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等离子体喷涂致密陶瓷涂层技术研究进展
1
作者
刘方圆
魏连峰
+4 位作者
张薇薇
郑勇
商乔
王亚峰
张然
《中国表面工程》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2024年第5期195-219,共25页
等离子体喷涂陶瓷涂层技术具有加热温度高、沉积速率快、基体受热小、材料范围广和投资成本低等显著优势,广泛应用于航空航天、核能发电和兵器装备等领域。随着现代工业的快速发展,高端装备和部分关键零部件对陶瓷涂层的服役性能提出了...
等离子体喷涂陶瓷涂层技术具有加热温度高、沉积速率快、基体受热小、材料范围广和投资成本低等显著优势,广泛应用于航空航天、核能发电和兵器装备等领域。随着现代工业的快速发展,高端装备和部分关键零部件对陶瓷涂层的服役性能提出了更高的使用要求,如何提高等离子体喷涂陶瓷涂层的密度和力学性能成为该领域的研究热点。研究者近年来采用优化的等离子体喷涂技术制备了性能优异的致密陶瓷涂层。系统综述该技术的研究进展,对于其大规模推广应用具有重要意义。首先,从常规大气等离子体喷涂技术的原理和涂层沉积过程,介绍常规大气等离子体喷涂陶瓷涂层的技术特点、显微特征和瓶颈问题。然后,从等离子体喷枪的结构设计、工作原理和涂层性能,系统综述8种用于制备致密陶瓷涂层的等离子体喷枪技术。而后,根据高效能等离子体喷涂工艺的原理、特点和涂层特征,详细阐述超低压、长层流和悬浮溶液3种致密陶瓷涂层等离子体喷涂工艺。最后,总结等离子体喷涂致密陶瓷涂层技术的发展现状,并对未来发展趋势进行了展望。主要综述等离子体喷涂致密陶瓷涂层技术的先进喷枪结构和高能效喷涂工艺,可为等离子体喷涂致密陶瓷涂层技术的广泛应用提供借鉴和指导。
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关键词
等离子体喷涂
致密陶瓷涂层
等离子体喷枪
等离子体喷涂工艺
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职称材料
题名
等离子体喷涂致密陶瓷涂层技术研究进展
1
作者
刘方圆
魏连峰
张薇薇
郑勇
商乔
王亚峰
张然
机构
中国核动力研究设计院反应堆燃料及材料重点实验室
四川大学数学学院
出处
《中国表面工程》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2024年第5期195-219,共25页
文摘
等离子体喷涂陶瓷涂层技术具有加热温度高、沉积速率快、基体受热小、材料范围广和投资成本低等显著优势,广泛应用于航空航天、核能发电和兵器装备等领域。随着现代工业的快速发展,高端装备和部分关键零部件对陶瓷涂层的服役性能提出了更高的使用要求,如何提高等离子体喷涂陶瓷涂层的密度和力学性能成为该领域的研究热点。研究者近年来采用优化的等离子体喷涂技术制备了性能优异的致密陶瓷涂层。系统综述该技术的研究进展,对于其大规模推广应用具有重要意义。首先,从常规大气等离子体喷涂技术的原理和涂层沉积过程,介绍常规大气等离子体喷涂陶瓷涂层的技术特点、显微特征和瓶颈问题。然后,从等离子体喷枪的结构设计、工作原理和涂层性能,系统综述8种用于制备致密陶瓷涂层的等离子体喷枪技术。而后,根据高效能等离子体喷涂工艺的原理、特点和涂层特征,详细阐述超低压、长层流和悬浮溶液3种致密陶瓷涂层等离子体喷涂工艺。最后,总结等离子体喷涂致密陶瓷涂层技术的发展现状,并对未来发展趋势进行了展望。主要综述等离子体喷涂致密陶瓷涂层技术的先进喷枪结构和高能效喷涂工艺,可为等离子体喷涂致密陶瓷涂层技术的广泛应用提供借鉴和指导。
关键词
等离子体喷涂
致密陶瓷涂层
等离子体喷枪
等离子体喷涂工艺
Keywords
plasma spraying
dense ceramic coating
plasma torch
plasma spraying process
分类号
TG174 [金属学及工艺—金属表面处理]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
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1
等离子体喷涂致密陶瓷涂层技术研究进展
刘方圆
魏连峰
张薇薇
郑勇
商乔
王亚峰
张然
《中国表面工程》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2024
0
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