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X射线反射(XRR)对薄膜样品厚度的研究
被引量：
7
1
作者
于吉顺
陆琦
+1 位作者
肖平
张锦化
《功能材料》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2008年第2期199-201,共3页
X射线的反射(XRR)测量法可精确地确定平行层及其薄膜结构,如测定光滑基体上聚合物膜的特性,包括层的厚度、密度和界面粗糙度。使用X’Pert X射线粉晶衍射仪对单晶硅片上的有机薄膜镀层进行了其厚度的精确测定,测定结果为该单晶硅片上的...
X射线的反射(XRR)测量法可精确地确定平行层及其薄膜结构,如测定光滑基体上聚合物膜的特性,包括层的厚度、密度和界面粗糙度。使用X’Pert X射线粉晶衍射仪对单晶硅片上的有机薄膜镀层进行了其厚度的精确测定,测定结果为该单晶硅片上的有机薄膜有3层,其厚度分别为5.0、60.2和245.3nm。并用倒易向量方法计算和验证了测量结果的正确性。还讨论了用X射线反射测定薄膜结构的一些影响因素。
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关键词
X射线反射
有机
薄膜
薄膜厚度测定
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职称材料
题名
X射线反射(XRR)对薄膜样品厚度的研究
被引量：
7
1
作者
于吉顺
陆琦
肖平
张锦化
机构
中国地质大学地质过程与矿产资源国家重点实验室
中国地质大学地球科学学院
中国地质大学材料科学与化学工程学院
出处
《功能材料》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2008年第2期199-201,共3页
基金
国家自然科学基金资助项目(49772095)
文摘
X射线的反射(XRR)测量法可精确地确定平行层及其薄膜结构,如测定光滑基体上聚合物膜的特性,包括层的厚度、密度和界面粗糙度。使用X’Pert X射线粉晶衍射仪对单晶硅片上的有机薄膜镀层进行了其厚度的精确测定,测定结果为该单晶硅片上的有机薄膜有3层,其厚度分别为5.0、60.2和245.3nm。并用倒易向量方法计算和验证了测量结果的正确性。还讨论了用X射线反射测定薄膜结构的一些影响因素。
关键词
X射线反射
有机
薄膜
薄膜厚度测定
Keywords
X-ray reflection
organic film
thickness measurement of thin films
分类号
TB43 [一般工业技术]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
X射线反射(XRR)对薄膜样品厚度的研究
于吉顺
陆琦
肖平
张锦化
《功能材料》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2008
7
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