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大尺寸光学元件在位动态干涉拼接测量系统
被引量：
3
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作者
于瀛洁
齐特
武欣
《光学精密工程》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2017年第7期1764-1770,共7页
为了满足车间条件下大口径光学元件的高精度在位、在线检测的迫切需求,本文构建了一个适于一般环境下应用的动态干涉拼接测量实验系统。该系统由动态干涉仪、二维移动平台、控制系统及拼接软件等部分构成。应用该系统对200mm×300mm...
为了满足车间条件下大口径光学元件的高精度在位、在线检测的迫切需求,本文构建了一个适于一般环境下应用的动态干涉拼接测量实验系统。该系统由动态干涉仪、二维移动平台、控制系统及拼接软件等部分构成。应用该系统对200mm×300mm×20mm的光学元件在一般应用环境下进行了拼接测量实验,采用误差均化拼接算法进行拼接,并对拼接后的结果进行分析处理,比较拼接测量与全口径测量结果,PV值的相对误差为3.1%,RMS值的相对误差为1.6%,Power值的相对误差为2.1%。该系统为在车间环境下建立大口径光学元件在位检测建立了基础。
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关键词
光学检测
子孔径
拼接
动态干涉仪
大口径光学元件
误差均化拼接
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职称材料
题名
大尺寸光学元件在位动态干涉拼接测量系统
被引量：
3
1
作者
于瀛洁
齐特
武欣
机构
上海大学机电工程及自动化学院
出处
《光学精密工程》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2017年第7期1764-1770,共7页
基金
国家重大科技专项(No.2013ZX04006011-217)
国家自然科学基金资助项目(No.51175318)
文摘
为了满足车间条件下大口径光学元件的高精度在位、在线检测的迫切需求,本文构建了一个适于一般环境下应用的动态干涉拼接测量实验系统。该系统由动态干涉仪、二维移动平台、控制系统及拼接软件等部分构成。应用该系统对200mm×300mm×20mm的光学元件在一般应用环境下进行了拼接测量实验,采用误差均化拼接算法进行拼接,并对拼接后的结果进行分析处理,比较拼接测量与全口径测量结果,PV值的相对误差为3.1%,RMS值的相对误差为1.6%,Power值的相对误差为2.1%。该系统为在车间环境下建立大口径光学元件在位检测建立了基础。
关键词
光学检测
子孔径
拼接
动态干涉仪
大口径光学元件
误差均化拼接
Keywords
optical testing sub-aperture stitching dynamic interferometer large optical elements error average stitching
分类号
TH74 [机械工程—光学工程]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
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1
大尺寸光学元件在位动态干涉拼接测量系统
于瀛洁
齐特
武欣
《光学精密工程》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2017
3
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职称材料
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