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退火处理对CVD生长石墨烯薄膜功函数的影响
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作者 姜燕 程振华 宋娟 《江苏大学学报(自然科学版)》 CAS 北大核心 2024年第3期362-366,共5页
通过退火处理去除了石墨烯薄膜上的吸附气体和杂质,改变了石墨烯表面吸附情况.利用原子力显微镜和开尔文扫描探针显微镜,对退火处理前后的石墨烯薄膜表面进行了原位扫描,分别得到其退火前、后的表面形貌和表面接触电势差图.根据表面接... 通过退火处理去除了石墨烯薄膜上的吸附气体和杂质,改变了石墨烯表面吸附情况.利用原子力显微镜和开尔文扫描探针显微镜,对退火处理前后的石墨烯薄膜表面进行了原位扫描,分别得到其退火前、后的表面形貌和表面接触电势差图.根据表面接触电势差测量结果进一步计算其功函数,并对退火处理导致的功函数变化机理进行分析.结果表明:退火处理使得石墨烯薄膜与SiO_(2)衬底间的水分子层逸出,从而导致石墨烯薄膜与SiO_(2)衬底间距减小,降低了石墨烯薄膜的P型掺杂水平,使得费米能级上升、石墨烯薄膜功函数减小. 展开更多
关键词 石墨烯 功函数 原子力显微镜 退火 表面接触电势差 化学气相沉积法
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铜铅合金的扫描开尔文探针显微镜研究 被引量:7
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作者 周强 谢中 +2 位作者 王祝盈 陈小林 王岩国 《电子显微学报》 CAS CSCD 2006年第4期348-352,共5页
本文用扫描开尔文探针显微镜(SKPM)在具有相分离结构的磁控溅射铜铅合金样品上进行测量分析,得到了合金薄膜的表面形貌和与微观组份分布相关的表面电势差信息。运用SKPM技术分析了铜晶粒对合金中粒子生长的影响。该分析方法无需复杂的... 本文用扫描开尔文探针显微镜(SKPM)在具有相分离结构的磁控溅射铜铅合金样品上进行测量分析,得到了合金薄膜的表面形貌和与微观组份分布相关的表面电势差信息。运用SKPM技术分析了铜晶粒对合金中粒子生长的影响。该分析方法无需复杂的样品制备过程,不会破坏样品,对于宏观上具有确定组分的微观相分离样品,可以由表面电势差像得到不同相的微区分布。比其它常规的分析手段有更高的分辨率、能获得更多的材料微区结构、组份与性能间关系的信息。 展开更多
关键词 磁控溅射 开尔文探针显微镜 表面电势差 铜铅合金薄膜
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化学镀层的扫描开尔文力显微术(SKFM)研究 被引量:2
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作者 周强 谢中 +5 位作者 黄桂芳 周艳明 安锦 王祝盈 陈小林 许建斌 《电子显微学报》 CAS CSCD 2005年第3期192-195,共4页
首次在化学镀样品上成功地实现了扫描开尔文力显微镜的测量,得到了化学镀层表面形貌以及与微观组分分布相关的表面电势差信息。该分析方法没有复杂的样品制备过程,不会破坏样品的原始状态,对于宏观上具有确定组分的微观相分离样品,可以... 首次在化学镀样品上成功地实现了扫描开尔文力显微镜的测量,得到了化学镀层表面形貌以及与微观组分分布相关的表面电势差信息。该分析方法没有复杂的样品制备过程,不会破坏样品的原始状态,对于宏观上具有确定组分的微观相分离样品,可以由表面电势差得到不同相的微区分布。比其它的常规分析手段有更高的空间分辨率,能获得更多的材料微区结构、组分与性能间关系的信息。 展开更多
关键词 化学镀 相分离 开尔文力显微镜 表面电势差
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