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改性聚丙烯表面成膜性
1
作者
方勇
李宾
戴干策
《功能高分子学报》
CAS
CSCD
北大核心
2011年第4期347-352,共6页
通过添加功能改性剂与聚丙烯(PP)共混,改善其润湿性能。结果表明:润湿改性后,改性PP单板成膜率显著提高,由19.9%提高到94.4%,而纯PP则变化不大,润湿改性PP的浸湿功为正值,液膜可稳定存在,此时单板液膜流动也较为稳定。
关键词
改性聚丙烯
表面成膜
性
填料
润湿性
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职称材料
十八胺(ODA)在铁表面的成膜研究
被引量:
2
2
作者
葛红花
廖强强
+1 位作者
周国定
吴文权
《上海理工大学学报》
CAS
2000年第3期252-254,共3页
用交流阻抗、阴极充电曲线和俄歇能谱研究了十八胺在铁表面的成膜,结果表明十八胺渗透到氧化铁层成膜,使电极表面的阻抗值增大,提高了电极的耐蚀性,经质量浓度为25mg/L的ODA处理液处理的电极具有最佳的耐蚀性.
关键词
表面成膜
耐蚀性
电厂热力设备
十八胺
铁
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职称材料
硅表面上构筑具有化学特性的图形的新方法
被引量:
5
3
作者
吴瑞阁
欧阳贱华
+3 位作者
赵新生
黄小华
黄惠忠
吴念祖
《物理化学学报》
SCIE
CAS
CSCD
北大核心
2001年第10期931-935,共5页
为了在硅基底上得到不同化学基团修饰的图形,在氢终止硅(lll)表面运用光刻技术和光化学反应结合来控制表面成膜反应的位置,并用AFM、XPS、接触角测定等验证了这种方法的可行性.
关键词
单层膜
分子构筑
光刻
图形
硅
表面
表面成膜
反应
氢终止
化学修饰
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职称材料
以100倍的沉积速度进行类金刚石碳成膜的大气压等离子化学气相沉积装置
4
《现代化工》
CAS
CSCD
北大核心
2008年第1期92-93,共2页
日本庆臆义塾大学理工学部的铃木哲也教授开发了一种大气压等离子化学气相沉积(CVD)装置,该装置可以将类金刚石碳(DLC)在大气压下成膜为薄膜状,宽50cm的薄膜在通过1对电极间的空间过程中向表面成膜。与采用真空容器的方法相比,...
日本庆臆义塾大学理工学部的铃木哲也教授开发了一种大气压等离子化学气相沉积(CVD)装置,该装置可以将类金刚石碳(DLC)在大气压下成膜为薄膜状,宽50cm的薄膜在通过1对电极间的空间过程中向表面成膜。与采用真空容器的方法相比,膜的沉积速度提高100倍,制造成本降低为原来的1/100。
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关键词
化学气相沉积装置
等离子化学气相沉积
类金刚石碳
表面成膜
沉积速度
大气压
空间过程
真空容器
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职称材料
题名
改性聚丙烯表面成膜性
1
作者
方勇
李宾
戴干策
机构
华东理工大学化学工程联合国家重点实验室
华东理工大学机械与动力工程学院
出处
《功能高分子学报》
CAS
CSCD
北大核心
2011年第4期347-352,共6页
文摘
通过添加功能改性剂与聚丙烯(PP)共混,改善其润湿性能。结果表明:润湿改性后,改性PP单板成膜率显著提高,由19.9%提高到94.4%,而纯PP则变化不大,润湿改性PP的浸湿功为正值,液膜可稳定存在,此时单板液膜流动也较为稳定。
关键词
改性聚丙烯
表面成膜
性
填料
润湿性
Keywords
modified polypropylene
surface film-forming
packing
wettability
分类号
TQ316.6 [化学工程—高聚物工业]
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职称材料
题名
十八胺(ODA)在铁表面的成膜研究
被引量:
2
2
作者
葛红花
廖强强
周国定
吴文权
机构
上海理工大学 动力工程学院
上海电力学院 环境工程系
出处
《上海理工大学学报》
CAS
2000年第3期252-254,共3页
基金
上海市高等学校青年科学基金资助!(98QN44)
文摘
用交流阻抗、阴极充电曲线和俄歇能谱研究了十八胺在铁表面的成膜,结果表明十八胺渗透到氧化铁层成膜,使电极表面的阻抗值增大,提高了电极的耐蚀性,经质量浓度为25mg/L的ODA处理液处理的电极具有最佳的耐蚀性.
关键词
表面成膜
耐蚀性
电厂热力设备
十八胺
铁
Keywords
metal surface treatment
surface filming
anti-corrosion
分类号
TM621.2 [电气工程—电力系统及自动化]
TG174.46 [金属学及工艺—金属表面处理]
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职称材料
题名
硅表面上构筑具有化学特性的图形的新方法
被引量:
5
3
作者
吴瑞阁
欧阳贱华
赵新生
黄小华
黄惠忠
吴念祖
机构
分子动态与稳态结构国家重点实验室 北京大学物理化学研究所
出处
《物理化学学报》
SCIE
CAS
CSCD
北大核心
2001年第10期931-935,共5页
基金
国家重点基础研究发展规划(G1999075305)
国家自然科学基金(29953001
29973003)资助项目
文摘
为了在硅基底上得到不同化学基团修饰的图形,在氢终止硅(lll)表面运用光刻技术和光化学反应结合来控制表面成膜反应的位置,并用AFM、XPS、接触角测定等验证了这种方法的可行性.
关键词
单层膜
分子构筑
光刻
图形
硅
表面
表面成膜
反应
氢终止
化学修饰
Keywords
monolayers
molecular architecture
photolithograph
pattern
silicon surface
分类号
O613 [理学—无机化学]
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职称材料
题名
以100倍的沉积速度进行类金刚石碳成膜的大气压等离子化学气相沉积装置
4
出处
《现代化工》
CAS
CSCD
北大核心
2008年第1期92-93,共2页
文摘
日本庆臆义塾大学理工学部的铃木哲也教授开发了一种大气压等离子化学气相沉积(CVD)装置,该装置可以将类金刚石碳(DLC)在大气压下成膜为薄膜状,宽50cm的薄膜在通过1对电极间的空间过程中向表面成膜。与采用真空容器的方法相比,膜的沉积速度提高100倍,制造成本降低为原来的1/100。
关键词
化学气相沉积装置
等离子化学气相沉积
类金刚石碳
表面成膜
沉积速度
大气压
空间过程
真空容器
分类号
TG174.45 [金属学及工艺—金属表面处理]
TP212.1 [自动化与计算机技术—检测技术与自动化装置]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
改性聚丙烯表面成膜性
方勇
李宾
戴干策
《功能高分子学报》
CAS
CSCD
北大核心
2011
0
在线阅读
下载PDF
职称材料
2
十八胺(ODA)在铁表面的成膜研究
葛红花
廖强强
周国定
吴文权
《上海理工大学学报》
CAS
2000
2
在线阅读
下载PDF
职称材料
3
硅表面上构筑具有化学特性的图形的新方法
吴瑞阁
欧阳贱华
赵新生
黄小华
黄惠忠
吴念祖
《物理化学学报》
SCIE
CAS
CSCD
北大核心
2001
5
在线阅读
下载PDF
职称材料
4
以100倍的沉积速度进行类金刚石碳成膜的大气压等离子化学气相沉积装置
《现代化工》
CAS
CSCD
北大核心
2008
0
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下载PDF
职称材料
已选择
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