-
题名周期排列的H-空气槽光学特性研究
被引量：3
- 1
-
-
作者
孙梅
邢素霞
陈媛媛
徐德刚
-
机构
北京工商大学计算机与信息工程学院
天津大学精仪学院激光与光电子研究所
-
出处
《光子学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2010年第9期1602-1605,共4页
-
基金
国家自然科学基金(2007CB310403)资助
-
文摘
利用电子束直写系统和反应离子束刻蚀的方法制作了周期性排列H-形空气槽.样品的参量:金膜的厚度为120nm,石英基底的厚度0.8mm(其中有5nm厚的铬层),样品是由30×30个单个H-形周期排列形成的,总体尺寸为40×40μm2.每个H-形之间的周期为1.1μm,H-形的臂长均为500nm,空气槽的宽度为120nm.然后用实验的方法测量了在近红外波段的透过曲线,在近红外波段1.6μm处的透过率约为16.3%,用传输矩阵的方法对H-形空气槽结构进行了理论模拟,实验与理论模拟结果吻合较好.随后研究了当入射光的偏振方向与H-形结构的长轴之间的夹角分别为0°、30°、45°、60°和90°时透过曲线的变化情况.通过实验和理论表明,表面等离子体在这种特殊的结构中仍然存在,并且在光的增强透过起着决定性的作用.
-
关键词
亚波长
聚电子束直写系统
H-形空气槽
-
Keywords
Subwavelength holes
EBL
H-shaped arrays
-
分类号
O485
[理学—固体物理]
O433.4
[机械工程—光学工程]
-
