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WO_3/Si纳米晶薄膜的脉冲准分子激光沉积及结构分析被引量：2: 1; 作者方国家刘祖黎姚凯伦《无机材料学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2002年第1期139-144,共6页; 采用脉冲准分子激光大面积扫描沉积技术，在Ｓｉ（１１１）单晶衬底上沉积了ＷＯｘ薄膜．采用Ｘ射线衍射（ＸＲＤ）、喇曼光谱（ＲＳ）、付里叶红外光谱（ＦＴ－ＩＲ）及透射电镜扫描附件（ＳＴＥＭ）对不同条件下沉积的样品进行了结... 展开更多; 关键词三氧化钨薄膜纳米晶脉冲准分子激光沉积 PLD 结构分析 SI(111)衬底性能 WO3薄膜电致变色材料; 在线阅读下载PDF 职称材料

AlN薄膜的KrF准分子脉冲激光沉积被引量：1: 2; 作者丁艳芳门传玲 +2 位作者陈韬朱自强林成鲁《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第12期1831-1833,1836,共4页; 研究了采用脉冲激光沉积(PLD)技术在Si(100)衬底上AlN薄膜的制备及其性质。结果表明,衬底温度从室温到800℃的范围内,所得到的AlN薄膜为(002)择优取向的纤锌矿结构。随着衬底温度的升高,AlN薄膜从纳米晶结构转为多晶结构,同时表面微粗... 展开更多; 关键词 A1N薄膜 KrF准分子脉冲激光沉积微结构; 在线阅读下载PDF 职称材料

镀膜技术及设备: 3; 《中国光学》 EI CAS 1997年第4期63-64,共2页; O484.1 97042545化学水浴法沉积CdS多晶薄膜=Polycrystallinethin films CdS dipped by chemical bath deposition[刊,中]/崔海宁,冯力(中科院长春应化所.吉林,长春(130022))//太阳能学报.—1996,17(2).—189-191介绍了用化学水浴法沉积... 展开更多; 关键词化学水浴法太阳电池透射光谱多晶薄膜脉冲准分子激光沉积太阳能学报窗口材料薄膜制备化学过程铁电薄膜; 在线阅读下载PDF 职称材料

制膜技术与装置: 4; 《中国光学与应用光学》 2007年第1期64-65,共2页; 关键词准分子脉冲激光沉积薄膜材料汽相沉积 FESI 复合薄膜 SBN Δ掺杂制膜技术声表面波器件声学器件透射光谱激光沉积法衬底基片 PLD 装置; 在线阅读下载PDF 职称材料

题名WO_3/Si纳米晶薄膜的脉冲准分子激光沉积及结构分析被引量：2: 1; 作者方国家刘祖黎姚凯伦; 机构华中科技大学激光技术国家重点实验室和物理系; 出处《无机材料学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2002年第1期139-144,共6页; 基金国家自然科学基金(19775016) 湖北省自然科学基金(99J049); 文摘采用脉冲准分子激光大面积扫描沉积技术，在Ｓｉ（１１１）单晶衬底上沉积了ＷＯｘ薄膜．采用Ｘ射线衍射（ＸＲＤ）、喇曼光谱（ＲＳ）、付里叶红外光谱（ＦＴ－ＩＲ）及透射电镜扫描附件（ＳＴＥＭ）对不同条件下沉积的样品进行了结构分析．结果表明，氧分压和沉积温度是决定薄膜结构和成份的主要参数．在沉积温度３００℃以上及２０Ｐａ氧压下得到了三斜相纳米晶ＷＯ３薄膜．; 关键词三氧化钨薄膜纳米晶脉冲准分子激光沉积 PLD 结构分析 SI(111)衬底性能 WO3薄膜电致变色材料; Keywords WO3 thin films nano-crystalline PLD technique structural analyses preparation conditions Si (111); 分类号 O484 [理学—固体物理] TB43 [一般工业技术]; 在线阅读下载PDF 职称材料

题名AlN薄膜的KrF准分子脉冲激光沉积被引量：1: 2; 作者丁艳芳门传玲陈韬朱自强林成鲁; 机构华东师范大学信息学院中国科学院上海微系统与信息技术研究所; 出处《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第12期1831-1833,1836,共4页; 基金国家重点基础研究发展计划(973计划)资助项目(G2000036506); 文摘研究了采用脉冲激光沉积(PLD)技术在Si(100)衬底上AlN薄膜的制备及其性质。结果表明,衬底温度从室温到800℃的范围内,所得到的AlN薄膜为(002)择优取向的纤锌矿结构。随着衬底温度的升高,AlN薄膜从纳米晶结构转为多晶结构,同时表面微粗糙度上升。AlN晶粒呈柱状生长机制。; 关键词 A1N薄膜 KrF准分子脉冲激光沉积微结构; Keywords A1N thin film pulsed KrF laser deposition microstructure; 分类号 TN383 [电子电信—物理电子学]; 在线阅读下载PDF 职称材料

题名镀膜技术及设备: 3; 出处《中国光学》 EI CAS 1997年第4期63-64,共2页; 文摘 O484.1 97042545化学水浴法沉积CdS多晶薄膜=Polycrystallinethin films CdS dipped by chemical bath deposition[刊,中]/崔海宁,冯力(中科院长春应化所.吉林,长春(130022))//太阳能学报.—1996,17(2).—189-191介绍了用化学水浴法沉积CdS的方法。SEM,XRD以及透射光谱等分析表明,沉积在玻璃载片上的CdS膜,透明、均匀、密实,适合制作太阳电池窗口材料。同时简述了CdS膜生长,生成的化学过程和机理。图4参8(严寒); 关键词化学水浴法太阳电池透射光谱多晶薄膜脉冲准分子激光沉积太阳能学报窗口材料薄膜制备化学过程铁电薄膜; 分类号 O484.1 [理学—固体物理]; 在线阅读下载PDF 职称材料

题名制膜技术与装置: 4; 出处《中国光学与应用光学》 2007年第1期64-65,共2页; 关键词准分子脉冲激光沉积薄膜材料汽相沉积 FESI 复合薄膜 SBN Δ掺杂制膜技术声表面波器件声学器件透射光谱激光沉积法衬底基片 PLD 装置; 分类号 O484.41 [理学—固体物理]; 在线阅读下载PDF 职称材料