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规则织构化硅片表面的制备及其润湿行为
被引量：
10
1
作者
赵文杰
曾志翔
+2 位作者
王立平
陈建敏
薛群基
《中国表面工程》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2011年第3期4-10,F0003,共8页
采用感应耦合等离子体刻蚀技术实现了不同形状和几何参数的规则织构化硅片表面的构筑与制备。主要以三种典型的规则织构包括圆柱状、圆坑状和沟槽状表面为研究对象,系统考察了织构形状和几何参数对表面润湿行为的影响规律。研究结果表明...
采用感应耦合等离子体刻蚀技术实现了不同形状和几何参数的规则织构化硅片表面的构筑与制备。主要以三种典型的规则织构包括圆柱状、圆坑状和沟槽状表面为研究对象,系统考察了织构形状和几何参数对表面润湿行为的影响规律。研究结果表明:随着织构高度、深度和表面覆盖率的增加,规则织构化硅片表面疏水性能增强,规则织构化表面疏水性能随着表面粗糙度的增加而增强。不同的几何形貌对硅片表面接触角的影响强度是不同的,相对于柱状与沟槽状织构,坑状织构在较小的表面粗糙度时可得到较大的接触角。当表面的接触角均为101°时,坑状、柱状、沟槽状织构的表面粗糙度分别为16.2 nm,29.2 nm和70.2 nm。
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关键词
规则织构化
形状
几何参数
润湿性
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职称材料
题名
规则织构化硅片表面的制备及其润湿行为
被引量：
10
1
作者
赵文杰
曾志翔
王立平
陈建敏
薛群基
机构
中国科学院宁波材料技术与工程研究所表面工程事业部
中国科学院兰州化学物理研究所固体润滑国家重点实验室
出处
《中国表面工程》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2011年第3期4-10,F0003,共8页
基金
浙江省宁波市引进院士团队项目(2009A31004)
中国科学院兰州化物所固体润滑国家重点实验室开放课题项目(No.1004)
浙江省自然科学基金(Y4110283)
文摘
采用感应耦合等离子体刻蚀技术实现了不同形状和几何参数的规则织构化硅片表面的构筑与制备。主要以三种典型的规则织构包括圆柱状、圆坑状和沟槽状表面为研究对象,系统考察了织构形状和几何参数对表面润湿行为的影响规律。研究结果表明:随着织构高度、深度和表面覆盖率的增加,规则织构化硅片表面疏水性能增强,规则织构化表面疏水性能随着表面粗糙度的增加而增强。不同的几何形貌对硅片表面接触角的影响强度是不同的,相对于柱状与沟槽状织构,坑状织构在较小的表面粗糙度时可得到较大的接触角。当表面的接触角均为101°时,坑状、柱状、沟槽状织构的表面粗糙度分别为16.2 nm,29.2 nm和70.2 nm。
关键词
规则织构化
形状
几何参数
润湿性
Keywords
regular texture
shape
geometrical parameters
wetting behavior
分类号
O485 [理学—固体物理]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
规则织构化硅片表面的制备及其润湿行为
赵文杰
曾志翔
王立平
陈建敏
薛群基
《中国表面工程》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2011
10
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