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Pt/Au/p-Si溅射薄膜组织结构特征
1
作者
殷景华
蔡伟
+2 位作者
王明光
郑玉峰
赵连城
《功能材料》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2004年第z1期1068-1070,共3页
在p-Si衬底上,分别淀积5 nm Au膜和5nmPt膜,形成Pt/Au/p-Si结构,500℃退火后形成硅化物薄膜.采用X射线光电子谱和X射线衍射谱研究薄膜成分和相分布,利用原子力显微镜和高分辨电子显微镜观察薄膜表面形貌和界面结构.测试结果表明,薄膜中...
在p-Si衬底上,分别淀积5 nm Au膜和5nmPt膜,形成Pt/Au/p-Si结构,500℃退火后形成硅化物薄膜.采用X射线光电子谱和X射线衍射谱研究薄膜成分和相分布,利用原子力显微镜和高分辨电子显微镜观察薄膜表面形貌和界面结构.测试结果表明,薄膜中含有PtSi相和Au相,表面较平坦,PtSi相形成层状结构,Au原子聚集成岛状结构.
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关键词
Pt/Au/p-Si
薄膜
硅化物分布
表面和界面结构
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职称材料
题名
Pt/Au/p-Si溅射薄膜组织结构特征
1
作者
殷景华
蔡伟
王明光
郑玉峰
赵连城
机构
哈尔滨理工大学
出处
《功能材料》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2004年第z1期1068-1070,共3页
文摘
在p-Si衬底上,分别淀积5 nm Au膜和5nmPt膜,形成Pt/Au/p-Si结构,500℃退火后形成硅化物薄膜.采用X射线光电子谱和X射线衍射谱研究薄膜成分和相分布,利用原子力显微镜和高分辨电子显微镜观察薄膜表面形貌和界面结构.测试结果表明,薄膜中含有PtSi相和Au相,表面较平坦,PtSi相形成层状结构,Au原子聚集成岛状结构.
关键词
Pt/Au/p-Si
薄膜
硅化物分布
表面和界面结构
分类号
TN304 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
Pt/Au/p-Si溅射薄膜组织结构特征
殷景华
蔡伟
王明光
郑玉峰
赵连城
《功能材料》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2004
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