计 被引量:1
14
作者 刘帅 虞致国 +1 位作者 洪广伟 顾晓峰 《传感器与微系统》 CSCD 北大核心 2021年第2期89-91,94,共4页
为检测负偏压温度不稳定性(NBTI)效应导致的微处理器中组合逻辑路径延迟的增大,设计了一种可感知微处理器核NBTI效应的混合结构检测模块。检测模块包括老化延时探测模块及测量模块,能够准确测量NBTI效应造成的电路延时增量;相比于传统... 为检测负偏压温度不稳定性(NBTI)效应导致的微处理器中组合逻辑路径延迟的增大,设计了一种可感知微处理器核NBTI效应的混合结构检测模块。检测模块包括老化延时探测模块及测量模块,能够准确测量NBTI效应造成的电路延时增量;相比于传统单一的延迟线结构,其面积开销降低40%。所设计的结构在ISCAS与OR1200核上实验,延时测量精度达到94%以上,可为微处理器的可靠性设计提供细粒度的防护。 展开更多
关键词 微处理器 偏压温度不稳定性 片上老化测量 细粒度
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光波导材料与制备
15
《中国光学》 EI CAS 2002年第4期48-49,共2页
TN252 2002042742由 W<sub>0.95</sub>Ni<sub>0.05</sub>金属薄膜形成光弹波导结构的热稳定性=Thermal stability of photoelastic waveguidestructures induced by W<sub>0.95</sub>Ni<sub>... TN252 2002042742由 W<sub>0.95</sub>Ni<sub>0.05</sub>金属薄膜形成光弹波导结构的热稳定性=Thermal stability of photoelastic waveguidestructures induced by W<sub>0.95</sub>Ni<sub>0.05</sub>metal thin films[刊,中]/邢启江,徐万劲(北京大学物理系.北京(100871))∥半导体光电.—2001,22(1).—21-25,37InGaAsP/InP 展开更多
关键词 光弹波导结构 稳定性 双异质结构 半导体 制备 物理系 质子交换 直流偏压 金属薄膜 国家重点实验室
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