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Er_2O_3/Si外延薄膜表面和界面组分研究 被引量:2
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作者 朱燕艳 方泽波 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第6期561-565,共5页
利用X射线光电子能谱方法对Si基Er2O3外延薄膜的化学组分进行了分析。在X射线照射样品和氩离子轰击使样品减薄的过程中没有诱发其他的化学反应。研究了清洁的Si和有氧化层的Si衬底上外延生长的Er2O3薄膜的表面和界面化学组分情况,并对... 利用X射线光电子能谱方法对Si基Er2O3外延薄膜的化学组分进行了分析。在X射线照射样品和氩离子轰击使样品减薄的过程中没有诱发其他的化学反应。研究了清洁的Si和有氧化层的Si衬底上外延生长的Er2O3薄膜的表面和界面化学组分情况,并对上述两种不同的衬底上外延生长Er2O3薄膜的生长模式进行初步探讨。 展开更多
关键词 高κ氧化物 表面和界面化学组分 XPS
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宽带隙卤化铅钙钛矿薄膜表/界面性能优化
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作者 宋烈轩 邱建航 《表面技术》 北大核心 2025年第14期215-222,共8页
目的 提高宽带隙卤化铅钙钛矿薄膜的光电转换性能和湿稳定性。方法 在前驱体溶液中掺杂15%(物质的量分数)甲基氯化胺(MACl),在薄膜表面旋涂丁基溴化胺(BABr)、己基溴化胺(HABr)及辛基溴化胺(OABr)。结果 掺杂MACl后,薄膜的晶粒尺寸增大... 目的 提高宽带隙卤化铅钙钛矿薄膜的光电转换性能和湿稳定性。方法 在前驱体溶液中掺杂15%(物质的量分数)甲基氯化胺(MACl),在薄膜表面旋涂丁基溴化胺(BABr)、己基溴化胺(HABr)及辛基溴化胺(OABr)。结果 掺杂MACl后,薄膜的晶粒尺寸增大,薄膜晶界处PbI_(2)缺陷减少,薄膜体相的载流子传输得到改善。薄膜在埋底界面的浸润性提升,薄膜的光致发光强度降低,光生空穴在薄膜埋底界面的传输过程得到优化,薄膜的光电转换性能得以提升。长链烷基溴化物对薄膜进行表面处理后,钙钛矿薄膜及电子传输层薄膜的表面电势均有所降低,OABr处理后的钙钛矿薄膜与电子传输层薄膜之间的表面电势差最小,说明光生电子在界面传输时的能量损失最小。此外,长链烷基溴化物还可以提升钙钛矿薄膜表面的浸润性,OABr处理后的薄膜表面浸润性最好。同时,经OABr处理后,薄膜的光电转换性能和湿稳定性得以提升。结论 经过MACl体相掺杂和OABr表面处理后,宽带隙卤化铅钙钛矿薄膜的光电转换性能和湿稳定性显著提升。在基于ITO/MeO-2PACz/MACl掺杂及OABr表面处理的宽带隙卤化铅钙钛矿薄膜(1.79 eV)/PCBM/BCP/Ag结构的反型钙钛矿太阳能电池器件中,实现了1.26 V的开路电压和17.47%的能量转换效率。 展开更多
关键词 卤化铅钙钛矿薄膜 半导体薄膜 宽带隙半导体 表面和界面 光电转换
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岩盐结构SrC(111)表面和(111)界面的d^0半金属性
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作者 韩红培 冯团辉 +3 位作者 张春丽 李明 冯志波 姚凯伦 《原子与分子物理学报》 CAS 北大核心 2019年第4期661-667,共7页
利用第一性原理方法,本文研究了岩盐结构的SrC块材、(111)表面和(111)界面的电子结构和磁性.块材的SrC被证实是一个良好的d^0半金属铁磁体.计算结果显示(111)方向的C表面和Sr表面都保持了块材的半金属性.对于(111)方向四个可能的界面,... 利用第一性原理方法,本文研究了岩盐结构的SrC块材、(111)表面和(111)界面的电子结构和磁性.块材的SrC被证实是一个良好的d^0半金属铁磁体.计算结果显示(111)方向的C表面和Sr表面都保持了块材的半金属性.对于(111)方向四个可能的界面,态密度的计算显示C-Pb界面呈现半金属特性.本文对岩盐结构SrC块材、(111)表面和(111)界面半金属性的研究结果,将为高性能自旋电子器件的实际应用提供一定的理论指导. 展开更多
关键词 半金属性 表面和界面 自旋电子器件 第一性原理
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隐藏高分子界面及生物界面分子结构的和频振动光谱研究(英文) 被引量:6
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作者 陈战 《物理化学学报》 SCIE CAS CSCD 北大核心 2012年第3期504-521,共18页
界面的分子结构决定界面的性质.为了以优化界面的结构来改进材料的性质,原位实时地研究界面的分子结构是很重要的.近年来和频振动光谱已发展成为一个很有效及独特的手段来研究隐藏界面的分子结构,例如液/液界面、固/液界面及固/固界面等... 界面的分子结构决定界面的性质.为了以优化界面的结构来改进材料的性质,原位实时地研究界面的分子结构是很重要的.近年来和频振动光谱已发展成为一个很有效及独特的手段来研究隐藏界面的分子结构,例如液/液界面、固/液界面及固/固界面等.这篇综述讨论了和频振动光谱在研究高分子界面及生物界面等复杂界面的分子结构上的应用.具体说来,本文论述了高分子表面在水里的分子结构变化,高分子及模型粘合促进剂硅烷在界面相互作用的分子机理和隐藏的高分子/高分子及高分子/金属界面的结构.另外,此文还将介绍不同二级结构的多肽及几个有代表性的蛋白分子在界面的结构.界面在诸如化学、生物、物理、材料科学及工程和纳米技术等许多领域都很重要.发展一个独特的能原位研究隐藏界面的分子结构的技术会有力地促进这些领域的研究及跨学科研究的发展. 展开更多
关键词 高分子表面和界面 生物界面 多肽 蛋白质 粘合 二级结构 a-螺旋 b-折叠
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第七届全国表面工程学术会议暨第二届表面工程青年学术论坛10月在武汉召开
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《中国表面工程》 EI CAS CSCD 2008年第3期16-16,共1页
由中国机械工程学会表面工程分会主办的第七届全国表面工程学术会议暨第二届表面工程青年学术论坛定于2008年10月10~13日在武汉召开。大会主题是:中国表面工程的创新与挑战。
关键词 表面工程 表面和界面 学术论坛 武汉 湖北 会议 青年
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配体对功能自组装薄膜的光致电子转移特性的影响(英文) 被引量:2
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作者 韦天新 史环环 +3 位作者 黄春辉 于小峰 黄慧忠 吴念祖 《无机化学学报》 SCIE CAS CSCD 北大核心 2006年第6期1077-1084,共8页
A strategy for fabricating the functionalized self-assembled films is proposed. Through the comparison of three self-assembled films of 3,4,9,10-perylene tetracarboxylic acid (PTA) with different connecting ligands, i... A strategy for fabricating the functionalized self-assembled films is proposed. Through the comparison of three self-assembled films of 3,4,9,10-perylene tetracarboxylic acid (PTA) with different connecting ligands, i.e. oxalic acid (Ox), succinic acid (Su), or terephthalic acid (Tp), it was found that the optimal system was composed of oxalic acid, Ce4+ and 3,4,9,10-perylene tetracarboxylic acid,which was much better than simple covalent connecting PTA films and the connecting ligands played an important role for the properties of self-assembled (SA) films. All these films were characterized by contact angle, UV spectra, cyclic voltammetry and XPS. The photocurrent generation of the best system were 5 706, 7 345 nA·cm-2, respectively, being among the highest values of dye-sensitized indium tin oxide (ITO) systems. The effects of light intensity, bias voltage, and electron donor on photoinduced electron transfer properties were also studied. The possible mechanism of electron transfer is proposed. 展开更多
关键词 薄膜 表面和界面 光电转换 光伏
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Pt/Au/p-Si溅射薄膜组织结构特征
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作者 殷景华 蔡伟 +2 位作者 王明光 郑玉峰 赵连城 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第z1期1068-1070,共3页
在p-Si衬底上,分别淀积5 nm Au膜和5nmPt膜,形成Pt/Au/p-Si结构,500℃退火后形成硅化物薄膜.采用X射线光电子谱和X射线衍射谱研究薄膜成分和相分布,利用原子力显微镜和高分辨电子显微镜观察薄膜表面形貌和界面结构.测试结果表明,薄膜中... 在p-Si衬底上,分别淀积5 nm Au膜和5nmPt膜,形成Pt/Au/p-Si结构,500℃退火后形成硅化物薄膜.采用X射线光电子谱和X射线衍射谱研究薄膜成分和相分布,利用原子力显微镜和高分辨电子显微镜观察薄膜表面形貌和界面结构.测试结果表明,薄膜中含有PtSi相和Au相,表面较平坦,PtSi相形成层状结构,Au原子聚集成岛状结构. 展开更多
关键词 Pt/Au/p-Si 薄膜 硅化物分布 表面和界面结构
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