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电沉积聚8-羟基喹啉膜及其耐蚀性的研究 被引量:3
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作者 刘小勤 曾冬铭 +2 位作者 徐钦建 黄凤祥 刘中兴 《表面技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2013年第2期84-88,共5页
采用循环伏安法合成了一种新的聚合物膜——聚8-羟基喹啉膜,推测了聚合的机理,通过红外光谱分析了聚合膜的组成。采用单因素实验优化了成膜条件,结果表明,循环伏安法形成聚8-羟基喹啉膜的最佳条件是:8-羟基喹啉浓度为0.002 mol/L,氢氧... 采用循环伏安法合成了一种新的聚合物膜——聚8-羟基喹啉膜,推测了聚合的机理,通过红外光谱分析了聚合膜的组成。采用单因素实验优化了成膜条件,结果表明,循环伏安法形成聚8-羟基喹啉膜的最佳条件是:8-羟基喹啉浓度为0.002 mol/L,氢氧化钠浓度为0.4 mol/L,扫描速度30 mV/s,扫描8圈。采用该成膜条件在镀镍工件上电沉积聚8-羟基喹啉,其表面形成了一层浅黄色明亮光滑的致密薄膜,达到封孔目的,使得工件的耐蚀性显著提高。 展开更多
关键词 电沉积 聚8-羟基喹啉 防腐蚀 循环伏安法
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一种新型的橙红光发射材料聚8-羟基喹啉镓的合成与光谱特性
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作者 郭海波 郝玉英 +3 位作者 樊文浩 张志强 郭晓霞 许并社 《光谱学与光谱分析》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2009年第5期1358-1361,共4页
合成了高分子金属配合物聚8-羟基喹啉镓(Gaqq3)n。利用红外吸收光谱、X射线衍射谱(XRD)研究了配合物的分子结构、物相结构;利用热重(TG)分析研究了配合物的热稳定性;利用紫外吸收光谱、荧光激发和发射光谱研究了该配合物的光物理性能。... 合成了高分子金属配合物聚8-羟基喹啉镓(Gaqq3)n。利用红外吸收光谱、X射线衍射谱(XRD)研究了配合物的分子结构、物相结构;利用热重(TG)分析研究了配合物的热稳定性;利用紫外吸收光谱、荧光激发和发射光谱研究了该配合物的光物理性能。结果表明:(Gaqq3)n的热分解温度为443.6℃,具有较高的热稳定性。(Gaqq3)n的紫外吸收带位于250~500nm,存在较强的带尾吸收,表明禁带中存在带隙缺陷态。(Gaqq3)n的荧光激发带位于380~456nm,荧光发射峰位于568nm,为橙红光发射。光学带隙2.49eV。与Gaq3相比,荧光强度有所减弱,这是由于次甲基相连的两个喹啉环的扭曲导致了(Gaqq3)n的刚性和共平面性不好;由于分子共轭体系的增大,使(Gaqq3)n分子的π电子更加离域化,导致了荧光发射峰发生了红移。(Gaqq3)n有望在有机电致发光器件和有机光伏器件中得到应用。 展开更多
关键词 聚8-羟基喹啉 合成 光谱特性
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