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变形反射镜薄膜应力与元件变形有限元研究 被引量:5
1
作者 张耀平 许鸿 +1 位作者 凌宁 张云洞 《光电工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第8期28-31,共4页
残余应力是变形反射镜面临的一个重要问题。考虑薄膜中残余应力的起源,利用有限元软件建立了变形反射镜有限元模型。基于所建立的有限元模型,计算变形镜各部分受薄膜残余应力作用后的变形与应力分布。与试验测量结果进行对比,计算结果表... 残余应力是变形反射镜面临的一个重要问题。考虑薄膜中残余应力的起源,利用有限元软件建立了变形反射镜有限元模型。基于所建立的有限元模型,计算变形镜各部分受薄膜残余应力作用后的变形与应力分布。与试验测量结果进行对比,计算结果表明,建立的模型是合理的,薄膜产生的残余应力为张应力,氟化物薄膜产生的张应力大于ZnS薄膜产生的压应力,残余应力主要集中在变形反射镜镜面上,基本呈放射状分布,外圈驱动器受到应力较大。 展开更多
关键词 变形反射镜 薄膜应力 有限元分析 自适应光学
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MEMS薄膜应力研究 被引量:7
2
作者 田文超 贾建援 《仪器仪表学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2003年第z1期601-603,共3页
针对微电子机械悬臂梁废品率高的问题 ,从悬臂梁的加工工艺 ,分析了在不同工作状态 ,薄膜应力对悬臂梁的刚度影响 ;建立了薄膜应力的数学模型 ;通过仿真发现 ,在悬臂梁的某些加工温差段 ,悬臂梁的刚度出现奇异值 ,变形已不再满足小变形... 针对微电子机械悬臂梁废品率高的问题 ,从悬臂梁的加工工艺 ,分析了在不同工作状态 ,薄膜应力对悬臂梁的刚度影响 ;建立了薄膜应力的数学模型 ;通过仿真发现 ,在悬臂梁的某些加工温差段 ,悬臂梁的刚度出现奇异值 ,变形已不再满足小变形条件的现象 ; 展开更多
关键词 微电子机械系统 (MEMS) 薄膜应力 悬臂梁
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紫外光固化中阻蚀胶薄膜应力分析及成膜控制 被引量:2
3
作者 尹磊 丁玉成 +1 位作者 卢秉恒 刘红忠 《西安交通大学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第9期1028-1031,共4页
针对压印光刻工艺实现图章保真复型对阻蚀胶薄膜的均匀度和应力分布的要求,对匀胶过程中的时间、转速和加速度等参数进行了分析,并采用基片曲率法的Stoney公式及其近似计算公式,对不同参数环境下的薄膜应力及应力梯度分布作了计算分析.... 针对压印光刻工艺实现图章保真复型对阻蚀胶薄膜的均匀度和应力分布的要求,对匀胶过程中的时间、转速和加速度等参数进行了分析,并采用基片曲率法的Stoney公式及其近似计算公式,对不同参数环境下的薄膜应力及应力梯度分布作了计算分析.通过对比几组试验参数的应力分析结果,验证了薄膜应力的大小和应力梯度的分布主要与匀胶时间和速度有关,而与加速度的关系较小.因此,当选用匀胶转速为5 000 r/min、时间为30 s时,薄膜应力分布最优,成膜质量最佳,能够满足压印光刻工艺中300 nm级图型的保真复型需求. 展开更多
关键词 压印光刻 阻蚀胶 基片曲率法 薄膜应力 成膜控制
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全自动薄膜应力仪 被引量:4
4
作者 赵升升 程毓 +1 位作者 张小波 梁凯 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2016年第1期98-102,共5页
基于基片弯曲法原理,利用光杠杆放大曲率的方法,本工作研制了一套高精度全自动薄膜应力测试仪。在前期工作的基础上,该仪器实现了样品中心自动定位,样品表面曲率半径高精度测试,以及薄膜残余应力值自动计算等功能。标准光学玻璃圆台表... 基于基片弯曲法原理,利用光杠杆放大曲率的方法,本工作研制了一套高精度全自动薄膜应力测试仪。在前期工作的基础上,该仪器实现了样品中心自动定位,样品表面曲率半径高精度测试,以及薄膜残余应力值自动计算等功能。标准光学玻璃圆台表面曲率半径的实测结果表明,应力仪测试精度达到千分位。此外,TiN薄膜应力沿层深分布的测试结果进一步验证了设备的可靠性。 展开更多
关键词 薄膜应力测试仪 应力测试 剥层曲率半径法 残余应力
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基于哈特曼原理的薄膜应力在线测量系统 被引量:1
5
作者 王华清 薛唯 +2 位作者 卢维强 李夏 张楠 《红外与激光工程》 EI CSCD 北大核心 2009年第1期120-125,共6页
介绍了一种基于哈特曼传感器的薄膜应力在线检测系统。哈特曼透镜阵列将待测量表面划分成若干小区域,通过测量每个小区域成像光斑的相对位置变化来获得整个测量表面的变形量,将测得的变形量代入到薄膜应力与基板表面变形的关系式中,求... 介绍了一种基于哈特曼传感器的薄膜应力在线检测系统。哈特曼透镜阵列将待测量表面划分成若干小区域,通过测量每个小区域成像光斑的相对位置变化来获得整个测量表面的变形量,将测得的变形量代入到薄膜应力与基板表面变形的关系式中,求得薄膜应力。通过对影响光斑质心探测精度的各种因素进行分析,提出使用加阈值的一阶矩法,精确计算光斑质心,结合高灵敏度的CMOS探测器,使系统的面形测量精度达到15.7nm,应力测量灵敏度优于3.3MPa,实现了薄膜应力测量的高灵敏度与在线测量的统一。最后通过对TiO2,SiO2单层膜的在线测量,验证了系统的灵敏度与稳定性,能够完全满足薄膜应力分析的需要。 展开更多
关键词 薄膜应力 在线测量 哈特曼传感器
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薄膜应力造成基片弯曲变形的力学分析 被引量:2
6
作者 赵明炬 《兵器材料科学与工程》 CAS CSCD 北大核心 2014年第3期76-79,共4页
针对平板力学理论结构进行分析,研究薄膜应力造成基片弯曲变形的数学结构与力学行为。推算出两者间精确解与Stoney公式比较,探讨两者推导机制差异,进一步分析Stoney公式误差原因。利用电脑软件ABAQUS建立合理模型来提供数值解,探讨数学... 针对平板力学理论结构进行分析,研究薄膜应力造成基片弯曲变形的数学结构与力学行为。推算出两者间精确解与Stoney公式比较,探讨两者推导机制差异,进一步分析Stoney公式误差原因。利用电脑软件ABAQUS建立合理模型来提供数值解,探讨数学模式的正确性。 展开更多
关键词 薄膜应力 基片弯曲 力学分析
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板料成型薄膜应力的统一塑性解 被引量:1
7
作者 殷晓中 王钟羡 《科学技术与工程》 2010年第10期2406-2409,共4页
应用统一屈服准则对金属塑性加工中的板料成型问题进行了塑性分析,得到了不同材料的薄膜应力的统一解,为工程实际问题提供了理论依据。
关键词 统一屈服准则 塑性加工 薄膜应力 板料成型
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高功率脉冲磁控溅射制备的TiN薄膜应力释放及其结合稳定性研究 被引量:7
8
作者 唐鑫 马东林 +2 位作者 陈畅子 冷永祥 黄楠 《表面技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2019年第9期245-251,共7页
目的探究高功率脉冲磁控溅射(HPPMS)制备的氮化钛(TiN)薄膜在自然时效过程中,应力、薄膜/基体结合性能随时间的变化规律。方法采用高功率脉冲磁控溅射(HPPMS)技术,通过调控基体偏压(-50、-150V),制备出具有不同残余压应力(3.18、7.46GPa... 目的探究高功率脉冲磁控溅射(HPPMS)制备的氮化钛(TiN)薄膜在自然时效过程中,应力、薄膜/基体结合性能随时间的变化规律。方法采用高功率脉冲磁控溅射(HPPMS)技术,通过调控基体偏压(-50、-150V),制备出具有不同残余压应力(3.18、7.46GPa)的TiN薄膜,并采用基片曲率法、X射线衍射法、划痕法和超显微硬度计评价了薄膜的应力、薄膜/基体结合性能、硬度随时间的变化规律。结果在沉积完成后1h内,-50V和-150V基体偏压下制备的TiN薄膜压应力分别在3.12~3.39GPa和7.40~7.55GPa范围内波动,薄膜压应力没有发生明显变化;沉积完成后1~7天,平均每天分别下降28.57MPa和35.71MPa;7~30天,平均每天分别下降2.08MPa和2.50MPa;30~60天内,平均每天分别下降1.67MPa和7.00MPa。其压应力连续下降,且均表现出前期下降速率快,后期下降逐渐放缓的趋势。自然放置60天后,应力基本释放完毕,薄膜性质基本保持稳定。同时,薄膜/基体结合性能随时间逐渐变差,薄膜硬度下降。结论HPPMS制备的TiN薄膜在自然时效过程中,其残余应力会随时间增加,连续下降,进而影响薄膜的力学性能。 展开更多
关键词 高功率磁控溅射 氮化钛薄膜 薄膜应力 膜基结合力 自然时效
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沉积温度和速率对电子束沉积ZnSe薄膜应力特性的影响
9
作者 饶文萍 王颖 +1 位作者 章岳光 刘旭 《浙江大学学报(工学版)》 EI CAS CSCD 北大核心 2009年第11期2059-2061,共3页
在不同沉积温度和速率下,采用电子束蒸发法制备ZnSe薄膜样品,利用ZYGO GPI型干涉仪测试样品的应力行为,并采用X射线衍射(XRD)技术测试样品的晶向特征.实验结果表明,在不同条件下制备的ZnSe薄膜均呈现压应力,应力随着沉积温度升高而增大,... 在不同沉积温度和速率下,采用电子束蒸发法制备ZnSe薄膜样品,利用ZYGO GPI型干涉仪测试样品的应力行为,并采用X射线衍射(XRD)技术测试样品的晶向特征.实验结果表明,在不同条件下制备的ZnSe薄膜均呈现压应力,应力随着沉积温度升高而增大,在200℃应力达到最大值,之后应力随沉积温度升高呈下降趋势.XRD结果表明,沉积速率直接影响ZnSe薄膜的晶向结构,进而改变ZnSe薄膜内应力;当沉积速率为1.5 nm/s时,薄膜应力最小. 展开更多
关键词 电子束沉积 ZnSe薄膜 薄膜应力 沉积温度 沉积速率
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TiO_2和SiO_2薄膜应力在线测量与研究
10
作者 冷健 薛维 +3 位作者 喻志农 卢维强 王华清 张东璞 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2011年第4期465-469,共5页
研究了离子能量在薄膜制备过程中对TiO2和SiO2薄膜应力的影响。用电子束蒸发的方法制备TiO2和SiO2薄膜,使用实验室自行设计制作的基于哈特曼传感器的薄膜应力仪在线监测TiO2和SiO2薄膜应力随膜厚的变化。结果表明,离子辅助沉积的TiO2薄... 研究了离子能量在薄膜制备过程中对TiO2和SiO2薄膜应力的影响。用电子束蒸发的方法制备TiO2和SiO2薄膜,使用实验室自行设计制作的基于哈特曼传感器的薄膜应力仪在线监测TiO2和SiO2薄膜应力随膜厚的变化。结果表明,离子辅助沉积的TiO2薄膜张应力值要比传统工艺低40 MPa,并且随着离子能量的增加,薄膜逐渐由张应力变为压应力,薄膜的最大折射率为2.56;而离子辅助的溅射效应在制备SiO2薄膜时比较明显,传统工艺制备的SiO2薄膜表现为压应力,而用离子辅助的方法制备的SiO2薄膜表现为张应力,并且随着离子能量的增加,薄膜变得疏松,折射率逐渐降低。 展开更多
关键词 TIO2 SIO2 离子辅助 薄膜应力 哈特曼传感器
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薄膜应力测量方法及影响因素研究进展 被引量:11
11
作者 马一博 陈牧 +4 位作者 颜悦 刘伟明 韦友秀 张晓锋 李佳明 《航空材料学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2018年第1期17-25,共9页
随着薄膜电子器件的尺寸不断减小,薄膜应力成为薄膜器件失效的重要原因。薄膜应力不仅影响薄膜结构而且与薄膜光学、电学、力学等性质相关,因此,薄膜应力逐渐成为薄膜材料研究领域的热点之一。本文综述了薄膜应力的最新研究进展,对比分... 随着薄膜电子器件的尺寸不断减小,薄膜应力成为薄膜器件失效的重要原因。薄膜应力不仅影响薄膜结构而且与薄膜光学、电学、力学等性质相关,因此,薄膜应力逐渐成为薄膜材料研究领域的热点之一。本文综述了薄膜应力的最新研究进展,对比分析了基底曲率法、X射线衍射法、拉曼光谱法等常见的薄膜应力检测方法,概括了薄膜成分比例、基底类型、磁控溅射工艺参数(溅射功率、工作压力、基底温度)和退火等影响薄膜应力的因素。发现基底曲率法适合测量绝大部分薄膜材料,而X射线衍射法、拉曼光谱法只适合测量具有特征峰的材料,纳米压痕法需与无应力样品作对比实验。在薄膜制备和退火过程中,薄膜应力一般发生压应力和张应力的转化,且多个工艺参数共同影响薄膜应力,适当调节参数可使薄膜应力达到最小值甚至无应力状态。最后,结合薄膜应力当前的研究现状提出了未来可能的研究方向,即寻找不同材料体系薄膜应力的精确测量方法以及薄膜应力检测过程中面临的检测范围问题。 展开更多
关键词 薄膜应力 应力测量 应力控制 基底曲率法
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应力对薄膜结构与性能影响的研究现状 被引量:9
12
作者 冉春华 金义栋 +1 位作者 祝闻 聂朝胤 《材料导报》 EI CAS CSCD 北大核心 2013年第5期139-142,共4页
产生薄膜应力是在沉积薄膜过程中普遍存在的现象。薄膜应力的存在将影响薄膜的微观结构和性能,如薄膜的光学、力学等物理性能。同时影响到薄膜与基体材料的结合度以及基体材料的基本性能。主要总结了薄膜应力的产生机理、测试方法及其... 产生薄膜应力是在沉积薄膜过程中普遍存在的现象。薄膜应力的存在将影响薄膜的微观结构和性能,如薄膜的光学、力学等物理性能。同时影响到薄膜与基体材料的结合度以及基体材料的基本性能。主要总结了薄膜应力的产生机理、测试方法及其对薄膜结构和性能的影响,同时对薄膜应力的有效控制提出了展望。 展开更多
关键词 薄膜应力 薄膜结构 薄膜性能
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不同工艺参数下DLC薄膜的应力状态 被引量:5
13
作者 李党娟 王娜 +1 位作者 吴慎将 苏俊宏 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2020年第5期421-426,共6页
类金刚石(DLC)薄膜制备过程中,容易出现较大应力,从而导致DLC薄膜产生裂纹、破裂甚至脱落,对基底过早失去保护作用,导致光学系统失效,严重影响了DLC薄膜的工作时间和应用领域。基于射频磁控溅射技术,在双面抛光Si(100)基底上,沉积DLC薄... 类金刚石(DLC)薄膜制备过程中,容易出现较大应力,从而导致DLC薄膜产生裂纹、破裂甚至脱落,对基底过早失去保护作用,导致光学系统失效,严重影响了DLC薄膜的工作时间和应用领域。基于射频磁控溅射技术,在双面抛光Si(100)基底上,沉积DLC薄膜,制备不同射频功率(250、350、450 W)、不同氩气流量(40、60、80 mL/min)、不同溅射角(30°、60°、90°)下的DLC薄膜,获得不同工艺参数对DLC薄膜应力的影响规律。经过测试结果表明:在相同的基底形状与尺寸下,当射频功率为350 W,氩气流量为60 mL/min,溅射角为90°时,薄膜的应力表现出最小值,为0.85 GPa。 展开更多
关键词 类金刚石薄膜 磁控溅射 薄膜应力 工艺参数
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应力对多层薄膜窄带滤光片透射特性的影响 被引量:2
14
作者 王成 张贵艳 +2 位作者 马莹 肖孟超 钱龙生 《光电工程》 CAS CSCD 北大核心 2004年第11期66-69,共4页
利用薄膜应力公式和弹性力学的小挠度弯曲理论,分析了多层薄膜应变与薄膜厚度变化的关系,建立起基片曲率与薄膜厚度变化关系的理论模型,提出了多层薄膜各层厚度不均匀变化的关系式。膜厚均匀变化只影响中心波长的漂移,而这种膜厚不均匀... 利用薄膜应力公式和弹性力学的小挠度弯曲理论,分析了多层薄膜应变与薄膜厚度变化的关系,建立起基片曲率与薄膜厚度变化关系的理论模型,提出了多层薄膜各层厚度不均匀变化的关系式。膜厚均匀变化只影响中心波长的漂移,而这种膜厚不均匀变化不仅引起中心波长也引起光谱的退化。在基片由10mm厚减薄到1.0mm时,对100GHz的窄带滤光片的模拟结果为中心波长减小0.977nm;0.5dB带宽减小0.19nm。引入膜厚随机误差的模拟结果为中心波长减小1.066nm;纹波增加0.36dB;峰值插损增加0.32dB,光谱进一步退化了。说明了基片曲率变化引起的光学薄膜厚度变化的不均匀性是引起这种窄带干涉滤光片光谱退化的主要原因之一。 展开更多
关键词 多层膜 光谱退化 窄带滤光片 薄膜应力
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铜铟镓硒薄膜太阳电池的应力问题
15
作者 李微 孙云 刘兴江 《华南师范大学学报(自然科学版)》 CAS 北大核心 2009年第A01期20-21,共2页
分析了铜铟镓硒(CIGS)太阳电池的总应力来自于单层膜中的沉积应力及膜层界面间的相互作用.计算得出Mo薄膜与CIGS薄膜界面晶格失配度最大,表明相对于其他界面,该界面的应力值较大.而作为缓冲层的CdS薄膜有效地改善了吸收层CIGS薄膜与窗口... 分析了铜铟镓硒(CIGS)太阳电池的总应力来自于单层膜中的沉积应力及膜层界面间的相互作用.计算得出Mo薄膜与CIGS薄膜界面晶格失配度最大,表明相对于其他界面,该界面的应力值较大.而作为缓冲层的CdS薄膜有效地改善了吸收层CIGS薄膜与窗口层ZnO薄膜之间的界面应力.而对于柔性衬底材料的PI薄膜,如何解决因其较大的热膨胀系数造成的热应力,将成为制备高效柔性CIGS薄膜太阳电池的关键技术. 展开更多
关键词 CIGS太阳电池 薄膜应力
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薄膜预应力对连栋塑料温室结构极限承载力的影响 被引量:1
16
作者 王新忠 马兴超 毛罕平 《农业机械学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2011年第10期176-180,216,共6页
以连栋塑料温室整体结构为研究对象,采用实物模型试验和有限元分析相结合的方法,探讨薄膜预应力对连栋塑料温室结构极限承载力的影响。在ANSYS 10.0软件中,采用温度载荷模拟预应力,通过对薄膜施加不同的温度载荷建立6种薄膜预应力下的... 以连栋塑料温室整体结构为研究对象,采用实物模型试验和有限元分析相结合的方法,探讨薄膜预应力对连栋塑料温室结构极限承载力的影响。在ANSYS 10.0软件中,采用温度载荷模拟预应力,通过对薄膜施加不同的温度载荷建立6种薄膜预应力下的连栋塑料温室结构模型,并对该模型进行雪载荷工况下的双重非线性屈曲计算。通过分析不同薄膜预应力下的载荷-位移曲线,研究了薄膜预应力对连栋塑料温室结构极限承载力的影响。结果表明,薄膜预应力不会影响连栋塑料温室结构的屈曲模态,但会使结构极限承载力减小17%~63%。 展开更多
关键词 连栋塑料温室 极限承载力 薄膜应力 有限元分析
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多层薄膜的热应力研究 被引量:4
17
作者 陈焘 罗崇泰 王多书 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第z1期6-8,31,共4页
薄膜的应力对薄膜性能有着重要的影响.考虑了各个膜层弹性模量不同的情况,建立了多层薄膜热应力的数理模型,计算了典型多层薄膜体系中应力的分布.如果使用0级近似,每层薄膜中的热应力是由基底和膜层之间的热失配决定的,而不受其它膜层... 薄膜的应力对薄膜性能有着重要的影响.考虑了各个膜层弹性模量不同的情况,建立了多层薄膜热应力的数理模型,计算了典型多层薄膜体系中应力的分布.如果使用0级近似,每层薄膜中的热应力是由基底和膜层之间的热失配决定的,而不受其它膜层的约束;而使用一级近似,每一膜层中的热应力受其它膜层的影响.这种方法为多层薄膜应力的评价提供了依据. 展开更多
关键词 薄膜应力 多层薄膜 应力模型
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超声引起的SrAl_2O_4:Eu,Dy薄膜的应力发光 被引量:4
18
作者 付晓燕 房立钧 +1 位作者 郑升辉 张洪武 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2016年第9期1066-1070,共5页
为了实现超声探伤和应力发光探伤二者结合,研究了SrAl_2O_4∶Eu,Dy(SAOED)/硅橡胶在超声振动下的应力发光性质。薄膜的微观结构表明,SrAl_2O_4∶Eu,Dy应力发光颗粒被高弹性的硅胶包裹。当超声波作用到薄膜表面时,超声振动可以促使应力... 为了实现超声探伤和应力发光探伤二者结合,研究了SrAl_2O_4∶Eu,Dy(SAOED)/硅橡胶在超声振动下的应力发光性质。薄膜的微观结构表明,SrAl_2O_4∶Eu,Dy应力发光颗粒被高弹性的硅胶包裹。当超声波作用到薄膜表面时,超声振动可以促使应力发光颗粒周围的硅橡胶发生各种形变,从而使被包裹的应力发光颗粒发生有效形变,产生高效的应力发光。薄膜厚度以及超声频率对SAOED发光薄膜的应力发光有明显的影响。薄膜的超声应力发光强度随着薄膜厚度的增加先增大,当薄膜的厚度为1 mm时达到最大,之后随着薄膜厚度的增加而降低。薄膜的超声应力发光强度与超声频率大小成正比,即使最低频率仅为500 Hz时仍能检测到信号,说明SrAl_2O_4∶Eu,Dy/硅橡胶发光薄膜是一种很有应用前途的无损检测传感器。 展开更多
关键词 SrAl2O4:Eu Dy/Si橡胶应力发光薄膜 超声应力发光 无损检测传感器
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基底温度对Ti/TiN薄膜内应力的影响 被引量:2
19
作者 胡敏 《科学技术与工程》 北大核心 2012年第26期6743-6745,6749,共4页
采用反应直流磁控溅射法,在硅基底上制备了一系列不同结构的Ti/TiN多层薄膜。采用X射线衍射仪(XRD)对薄膜物相进行了分析,研究了溅射沉积过程中基底温度对周期薄膜结构及内应力的影响。结果表明:多层薄膜中的Ti出现(101)面,TiN的(200)... 采用反应直流磁控溅射法,在硅基底上制备了一系列不同结构的Ti/TiN多层薄膜。采用X射线衍射仪(XRD)对薄膜物相进行了分析,研究了溅射沉积过程中基底温度对周期薄膜结构及内应力的影响。结果表明:多层薄膜中的Ti出现(101)面,TiN的(200)面衍射峰强度在基底温度为600℃时最高。随着衬底温度的升高,薄膜内部的压应力逐渐减小,当基底温度在600℃时,薄膜内应力最小。 展开更多
关键词 磁控溅射 多层薄膜 基底温度 薄膜应力
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退火温度对硅基溅射银膜微结构和应力的影响 被引量:7
20
作者 吴桂芳 宋学萍 +2 位作者 杨成浩 江兵 孙兆奇 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2003年第6期682-684,共3页
 用直流溅射法在硅(111)基底上制备银膜,膜厚为380nm。用BGS6341型电子薄膜应力分布测试仪对膜应力随退火温度的变化进行了研究,结果表明:膜应力随着退火温度的升高而增大,在400℃退火温度下膜应力变化明显。用MXP18AHF型X射线衍射仪...  用直流溅射法在硅(111)基底上制备银膜,膜厚为380nm。用BGS6341型电子薄膜应力分布测试仪对膜应力随退火温度的变化进行了研究,结果表明:膜应力随着退火温度的升高而增大,在400℃退火温度下膜应力变化明显。用MXP18AHF型X射线衍射仪测量了膜的衍射谱,对膜微结构随退火温度的变化进行了讨论。制备的Ag膜仍为面心立方结构,呈多晶状态,平均晶粒尺寸为23.63nm,薄膜晶格常数(0.40805nm)比标准样品晶格常数(0.40862nm)稍小。 展开更多
关键词 溅射镀膜 退火温度 薄膜应力 微结构 直流溅射法
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