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脉冲激光气相沉积技术现状与进展 被引量:8
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作者 张超 吴卫东 +4 位作者 陈正豪 周岳亮 孙卫国 唐永建 程新路 《材料导报》 EI CAS CSCD 2003年第12期73-76,共4页
介绍了脉冲激光沉积法(PLD)制备薄膜技术的原理、特点和这一研究领域的现状,着重介绍了脉冲激光沉积薄膜技术的研究动态和进展情况。大量研究表明,脉冲激光沉积法是一种最好的制备薄膜的方法之一。
关键词 脉冲激光气相沉积技术 PLD 薄膜制备 电学性能
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脉冲激光气相沉积技术及其在ICF薄膜靶制备中的应用 被引量:25
2
作者 吴卫东 许华 +2 位作者 魏胜 唐永建 陈正豪 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2002年第6期873-876,共4页
 在ICF实验及天体物理的辐射不透明实验中,经常用到多层薄膜靶,激光脉冲气相沉积(PLD)技术是制备多层薄膜靶的较好方法。论述了PLD技术的原理、实验方法和装置的设计,用该方法初步制备了原子级光滑的Cu及Cu Fe薄膜。Cu薄膜的均方根粗...  在ICF实验及天体物理的辐射不透明实验中,经常用到多层薄膜靶,激光脉冲气相沉积(PLD)技术是制备多层薄膜靶的较好方法。论述了PLD技术的原理、实验方法和装置的设计,用该方法初步制备了原子级光滑的Cu及Cu Fe薄膜。Cu薄膜的均方根粗糙度为0.2nm,Fe薄膜的均方根粗糙度为0.4nm。 展开更多
关键词 脉冲激光沉积 ICF 薄膜靶 制备 准分子激光
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脉冲激光沉积α相氧化镓薄膜及其日盲光电探测器
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作者 丁子舰 颜世琪 +1 位作者 徐希凡 辛倩 《人工晶体学报》 北大核心 2025年第2期329-336,共8页
本文采用脉冲激光沉积(PLD)技术,在m面蓝宝石衬底上外延生长了高质量亚稳态α相氧化镓(α-Ga_(2)O_(3))薄膜,结合X射线衍射和扫描电子显微镜等表征手段,研究了不同生长温度和不同氧分压对薄膜形貌及结晶性的影响。基于优化条件下生长的... 本文采用脉冲激光沉积(PLD)技术,在m面蓝宝石衬底上外延生长了高质量亚稳态α相氧化镓(α-Ga_(2)O_(3))薄膜,结合X射线衍射和扫描电子显微镜等表征手段,研究了不同生长温度和不同氧分压对薄膜形貌及结晶性的影响。基于优化条件下生长的异质外延α-Ga_(2)O_(3)薄膜,制备了金属-半导体-金属(MSM)结构的日盲紫外光电探测器。由于薄膜较好的结晶质量和较少的缺陷,该探测器在254 nm日盲紫外光照射下表现出良好的光电响应,5 V偏压下具有10^(-6)A的光电流及10^(-10)A的暗电流,光暗电流比可达104,最大响应度达到36.7 A/W,最大外量子效率为1.79×10^(4)%,最大探测率为2.45×10^(14)Jones。 展开更多
关键词 脉冲激光沉积 α氧化镓 生长温度 氧分压 金属-半导体-金属 日盲光电探测器
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脉冲激光气相沉积法制备钴纳米薄膜实验研究 被引量:9
4
作者 张超 吴卫东 +9 位作者 程新路 杨向东 许华 陈志梅 唐永建 孙卫国 陈正豪 周岳亮 何英杰 谢军 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第4期449-452,共4页
 采用脉冲激光沉积技术制备了钴纳米薄膜,分析和讨论了不同背景气压和脉冲频率对钴纳米薄膜表面形貌的影响及纳米微粒的形成机理。实验结果表明:在低背景气压下,等离子体羽辉自身粒子之间的碰撞占主导作用,容易形成液滴;在较高背景气压...  采用脉冲激光沉积技术制备了钴纳米薄膜,分析和讨论了不同背景气压和脉冲频率对钴纳米薄膜表面形貌的影响及纳米微粒的形成机理。实验结果表明:在低背景气压下,等离子体羽辉自身粒子之间的碰撞占主导作用,容易形成液滴;在较高背景气压下,等离子体羽辉边缘粒子和背景气体粒子之间的碰撞占主导作用,容易形成小岛并凝聚成微颗粒;在4Hz的脉冲重复频率和5Pa背景气压下生长出单分散性良好的钴纳米颗粒。 展开更多
关键词 脉冲激光沉积 单分散性 纳米薄膜
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激光化学气相沉积技术在掩模版修复中的应用 被引量:3
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作者 黄河 朱晓 +4 位作者 朱长虹 朱广志 李跃松 张沛 万承华 《激光技术》 CAS CSCD 北大核心 2007年第3期330-332,共3页
为了对光掩模版亮场缺陷进行修补,采用激光化学气相沉积的方法,利用功率密度为1.3×108W/cm2的355nm紫外激光诱导Cr(CO)6分解,在1.5 s内获得了光掩模亮场区域附着力强、消光比高的金属Cr膜。结果表明,在开放的环境下,采用高功率密... 为了对光掩模版亮场缺陷进行修补,采用激光化学气相沉积的方法,利用功率密度为1.3×108W/cm2的355nm紫外激光诱导Cr(CO)6分解,在1.5 s内获得了光掩模亮场区域附着力强、消光比高的金属Cr膜。结果表明,在开放的环境下,采用高功率密度、短作用时间的方法能够得到高质量的沉积薄膜,满足了微电子行业中对掩模版修复的要求。 展开更多
关键词 激光技术 光化学 光掩模修复 激光化学沉积 开放式
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脉冲激光沉积薄膜技术研究新进展 被引量:31
6
作者 敖育红 胡少六 +2 位作者 龙华 徐业斌 王又青 《激光技术》 CAS CSCD 北大核心 2003年第5期453-456,459,共5页
脉冲激光沉积薄膜是近年来发展起来的使用范围最广、最有希望的制膜技术。陈述了其原理、特点、研究方法 ,总结了超快脉冲激光、脉冲激光真空弧。
关键词 超快脉冲激光沉积 双光束脉冲激光沉积 脉冲激光真空弧薄膜制备 薄膜技术
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脉冲直流等离子体辅助化学气相沉积TiN和TiCN薄膜摩擦磨损特性研究 被引量:24
7
作者 马胜利 马大衍 +2 位作者 王昕 徐可为 介万奇 《摩擦学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2003年第3期179-182,共4页
对比研究了脉冲直流等离子体辅助化学气相沉积TiN和TiCN薄膜的摩擦磨损特性,用扫描电子显微镜、X射线衍射仪及销-盘摩擦磨损试验机分析薄膜形貌和结合力,考察了不同沉积条件下2种薄膜的摩擦磨损过程及其影响因素.结果表明,TiCN薄膜具有... 对比研究了脉冲直流等离子体辅助化学气相沉积TiN和TiCN薄膜的摩擦磨损特性,用扫描电子显微镜、X射线衍射仪及销-盘摩擦磨损试验机分析薄膜形貌和结合力,考察了不同沉积条件下2种薄膜的摩擦磨损过程及其影响因素.结果表明,TiCN薄膜具有较高硬度、良好的膜基结合力,相对于TiN薄膜而言表现出更低的摩擦系数和更好的耐磨性能.在实际使用中应注重成分和结构优化设计,以保证薄膜具有良优良的减摩性能. 展开更多
关键词 硬质薄膜 PCVD 结合力 摩擦磨损性能 脉冲直流等离子体辅助化学沉积 TIN薄膜 TiCN薄膜
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气相沉积制备硬质薄膜技术与应用述评 被引量:13
8
作者 马胜利 徐可为 介万奇 《真空科学与技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2002年第6期438-443,共6页
本文对气相沉积技术的发展与最新趋势给出了述评 ,重点强调了等离子体辅助化学气相沉积 (PCVD)的优势。
关键词 制备 沉积技术 硬质薄膜 PCVD 等离子体辅助化学沉积
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脉冲激光沉积技术在磁性薄膜制备中的应用 被引量:9
9
作者 邓联文 江建军 何华辉 《材料导报》 EI CAS CSCD 2003年第2期66-68,共3页
脉冲激光沉积制膜(PLD)是近年来迅速发展起来的制膜新技术,首先简要介绍了脉冲激光沉积技术的原理、特点和优势以及在磁性功能薄膜研究中的应用,最后说明了该技术的最新发展趋势。
关键词 脉冲激光沉积技术 制备 磁性薄膜 外延生长 超晶格 成膜机理
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通过激光诱导化学气相沉积来制造微碳柱的研究 被引量:8
10
作者 温宗胤 李宝灵 周健 《矿冶工程》 CAS CSCD 北大核心 2006年第4期79-82,共4页
使用氩离子激光作为光源,乙烷(C2H6)作为工作气体,在激光功率0.5—4.5W,气体压力0.03—0.09MPa的变化范围内,进行激光诱导化学气相沉积形成微结构。试验研究了激光功率、气体压力对碳柱直径和生长长度的影响,讨论了碳柱平均... 使用氩离子激光作为光源,乙烷(C2H6)作为工作气体,在激光功率0.5—4.5W,气体压力0.03—0.09MPa的变化范围内,进行激光诱导化学气相沉积形成微结构。试验研究了激光功率、气体压力对碳柱直径和生长长度的影响,讨论了碳柱平均生长率随照射时间、焦点移动速度的变化规律。根据实验数据,使用焦距移动方法,生成长径比超过500的微碳柱。 展开更多
关键词 激光诱导化学沉积 生长速度 直径 微碳柱
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激光化学气相沉积快速生长高取向TiN_x薄膜的研究 被引量:5
11
作者 公衍生 涂溶 後藤孝 《无机材料学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2010年第4期391-395,共5页
采用激光化学气相沉积(LCVD)技术在氧化铝衬底上制备了高取向的TiNx薄膜,重点研究了激光功率(PL)、衬底预热温度(Tpre)和沉积总压力(Ptot)对薄膜取向和沉积速率的影响,采用X射线衍射(XRD)、俄歇能谱(AES)和场发射扫描电镜(FESEM)对薄膜... 采用激光化学气相沉积(LCVD)技术在氧化铝衬底上制备了高取向的TiNx薄膜,重点研究了激光功率(PL)、衬底预热温度(Tpre)和沉积总压力(Ptot)对薄膜取向和沉积速率的影响,采用X射线衍射(XRD)、俄歇能谱(AES)和场发射扫描电镜(FESEM)对薄膜组成和结构进行了表征.结果表明:所得到的TiNx薄膜成分均匀,其取向与衬底预热温度有关,随着预热温度的升高,TiNx薄膜的取向由(111)变为(200),薄膜的取向与其微观结构一致.TiNx薄膜的沉积速率随着激光功率升高而增大,在PL=100W时,达到最大值90μm/h(沉积面积为300mm2),显著高于采用其它方法制备的TiNx薄膜. 展开更多
关键词 TiNx薄膜 快速生长 取向 激光化学沉积(LCVD)
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中温化学气相沉积(MTCVD)工艺技术及超级涂层材料的研究 被引量:14
12
作者 李建平 高见 +1 位作者 曾祥才 马文存 《工具技术》 北大核心 2004年第9期72-75,共4页
采用MT CVD工艺技术 ,用CH3 CN等含有C/N原子团的有机化合物 ,在 70 0~ 90 0℃沉积组织致密、层间结合强度好、柱状结晶的超级TiCN涂层。研究了沉积温度、压力、不同气体流量等工艺参数对TiCN涂层组织结构及性能的影响规律 ;分析了超... 采用MT CVD工艺技术 ,用CH3 CN等含有C/N原子团的有机化合物 ,在 70 0~ 90 0℃沉积组织致密、层间结合强度好、柱状结晶的超级TiCN涂层。研究了沉积温度、压力、不同气体流量等工艺参数对TiCN涂层组织结构及性能的影响规律 ;分析了超级涂层材料设计机理和结构 ,给出了在经过改造的高温化学气相沉积 (HT CVD)设备上应用HT CVD和MT 展开更多
关键词 涂层材料 CVD TiCN涂层 中温 硬质合金刀片 化学沉积 工艺参数 工艺技术 结晶 研究
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电子束物理气相沉积技术及其应用现状 被引量:24
13
作者 关春龙 李垚 赫晓东 《航空制造技术》 北大核心 2003年第11期35-37,共3页
介绍了电子束物理气相沉积设备的结构、工艺特点及应用范围 ,并在此基础上介绍了电子束物理气相沉积技术在制备热障涂层。
关键词 电子束物理沉积技术 应用范围 制备 热障涂层 微层材料
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一种新型的激光——等离子体辅助化学气相沉积装置的研究 被引量:3
14
作者 陆宗仪 李文梅 +4 位作者 安世民 郭宝海 夏元良 徐军 梅雨 《材料科学与工艺》 EI CAS CSCD 1997年第1期90-94,共5页
为探索用激光和等离子体共同辅助化学气相沉积(CVD)过程以实现室温沉积的可能性,设计并制造了一种新型的CVD装置,实际进行了由SiH4-NH3-N2体系制取Si3N4膜的试验。结果表明,激光和等离子体是可以相互促进、... 为探索用激光和等离子体共同辅助化学气相沉积(CVD)过程以实现室温沉积的可能性,设计并制造了一种新型的CVD装置,实际进行了由SiH4-NH3-N2体系制取Si3N4膜的试验。结果表明,激光和等离子体是可以相互促进、共同辅助CVD过程的,且两者均处于较低的能量水平;整个沉积过程在室温下进行,仅在试样表面局部区域有升温,从而可以实现保持基体原有性能的沉积和选区沉积,拓宽CVD的应用前景。 展开更多
关键词 化学沉积 激光 等离子体 氮化硅膜
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激光诱导化学气相沉积法制备纳米氮化硅及粉体光谱特性研究 被引量:7
15
作者 王锐 李道火 +2 位作者 黄永攀 罗丽明 浦坦 《硅酸盐通报》 CAS CSCD 2004年第3期6-9,共4页
氮化硅是优良的陶瓷材料,应用广泛。本文研究了激光诱导化学气相沉积法制备纳米氮化硅的工作原理,提出了减少游离硅的措施,利用双光束激发制备了超微的、非晶纳米氮化硅粉体。实验证明,纳米氮化硅粉体具有一些特殊的物理性能和光谱特性。
关键词 激光诱导 化学沉积 制备 纳米氮化硅 光谱特性 陶瓷材料 SI3N4 双光束激发
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PS/化学气相沉积CF选区激光烧结多指标正交试验参数的优化 被引量:3
16
作者 杨来侠 周文明 +4 位作者 赵贞慧 龚林 鲁杰 杜珣涛 王勃 《工程塑料应用》 CAS CSCD 北大核心 2017年第10期46-51,62,共7页
针对选择性激光烧结(SLS)工艺中聚苯乙烯(PS)粉末烧结件精度不高且强度不能满足实际需求的问题,将经过化学气相沉积法处理的碳纤维(CF)粉末、PS粉末、分散剂和抗静电剂进行机械混合,制备了PS/气相沉积CF复合粉末。以Z向尺寸相对误差、... 针对选择性激光烧结(SLS)工艺中聚苯乙烯(PS)粉末烧结件精度不高且强度不能满足实际需求的问题,将经过化学气相沉积法处理的碳纤维(CF)粉末、PS粉末、分散剂和抗静电剂进行机械混合,制备了PS/气相沉积CF复合粉末。以Z向尺寸相对误差、致密度和弯曲强度为实验指标,先采用极差分析法进行单个指标的优化,再利用综合平衡法对多指标正交试验进行整体参数优化分析。结果表明:复合粉末粒度主要分布在30.63~142.00μm;对于PS粉末烧结件,化学气相沉积CF粉末比普通的CF粉末具有更好的改善尺寸精度、填充和增强的效果;烧结件的最佳工艺参数组合为:预热温度为80℃,激光功率为27 W,扫描速度为1 800 mm/s和扫描间距为0.30 mm。此时烧结件的Z向尺寸相对误差为5.47%,致密度为0.626 g/cm3,弯曲强度为10.68 MPa。相比于纯PS粉末烧结件,分别提高了24.55%,30.42%,136.28%。 展开更多
关键词 选区激光烧结 聚苯乙烯 碳纤维 化学沉积 正交试验 综合平衡法 参数优化
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TiN类薄膜的激光化学气相沉积 被引量:7
17
作者 张鸿俭 冯钟潮 张鹤 《兵器材料科学与工程》 CAS CSCD 北大核心 1999年第1期41-44,共4页
研究了激光化学气相沉积的方法在Ti和Ti-6Al-4V基材上沉积TiN、TiC、 Ti(Cn、Nm)薄膜的工艺方法,并获得了良好膜层的最佳工艺。在低压下用激光化学气相沉积 (LCVD)方法制备成功的TiN类薄膜颜色金黄... 研究了激光化学气相沉积的方法在Ti和Ti-6Al-4V基材上沉积TiN、TiC、 Ti(Cn、Nm)薄膜的工艺方法,并获得了良好膜层的最佳工艺。在低压下用激光化学气相沉积 (LCVD)方法制备成功的TiN类薄膜颜色金黄,成份均匀,其平均显微硬度为HK2500,耐磨 性比基材提高了六倍。 展开更多
关键词 TiN类薄膜 钛合金 激光化学沉积
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气相沉积CF改性PS的选择性激光烧结 被引量:3
18
作者 杨来侠 陈梦瑶 赵贞慧 《工程塑料应用》 CAS CSCD 北大核心 2017年第9期52-56,共5页
由于普通碳纤维(CF)对聚苯乙烯(PS)烧结件弯曲强度的改善有限,在前期理论及实验基础上,对CF材料做气相沉积处理,制备PS/CF复合材料,再进行选择性激光烧结(SLS)实验,验证其增强效果;然后,改变经气相沉积法处理的CF与PS的配比,分析CF含量... 由于普通碳纤维(CF)对聚苯乙烯(PS)烧结件弯曲强度的改善有限,在前期理论及实验基础上,对CF材料做气相沉积处理,制备PS/CF复合材料,再进行选择性激光烧结(SLS)实验,验证其增强效果;然后,改变经气相沉积法处理的CF与PS的配比,分析CF含量对制件强度及精度的影响;最后结合扫描电子显微镜(SEM)观察烧结件断面内部结构并进行分析。结果表明,经气相沉积处理的CF含量为10%时复合材料的弯曲强度较高,达10.17 MPa,比纯PS制件提高约76.3%。微观形貌SEM显示,随着CF含量的增加,孔隙量增加,从而导致SLS烧结件的强度降低。 展开更多
关键词 选择性激光烧结 聚苯乙烯 沉积处理 碳纤维 弯曲强度
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磁控溅射和脉冲直流化学气相沉积Ti-Si-N薄膜摩擦磨损性能对比研究 被引量:2
19
作者 马青松 马胜利 +1 位作者 徐可为 徐洮 《摩擦学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第5期415-419,共5页
分别利用磁控溅射和脉冲直流化学气相沉积(PCVD)技术制备了Ti-Si-N薄膜,测定了2种Ti-Si-N薄膜的显微硬度,并采用球-盘式高温摩擦磨损试验机对比考察了其高温摩擦磨损性能.结果表明,当薄膜中Si含量(原子分数)约为10%时,2种薄膜的显微硬... 分别利用磁控溅射和脉冲直流化学气相沉积(PCVD)技术制备了Ti-Si-N薄膜,测定了2种Ti-Si-N薄膜的显微硬度,并采用球-盘式高温摩擦磨损试验机对比考察了其高温摩擦磨损性能.结果表明,当薄膜中Si含量(原子分数)约为10%时,2种薄膜的显微硬度达到最大值;2种Ti-Si-N薄膜的耐磨性能同其硬度之间不存在对应关系,其中采用PCVD方法制备的Ti-Si-N薄膜的高温抗磨性能较优;2种薄膜在高温下的摩擦系数均有所降低,这归因于高温下氧化膜的润滑作用. 展开更多
关键词 磁控溅射 脉冲直流化学沉积(PCVD) Ti-Si-N薄膜 摩擦磨损性能
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铀上激光辅助化学气相沉积镍薄膜研究 被引量:1
20
作者 张永彬 陈志磊 +3 位作者 宾韧 郎定木 蒲朕 刘柯钊 《原子能科学技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2017年第3期411-417,共7页
为防止金属铀的腐蚀,本文采用激光辅助化学气相沉积(LACVD)方法在铀上制备了镍薄膜。采用SEM、XRD分析了薄膜的形貌、物相以及界面特性,采用黏胶拉伸测试表征了膜-基结合性能,采用电化学极化法分析了薄膜的抗腐蚀性能。结果表明:压力和... 为防止金属铀的腐蚀,本文采用激光辅助化学气相沉积(LACVD)方法在铀上制备了镍薄膜。采用SEM、XRD分析了薄膜的形貌、物相以及界面特性,采用黏胶拉伸测试表征了膜-基结合性能,采用电化学极化法分析了薄膜的抗腐蚀性能。结果表明:压力和温度对化学气相沉积(CVD)方法制备镍薄膜的质量有较大的影响。随着基底温度和沉积气压的降低,薄膜变得致密、平整,质量提高。在优化的工艺条件165℃、3Pa下,CVD方法所得镍薄膜非常致密。采用LACVD方法时,激光能量为200mJ时所制得的薄膜致密,300mJ时膜变得粗糙。无激光辅助时,CVD方法所制得的薄膜较易剥落,激光辅助下所得薄膜的膜-基结合力较好。LACVD方法大幅提高了薄膜的抗腐蚀性能,抗腐蚀性能的提高主要源于激光辅助使薄膜致密化,提高了薄膜与基底的结合力。 展开更多
关键词 激光 化学沉积 防腐蚀 镍薄膜
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