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金属有机化合物汽相淀积技术制备布拉格反射镜确定外延厚度的方法
被引量:
1
1
作者
盖红星
陈建新
+5 位作者
邓军
廉鹏
俞波
李建军
韩军
沈光地
《光学精密工程》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2006年第1期54-57,共4页
外延膜层厚度的精确性对垂直腔面发射激光器(VCSEL)是十分重要的。应用传输矩阵方法分析了厚度偏差对半导体布拉格反射镜(DBR)反射谱的影响,并利用这种影响提出了一种金属有机化合物汽相淀积(MOCVD)制备布拉格反射镜精确确定外延厚度的...
外延膜层厚度的精确性对垂直腔面发射激光器(VCSEL)是十分重要的。应用传输矩阵方法分析了厚度偏差对半导体布拉格反射镜(DBR)反射谱的影响,并利用这种影响提出了一种金属有机化合物汽相淀积(MOCVD)制备布拉格反射镜精确确定外延厚度的方法。据此,应用MOCVD生长了980 nmVCSEL外延片,其反射谱中心波长为982 nm。结果表明,应用这种方法能够实现材料厚度、MOCVD系统生长参数的定标以及为VCSEL的材料生长提供可靠的依据。
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关键词
金属有机化合物汽相淀积
布拉格反射镜
反射谱
膜厚测定
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职称材料
题名
金属有机化合物汽相淀积技术制备布拉格反射镜确定外延厚度的方法
被引量:
1
1
作者
盖红星
陈建新
邓军
廉鹏
俞波
李建军
韩军
沈光地
机构
北京工业大学电控学院光电子技术实验室
出处
《光学精密工程》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2006年第1期54-57,共4页
基金
国家973计划(No.TG2000068302)
国家自然科学基金(No.60276033)
北京市教委(No.01kJ-014)的资助
文摘
外延膜层厚度的精确性对垂直腔面发射激光器(VCSEL)是十分重要的。应用传输矩阵方法分析了厚度偏差对半导体布拉格反射镜(DBR)反射谱的影响,并利用这种影响提出了一种金属有机化合物汽相淀积(MOCVD)制备布拉格反射镜精确确定外延厚度的方法。据此,应用MOCVD生长了980 nmVCSEL外延片,其反射谱中心波长为982 nm。结果表明,应用这种方法能够实现材料厚度、MOCVD系统生长参数的定标以及为VCSEL的材料生长提供可靠的依据。
关键词
金属有机化合物汽相淀积
布拉格反射镜
反射谱
膜厚测定
Keywords
MOCVD
DBR
reflection spectrum
thin film thickness measurement
分类号
O484.5 [理学—固体物理]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
金属有机化合物汽相淀积技术制备布拉格反射镜确定外延厚度的方法
盖红星
陈建新
邓军
廉鹏
俞波
李建军
韩军
沈光地
《光学精密工程》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2006
1
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