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化学气相沉积法碳纤维表面连续涂覆B_4C的研究 被引量:9
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作者 李德湛 李银奎 +1 位作者 张红萍 龙永福 《材料工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2000年第8期18-20,38,共4页
以 H2 ,CH4,BCl3为原料气 ,用化学气相沉积 (CVD)法在碳纤维表面连续涂覆 B4C。通过对 CVD法各种影响因素 (沉积温度、反应物流量比、走丝速度 )的讨论 ,得到了最佳涂覆条件 :BCl3/ CH4=3/ 5 ,H2 过量 ,沉积温度110 0℃ ,走丝速度 1m/ ... 以 H2 ,CH4,BCl3为原料气 ,用化学气相沉积 (CVD)法在碳纤维表面连续涂覆 B4C。通过对 CVD法各种影响因素 (沉积温度、反应物流量比、走丝速度 )的讨论 ,得到了最佳涂覆条件 :BCl3/ CH4=3/ 5 ,H2 过量 ,沉积温度110 0℃ ,走丝速度 1m/ min。对涂层物质进行定性分析后通过对涂层 Cf 和未涂层 Cf进行电镜观察 ,并做了差热分析和单丝强度测试 ,结果表明涂层效果较好 ,且抗热氧化性和单丝强度都有明显提高。 展开更多
关键词 表面连续涂覆 B4C 化学气相沉积 碳纤维 碳化硼 复合材料 表面处理
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