电子束诱导沉积工艺的优化与简化

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作者 高尚 黄梦诗 +1 位作者 肖飞 孙千 《真空科学与技术学报》 北大核心 2025年第4期340-348,共9页

电子束诱导沉积(EBID)因沉积速率慢、沉积物纯度低等缺点,常被限制在离子束诱导沉积(IBID)工艺前的保护层制备等辅助性工艺中。文章针对工艺的效率提升与流程简化展开系统研究,重点分析了关键工艺参数对沉积速率和效果的影响,并提出了... 电子束诱导沉积(EBID)因沉积速率慢、沉积物纯度低等缺点,常被限制在离子束诱导沉积(IBID)工艺前的保护层制备等辅助性工艺中。文章针对工艺的效率提升与流程简化展开系统研究,重点分析了关键工艺参数对沉积速率和效果的影响,并提出了一种基于扫描电镜缩小框功能的简化工艺。研究表明,低加速电压条件下,沉积速率显著提高;束流与沉积厚度呈线性正相关;短驻留时间有助于获得更高的沉积速率。通过优化参数,研究实现EBID沉积效率达到0.03μm^(3)/nC,显著优于既往文献报道的效率范围。简化工艺无需依赖复杂的专用程序,操作便捷。特别是在对精度要求不高但重视效率的场景中,优化后的EBID工艺可在某些应用中完全替代IBID工艺。因此,通过优化聚焦离子束-扫描电镜中电子束诱导沉积的参数,提高沉积速率并简化操作流程,具有重要应用价值,为沉积保护层提供了全新的解决思路与替代方案。 展开更多

关键词 电子束诱导沉积 沉积速率 工艺参数优化 聚焦离子束-扫描电镜

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基于聚焦离子束-扫描电镜方法研究页岩有机孔三维结构 被引量：11

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作者 王羽 汪丽华 +3 位作者 王建强 姜政 金婵 王彦飞 《岩矿测试》 CAS CSCD 北大核心 2018年第3期235-243,共9页

页岩中纳米级有机孔的大小直接影响页岩气含气量,其连通性亦对气体运移和开采至关重要。本文选择漆辽地区龙马溪组富有机质页岩,利用聚焦离子束-扫描电镜(FIB-SEM)在纳米尺度上(10 nm)进行有机孔结构的三维重构。研究结果表明:(1)FIB-SE... 页岩中纳米级有机孔的大小直接影响页岩气含气量,其连通性亦对气体运移和开采至关重要。本文选择漆辽地区龙马溪组富有机质页岩,利用聚焦离子束-扫描电镜(FIB-SEM)在纳米尺度上(10 nm)进行有机孔结构的三维重构。研究结果表明:(1)FIB-SEM方法适用于微米级页岩的纳米(>3 nm)孔隙结构特征研究。(2)蜂窝状有机孔发育均匀,孔径集中于10~200 nm,连通性较差;界面有机孔孔径集中于200~300 nm,局部连通性较好。(3)页岩总孔隙度与有机质含量成正比。研究认为,对于以有机孔为重要储集空间的页岩,有机质分布越集中,连续性越好,研究孔隙度的表征单元体尺度越小。 展开更多

关键词 聚焦离子束-扫描电镜 三维空间结构 有机孔 纳米孔隙结构 龙马溪组页岩

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电子束、离子束、光子束纳米微细加工技术的进展 被引量：4

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作者 葛璜 《仪器仪表学报》 EI CAS CSCD 北大核心 1996年第S1期70-74,共5页

简要评述电子束、离子束、光子束纳米微细加工技术的进展状况与新方法的探索。

关键词 微细加工技术 电子束 聚焦离子束 光子束 纳米加工 工业生产 集成光学 原子层 抗蚀剂 计算机控制

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电子-离子双束纳米工作站

4

作者 马向国 顾文琪 韩立 《光电工程》 CAS CSCD 北大核心 2004年第B12期70-72,共3页

现代微电子工业迅猛发展,对电子设备的精度和功能也提出了新的要求。电子-离子双束纳米工作站是扫描电子束和聚焦离子束技术的独特融合,突破了只能对表层成像和分析的局限,它可以对样品进行三维的、表面下的观察和分析,也可以切割、研... 现代微电子工业迅猛发展,对电子设备的精度和功能也提出了新的要求。电子-离子双束纳米工作站是扫描电子束和聚焦离子束技术的独特融合,突破了只能对表层成像和分析的局限,它可以对样品进行三维的、表面下的观察和分析,也可以切割、研磨样品材料和沉积特定的材料,用它可以获得以前无法得到的样品信息。该工作站为研究人员和制造人员提供了一种对多种样品在纳米尺度进行修改、制作和分析的有效工具。 展开更多

关键词 扫描电子束 聚焦离子束 微电子技术

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聚焦离子束装置的发展及趋势 被引量：2

5

作者 李晓明 应根裕 汪健如 《真空科学与技术》 CSCD 1992年第6期478-488,共11页

综述了聚焦离子束装置的发展状况,包括各个年代、不同地区和国家的研究方向及特点。通过几台典型机描术透镜系统及其内部透镜的性能。介绍几种联机系统。最后阐明我国研究和开发聚焦离子束装置及其应用技术的必要性。

关键词 离子束 聚焦 离子束装置 FIB

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微机控制聚焦离子束扫描装置的研制与实验

6

作者 董雷 王克礼 张化一 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 1989年第3期160-162,共3页

一、引言近年来,人们对FIB(聚焦离子束)装置用于大规模集喊电路制作的离子束曝光技术产生了很大兴趣。离子束曝光对抗蚀剂材料有较高的灵敏度。

关键词 聚焦离子束 微机控制 扫描装置 抗蚀剂 电路制作 离子束刻蚀 键盘控制 集成运算放大器 邻近效应 掩模

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电子束致沉积手控生长碳纳米线 被引量：2

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作者 王鸣生 王晶云 +1 位作者 陈清 彭练矛 《电子显微学报》 CAS CSCD 2005年第1期11-16,共6页

用电子束致沉积(EBID)来制备各种纳米尺寸的结构在纳米材料的制备和器件构建方面有着良好的应用前景。相对于聚焦离子束(FIB),它具有对样品损伤小和所得结构尺寸更小等优点。此前,电子束致沉积的工作大多数在扫描电镜中完成,而在透射电... 用电子束致沉积(EBID)来制备各种纳米尺寸的结构在纳米材料的制备和器件构建方面有着良好的应用前景。相对于聚焦离子束(FIB),它具有对样品损伤小和所得结构尺寸更小等优点。此前,电子束致沉积的工作大多数在扫描电镜中完成,而在透射电镜中沉积直到近两年才发展起来。本文尝试在普通热发射透射电镜中,手动控制生长碳纳米线、点等结构。对碳纳米线的生长过程进行了原位观测,并对电子束斑的大小、形状和辐照时间对沉积物形状的影响作了初步的研究。最后对电子束致沉积可控生长无定型碳纳米线可能的应用作了一些探索。 展开更多

关键词 电子束 纳米线 聚焦离子束 发射 器件 沉积 FIB 透射电镜 损伤 辐照时间

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聚焦离子束快速精准制备玻璃透射电镜样品 被引量：4

8

作者 丁莹 史学芳 +3 位作者 杨修波 郑岚 高翔宇 刘峰 《实验室研究与探索》 CAS 北大核心 2022年第8期31-34,共4页

为了解决受荷电效应影响导致玻璃类绝缘样品加工难的问题,提出了改进聚焦离子束常规制备透射电镜样品的方法。改进的方法主要是在制备过程中引入电子束辅助沉积和机械手辅助切割,并搭配合理的离子束加工束流。其中,电子束辅助沉积可以... 为了解决受荷电效应影响导致玻璃类绝缘样品加工难的问题,提出了改进聚焦离子束常规制备透射电镜样品的方法。改进的方法主要是在制备过程中引入电子束辅助沉积和机械手辅助切割,并搭配合理的离子束加工束流。其中,电子束辅助沉积可以帮助操作人员在因荷电效应而模糊不清的图像中迅速且精准地找到关键区;机械手辅助切割可通过建立更好的电荷接地通道来减弱切割过程中材料表面的荷电现象;合理的离子束加工束流则是为了平衡荷电效应和加工速率之间的矛盾。结果表明,改进后的方法能够在保证加工速率的前提下,有效改善材料表面的荷电现象,实现离子束对玻璃材料的快速精准加工,获得良好的透射电镜样品。 展开更多

关键词 聚焦离子束 电子束辅助 机械手辅助 绝缘材料 透射电镜样品

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聚焦离子束系统中图形发生及自动套准系统的研究

9

作者 张恝恕 杜秉初 +1 位作者 陈华 周永健 《电子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 1998年第5期69-71,共3页

本文描述了一种用于聚焦离子束系统的图形发生器和自动套准系统的研究和实现，并探讨了发展和改进的方向．该系统采用硬件实现扫描控制和坐标变换．在我们的实验条件下，实现了单场扫描2秒钟，套准计算4秒钟．该系统同样也适用于电子束... 本文描述了一种用于聚焦离子束系统的图形发生器和自动套准系统的研究和实现，并探讨了发展和改进的方向．该系统采用硬件实现扫描控制和坐标变换．在我们的实验条件下，实现了单场扫描2秒钟，套准计算4秒钟．该系统同样也适用于电子束曝光机系统。 展开更多

关键词 聚焦离子束 图形发生 自动套准 电子束曝光机

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聚焦离子束制样条件对TEM样品形貌的影响 被引量：2

10

作者 孙紫涵 李明 +1 位作者 高金德 吴涛 《半导体技术》 CAS 北大核心 2023年第1期25-30,共6页

聚焦离子束(FIB)因其制样成功率和效率高,可定点精确制样等特点已经成为半导体失效分析领域重要的透射电子显微镜(TEM)制样方法。利用双束FIB系统针对TEM样品制备条件对样品形貌的影响进行了分析和研究。通过控制变量法等方法分析了FIB... 聚焦离子束(FIB)因其制样成功率和效率高,可定点精确制样等特点已经成为半导体失效分析领域重要的透射电子显微镜(TEM)制样方法。利用双束FIB系统针对TEM样品制备条件对样品形貌的影响进行了分析和研究。通过控制变量法等方法分析了FIB的电子束或离子束等制样条件可能对样品带来的损伤。通过实验发现,FIB的离子束能量对TEM样品热损伤影响较小,电子束的电压和电流是引起样品损伤的主要因素。实验证明,在电子束辅助沉积保护层时适当降低电子束的电压和电流,可有效改善样品的微观形貌。 展开更多

关键词 透射电子显微镜(TEM) 制样 失效分析 聚焦离子束(FIB) 热损伤 电子束辅助沉积 保护层

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强流束晕-混沌的模糊逻辑控制研究

11

作者 高远 袁海英 +1 位作者 谭光兴 罗文广 《原子能科学技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2012年第2期223-228,共6页

以周期性磁场聚焦传输通道中的K-V(Kapchinskij-Vladimirskij)分布离子束为例,引入带偏置的升余弦函数近似刻画实际磁场,理论分析了通道中强流离子束的束晕-混沌动力学行为。针对束晕-混沌的控制问题,提出了束晕-混沌的模糊逻辑控制方... 以周期性磁场聚焦传输通道中的K-V(Kapchinskij-Vladimirskij)分布离子束为例,引入带偏置的升余弦函数近似刻画实际磁场,理论分析了通道中强流离子束的束晕-混沌动力学行为。针对束晕-混沌的控制问题,提出了束晕-混沌的模糊逻辑控制方法。模糊控制器采用Mamdani推理系统,其输出作为控制因子线性调整外部磁场强度。用模糊相平面法分析了控制系统的稳定性。仿真结果显示:在控制条件下,混沌变化的束包络半径被稳定控制;将该方法应用于多粒子模型,消除了束晕及其再生现象,束的品质获得较大提高。该模糊控制方法具有不依赖束输运数学模型、控制器简单、磁场调节呈线性关系、易于工程实现等优点。 展开更多

关键词 强流离子束 周期聚焦磁场 束晕-混沌 模糊控制

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透射电镜原位力学拉伸-压缩加载装置的制备及应用 被引量：1

12

作者 张丹利 刘博宇 +1 位作者 王悦存 单智伟 《电子显微学报》 CAS CSCD 北大核心 2022年第6期606-613,共8页

具有实时观察、定量测试功能的透射电子显微镜下的原位力学测试技术可将在力作用下材料的微观结构演变与力学实验数据对应起来,帮助人们直观、深入地认识和理解材料的变形与损伤行为及其内在的本征机制,为材料性能的改进提供理论指导依... 具有实时观察、定量测试功能的透射电子显微镜下的原位力学测试技术可将在力作用下材料的微观结构演变与力学实验数据对应起来,帮助人们直观、深入地认识和理解材料的变形与损伤行为及其内在的本征机制,为材料性能的改进提供理论指导依据。本文介绍一种利用聚焦离子束刻蚀技术制备原位纳米力学实验拉伸-压缩加载装置的方法和应用案例。该方法简单易行,制备的装置可有效地保障拉伸实验接近单轴拉伸状态,同时该装置还可用于压缩、弯曲实验,并能实现拉伸、压缩、弯曲加载方式的灵活切换。 展开更多

关键词 透射电子显微镜 原位纳米力学 聚焦离子束 拉伸-压缩加载装置

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束晕-混沌的复杂性理论与控制方法及其应用前景 被引量：26

13

作者 方锦清 陈关荣 《物理学进展》 CSCD 北大核心 2003年第3期321-388,共68页

　本文系统论述涉及强流加速器等强流离子束装置中产生的束晕 混沌的复杂性理论与控制方法及其应用前景。强流离子束在核材料生产与增殖、洁净核能、放射性废物嬗变、放射性药物生产、重离子聚变、高能物理、核科学与工程、国防与民用... 　本文系统论述涉及强流加速器等强流离子束装置中产生的束晕 混沌的复杂性理论与控制方法及其应用前景。强流离子束在核材料生产与增殖、洁净核能、放射性废物嬗变、放射性药物生产、重离子聚变、高能物理、核科学与工程、国防与民用工业和医疗等许多方面都有极其重要的应用潜力和诱人的发展前景。尤其是,近年来强流加速器驱动的放射性洁净核能系统是国内外关注的热门课题,因为它比常规核电更安全、更干净、更便宜。但是,强流离子束形成的束晕 混沌的复杂性现象已引起了国内外广泛关注,需要加以抑制、控制和消除这类现象,解决这一难题已经成为强流离子束应用中的关键问题之一。目前不仅必须深入研究这类束晕 混沌的复杂特性及其产生的物理机制,而且需要研究如何实现对束晕 混沌的有效控制,并寻求和发展其新理论、新方法和新技术。这就向强流离子束物理和非线性-复杂性科学及其技术提出了一系列极富挑战性的新课题。本文结合国内外的研究概况,根据我们多年来的研究成果,特别是我们首创性地提出了一些束晕 混沌的有效控制方法,它们包括:非线性反馈控制 法,小波反馈控制法,变结构控制法,延迟反馈控制法,参数自适应控制法等,进行重点的介绍。 展开更多

关键词 束晕-混沌控制 复杂性理论 控制方法 强流加速器等强流离子束装置 放射性洁净核能系统

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带源尖微调装置的亚微米离子枪的研究 被引量：3

14

作者 薛钰芝 李荣玉 +2 位作者 薛祖庆 陆家和 王大文 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 1990年第6期368-372,共5页

微电子学中微细加工及表面分析技术要求亚微米束径的初离子束系统。我们研制成了源尖微调型的亚微米离子枪。它由液态金属离子源,源尖微调装置,离子透镜及静电八极偏转器等组成。在束能12keV时,束流1×10^(-9)A,束径达亚微米。源尖... 微电子学中微细加工及表面分析技术要求亚微米束径的初离子束系统。我们研制成了源尖微调型的亚微米离子枪。它由液态金属离子源,源尖微调装置,离子透镜及静电八极偏转器等组成。在束能12keV时,束流1×10^(-9)A,束径达亚微米。源尖调节精度X、Y:5μm,可调范围X、Y:1.000mm;束扫描范围2×2mm^2。该枪已用于扫描离子显微镜中。 展开更多

关键词 微调装置 离子显微镜 表面分析技术 可调范围 离子源 偏转器 调节精度 液态金属 束能 聚焦离子束

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FIB/SEM双束系统在微纳米材料电学性能测试中的应用 被引量：6

15

作者 彭开武 《电子显微学报》 CAS CSCD 2016年第1期75-80,共6页

电学性能测试是微纳米材料物性研究的重要组成部分,测试电极的制备是其中一个难点。光学光刻、电子束曝光或聚焦离子束加工是三种不同的电极制备技术。每种技术都有自己的特点,采用何种技术取决于微纳米材料的尺寸、形态及测试目的等诸... 电学性能测试是微纳米材料物性研究的重要组成部分,测试电极的制备是其中一个难点。光学光刻、电子束曝光或聚焦离子束加工是三种不同的电极制备技术。每种技术都有自己的特点,采用何种技术取决于微纳米材料的尺寸、形态及测试目的等诸多因素。此外,选择适当的制样方法对后续的电学性能测试也很关键。本文以一台配备了电子束曝光功能附件的聚焦离子束(FIB)/扫描电子显微镜(SEM)双束系统为工具,结合光学光刻等其它加工技术,详细介绍了其针对不同类型微纳米材料进行电极制备的过程和方法。 展开更多

关键词 聚焦离子束 双束系统 微纳米材料 电学性能 电极制备 电子束曝光

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基于FIB加工和SEM-EDS技术联用对共格BCC/B2高熵合金的元素分布表征分析 被引量：1

16

作者 史淑艳 王成林 +2 位作者 戚琳 马跃 邹龙江 《电子显微学报》 CAS CSCD 北大核心 2022年第3期258-264,共7页

BCC/B2高熵合金中体心立方结构(body centered cube, BCC)纳米粒子影响其软磁性能和高温力学性能。然而,扫描电子显微镜-能量色散谱仪(scanning electron microscopy-X-ray energy dispersive spectroscopy, SEM-EDS)难以表征BCC纳米粒... BCC/B2高熵合金中体心立方结构(body centered cube, BCC)纳米粒子影响其软磁性能和高温力学性能。然而,扫描电子显微镜-能量色散谱仪(scanning electron microscopy-X-ray energy dispersive spectroscopy, SEM-EDS)难以表征BCC纳米粒子的元素分布。本文利用聚焦离子束(focused ion beam, FIB)和SEM-EDS联用,制备BCC/B2高熵合金的纳米尺度薄片,并对其元素分布进行了研究。结果表明,AlCoFeCr高熵合金微观组织是由B2相与共格的BCC相构成,其中BCC粒子约为20~40 nm。对比SEM-EDS对块体试样和FIB制备的纳米尺度的薄片元素分布结果,FIB制备的纳米薄片提高了EDS的分辨率,BCC纳米粒子富集Cr元素,且B2基体相富集Al、Co和Fe元素。电子的加速电压和束流强度影响纳米薄片中BCC纳米粒子元素分布表征结果的准确性,其中30 kV 6.4 nA下元素分布表征结果的准确度最高。 展开更多

关键词 高熵合金 纳米颗粒 元素分布 聚焦离子束 扫描电子显微镜-能量色散谱仪

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EB-PVD热障涂层TGO三维结构分析 被引量：3

17

作者 敖波 钟建兰 古玉祺 《仪器仪表学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2018年第8期136-142,共7页

热生长氧化物（TGO）的厚度及形貌是影响热障涂层热应力的关键因素。首先开展了电子束物理气相沉积（EB-PVD）热障涂层1 050℃恒温氧化实验,采用聚焦离子束-扫描电子显微镜（FIB-SEM）实现了EB-PVD热障涂层三维成像,获得了576幅热障涂... 热生长氧化物（TGO）的厚度及形貌是影响热障涂层热应力的关键因素。首先开展了电子束物理气相沉积（EB-PVD）热障涂层1 050℃恒温氧化实验,采用聚焦离子束-扫描电子显微镜（FIB-SEM）实现了EB-PVD热障涂层三维成像,获得了576幅热障涂层高温氧化48 h后的SEM图像;其次,通过EB-PVD热障涂层三维结构的分割与提取,得到了真实TGO三维结构和柱间孔隙三维分布,实现了TGO层的厚度测量;最后建立了基于TGO三维结构和柱间孔隙三维分布的EB-PVD热障涂层有限元热应力分析模型,分析了真实TGO三维结构和柱间孔隙三维分布对EB-PVD热障涂层热应力的影响。结果表明,TGO层的平均厚度为2.37μm,有限元模型中最大拉应力为403 MPa,最大压应力为-282 MPa,最大拉应力与最大压应力均出现在陶瓷层中的柱间孔隙处。 展开更多

关键词 电子束物理气相沉积 热生长氧化物 聚焦离子束-扫描电子显微镜 三维结构

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FIB/SEM双束系统在微纳加工与表征中的应用 被引量：3

18

作者 彭开武 《中国材料进展》 CAS CSCD 2013年第12期728-734,751,共8页

简要回顾了聚焦离子束/扫描电子显微镜双束系统在国家纳米科学中心的应用。围绕透射电镜样品制备、扫描电子显微镜与扫描离子显微镜、纳米材料的二维与三维表征等材料表征,以及离子束直接刻蚀加工如光子晶体阵列器件原型加工、材料沉积... 简要回顾了聚焦离子束/扫描电子显微镜双束系统在国家纳米科学中心的应用。围绕透射电镜样品制备、扫描电子显微镜与扫描离子显微镜、纳米材料的二维与三维表征等材料表征,以及离子束直接刻蚀加工如光子晶体阵列器件原型加工、材料沉积加工如用于电学性能测试的四电极制作、指定点加工如原子力显微镜针尖修饰、三维加工、电子束曝光及其与聚焦离子束联合加工等纳米结构加工两方面,以些具体实例分类进行了介绍。针对限制其应用的些不利因素,如加工效率低、面积小、精度不足、加工损伤等问题,些新技术如新型离子源Plasma、He+/Ne+离子等与现有Ga+聚焦离子束系统配合将成为未来发展方向。 展开更多

关键词 聚焦离子束 双束系统 纳米材料表征 纳米结构加工 电子束曝光 透射电镜样品制备

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纳米测量仪器和纳米加工技术 被引量：14

19

作者 姚骏恩 《中国工程科学》 2003年第1期33-37,共5页

纳米科技是当今国际上的一个热点。文章对纳米科技作了简要介绍 ,纳米测量和加工是纳米科技中的一个不可缺少的重要组成部分。叙述了发展纳米测量和纳米加工技术的两个主要途径 :一是发展传统技术 ,主要是电子显微术以及最近发展起来的... 纳米科技是当今国际上的一个热点。文章对纳米科技作了简要介绍 ,纳米测量和加工是纳米科技中的一个不可缺少的重要组成部分。叙述了发展纳米测量和纳米加工技术的两个主要途径 :一是发展传统技术 ,主要是电子显微术以及最近发展起来的聚焦离子束 (FIB) -电子束数控加工中心 ;二是创造新的测量仪器 ,建立新原理和新方法 ,介绍了国内外电子显微镜和扫描探针显微镜这两类纳米测量分析仪器的发展、应用和生产现状。指出我国电子显微仪器和扫描探针显微镜的开发和生产面临困境 ,应尽快建立和加强自己的电子显微仪器和扫描探针显微镜等纳米测量和纳米加工设备制造产业 。 展开更多

关键词 纳米测量仪器 纳米加工技术 纳米科技 电子显微镜 扫描探针显微镜 聚焦离子束-电子束装置

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SiN薄膜纳米孔芯片制造工艺实验研究 被引量：2

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作者 袁志山 蔺卡宾 +6 位作者 杨浩杰 纪安平 沙菁 谢骁 倪中华 易红 陈云飞 《东南大学学报（自然科学版）》 EI CAS CSCD 北大核心 2016年第5期977-981,共5页

针对第3代基因测序的需求,提出一种大规模的氮化硅薄膜纳米孔芯片制造技术.通过测量不同膜厚氮化硅薄膜的应力,选择适用于纳米孔制造的最佳厚度为100 nm.采用低压化学气相沉积、反应离子刻蚀和释放工艺制备出高成品率的氮化硅纳米薄膜芯... 针对第3代基因测序的需求,提出一种大规模的氮化硅薄膜纳米孔芯片制造技术.通过测量不同膜厚氮化硅薄膜的应力,选择适用于纳米孔制造的最佳厚度为100 nm.采用低压化学气相沉积、反应离子刻蚀和释放工艺制备出高成品率的氮化硅纳米薄膜芯片.在此基础上,使用聚焦离子束和高能电子束实现氮化硅薄膜纳米孔的制造.研究聚焦离子束刻蚀时间、电流与纳米孔直径的关系.实验结果表明,采用聚焦离子束将氮化硅薄膜的厚度减薄至40 nm以下时,制作纳米孔的效果更好.采用聚焦离子束制造的氮化硅薄膜纳米孔最小直径为26 nm,而采用电子束制备的最小直径可达3.5 nm.该方法为基于固体纳米孔的DNA测序检测提供了有力的支撑. 展开更多

关键词 氮化硅 纳米孔 聚焦离子束 电子束

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