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化学气相沉积碳化硅的热力学分析 被引量:3
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作者 卢翠英 成来飞 +2 位作者 张立同 徐永东 赵春年 《无机材料学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2008年第6期1189-1192,共4页
根据吉布斯自由能最小原理,采用FACTSAGE计算软件,重点对MTS/H_2体系化学气相沉积碳化硅进行了均相平衡计算,评价了体系中主要化合物对沉积碳化硅的作用.结果表明,低温和高压下,SiCl_4和CH_4的含量最多,不饱和物质和自由基的含量非常少... 根据吉布斯自由能最小原理,采用FACTSAGE计算软件,重点对MTS/H_2体系化学气相沉积碳化硅进行了均相平衡计算,评价了体系中主要化合物对沉积碳化硅的作用.结果表明,低温和高压下,SiCl_4和CH_4的含量最多,不饱和物质和自由基的含量非常少,温度的升高和压力的下降可显著提高不饱和物质和自由基的浓度;高温和低压下,SiCl_2和C_2H_2可能是形成碳和硅的主要先驱体,其它稳定物质如碳氢化合物、有机硅化合物和硅烷等由于浓度太小和表面反应粘结系数低,对碳化硅的沉积可以不予考虑;体系中几乎没有含Si-C和Si-Si键的物质,说明碳化硅是经过碳和硅独立形成,二者的相对速率决定了碳硅比. 展开更多
关键词 热力学 表面反应粘结系数 浓度 化学气相沉积 碳化硅
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