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聚焦离子束致形变微纳加工研究进展 被引量:3
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作者 毛逸飞 吴文刚 徐军 《电子显微学报》 CAS CSCD 2016年第4期369-378,共10页
聚焦离子束技术(focused ion beam,FIB)由于其高精度刻蚀、定点加工、实时成像等优势,常用于精密加工、TEM制样等领域。其工作机理通常为:刻蚀、淀积与成像。而基于FIB新的加工手段正在被探索和研究,其中就包括两种聚焦离子束致形变技术... 聚焦离子束技术(focused ion beam,FIB)由于其高精度刻蚀、定点加工、实时成像等优势,常用于精密加工、TEM制样等领域。其工作机理通常为:刻蚀、淀积与成像。而基于FIB新的加工手段正在被探索和研究,其中就包括两种聚焦离子束致形变技术,分别为聚焦离子束应力引入致形变技术(FIB-stress induced deformation,FIBSID)和聚焦离子束物质再分布致形变技术(FIB-material-redistribution induced deformation,FIB-MRD)。前者通过控制FIB辐照时离子注入与溅射之间的竞争关系实现悬臂梁的多角度弯曲,后者利用粒子与物质作用时的瑞利不稳定性构建纳米结构,在一定意义上扩充了聚焦离子束的应用范围。运用上述方法可以加工三维微纳螺旋,悬浮光滑纳米弦以及大规模阵列化纳米网孔等多样化微/纳功能构件,在微流控系统,太赫兹通信,光学天线等领域具有很强的应用前景。 展开更多
关键词 聚焦离子束应力引入致形变 聚焦离子物质再分布致形变 微/纳功能结构加工
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X80管线钢中微观组织非均匀性对残余应力影响的实验研究 被引量:3
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作者 任春华 周治顺 +1 位作者 计宏伟 朱雨逸 《精密成形工程》 北大核心 2023年第8期106-112,共7页
目的从微纳尺度研究X80管线钢微观组织的不均匀性对残余应力分布及释放过程的影响。方法为了突出微观组织的非均匀特征,将X80管线钢升温到固溶温度(1200℃)后随炉冷却,得到由大量多边形铁素体(PF)和退化珠光体(DP)构成的显微组织。以腐... 目的从微纳尺度研究X80管线钢微观组织的不均匀性对残余应力分布及释放过程的影响。方法为了突出微观组织的非均匀特征,将X80管线钢升温到固溶温度(1200℃)后随炉冷却,得到由大量多边形铁素体(PF)和退化珠光体(DP)构成的显微组织。以腐蚀后的自然形貌为散斑模型,采用聚焦离子束技术在不同微观组织内部进行环芯槽的铣削加工,并获取芯柱表面的变形图像,最后通过数字图像相关方法计算芯柱表面的应变演化。同时,利用纳米压痕技术测试不同区域的弹性模量,结合弹性理论计算分析不同组织内部的微观残余应力。结果微观结构的不均匀性直接影响了残余应力的分布及释放路径。DP组织中的vonMises平均应变约是PF区域的2倍,残余应力主要存在于作为软质相的铁素体基底中。纳米压痕实验结果表明,DP中弹性模量的浮动比PF的更加剧烈。不同铣削深度下的残余应力呈现出非线性特征。当铣削深度达到1.1μm时,PF和DP区域松弛释放的残余应力分别为232.6 MPa和385.2 MPa。结论在微观尺度上,不同组织内的残余应力状态存在差异。微观组织在碳化物、结构形貌等方面的非均匀性将引起表面残余应力的梯度分布。 展开更多
关键词 X80管线钢 微观残余应力 聚焦离子技术 数字图像相关方法 应变
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可形变光学超构表面及其动态调控 被引量:1
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作者 洪孝荣 陈珊珊 李家方 《中国光学》 EI CAS CSCD 北大核心 2021年第4期867-885,共19页
经过近10年的发展,超构表面作为一种新型的二维人工微纳结构,在光场特性调控方面展现出了巨大的研究潜力。但要实现小型化、集成化的超构表面光电子器件,还需要进一步发展具备动态调控功能的光学超构表面。本文综述了近年来发展的可形... 经过近10年的发展,超构表面作为一种新型的二维人工微纳结构,在光场特性调控方面展现出了巨大的研究潜力。但要实现小型化、集成化的超构表面光电子器件,还需要进一步发展具备动态调控功能的光学超构表面。本文综述了近年来发展的可形变超构表面的研究进展,简要概述了以纳米剪纸技术为基础的可形变超构表面的设计和实现方法,并重点介绍了其在相位、偏振、光学手性、非线性辐射等方面优异的调控性能及其应用。这种灵活的、易实现的可形变超构表面在光场动态调控方面具有独特优势,为设计和实现新型微纳光电子器件提供了新的策略,有望推动新兴的应变光电子学的发展。 展开更多
关键词 超构表面 纳米剪纸 聚焦离子 形变 光场动态调控
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润滑油添加剂对齿轮微点蚀的影响研究
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作者 王云飞 张建荣 苏朔 《石油炼制与化工》 CAS CSCD 北大核心 2024年第12期109-118,共10页
探索建立微牵引力测定仪(MTM)、聚离子束、扫描电子显微镜、透射电子显微镜和能量色散光谱相结合的方法对齿轮微点蚀进行识别和评价。研究发现:添加剂的减摩性能和抗磨性能是影响其抗微点蚀性能的关键因素,在MTM试验中存在一个摩擦轨迹... 探索建立微牵引力测定仪(MTM)、聚离子束、扫描电子显微镜、透射电子显微镜和能量色散光谱相结合的方法对齿轮微点蚀进行识别和评价。研究发现:添加剂的减摩性能和抗磨性能是影响其抗微点蚀性能的关键因素,在MTM试验中存在一个摩擦轨迹宽度不大于400μm、摩擦因数不小于0.097的微点蚀易产生区域,添加剂和配方的研发应避开这个微点蚀易产生区域,综合平衡减摩性和抗磨性;添加剂所形成的耐机械剪切的摩擦膜抗磨性能越好,使得MTM试验中的摩擦轨迹更窄,应力更集中,更易产生微点蚀;在产生微点蚀的润滑体系中引入降低体系摩擦因数的添加剂可改善其抗微点蚀性能。 展开更多
关键词 微点蚀 聚焦离子 添加剂 摩擦 应力
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ESD与短脉冲EOS失效的微观形态分析及验证 被引量:10
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作者 龚瑜 黄彩清 吴凌 《半导体技术》 CAS 北大核心 2019年第1期58-64,共7页
静电放电(ESD)和过电应力(EOS)是引起芯片现场失效的最主要原因,这两种相似的失效模式使得对它们的失效机理的判断十分困难,尤其是短EOS脉冲作用时间只有几毫秒,造成的损坏与ESD损坏很相似。因此,借助扫描电子显微镜(SEM)和聚焦离子束(F... 静电放电(ESD)和过电应力(EOS)是引起芯片现场失效的最主要原因,这两种相似的失效模式使得对它们的失效机理的判断十分困难,尤其是短EOS脉冲作用时间只有几毫秒,造成的损坏与ESD损坏很相似。因此,借助扫描电子显微镜(SEM)和聚焦离子束(FIB)等成像仪器以及芯片去层处理技术分析这两种失效机理的差别非常重要。通过实例分析这两种失效的机理及微观差别,从理论角度解释ESD和EOS的失效机理,分析这两种失效在发生背景、失效位置、损坏深度和失效路径方面的差异,同时对这两种失效进行模拟验证。这种通过失效微观形态进行研究的方法,可以实现失效机理的甄别,对于提高ESD防护等级和EOS防护能力有着重要的参考作用。 展开更多
关键词 过电应力(EOS) 静电放电(ESD) 聚焦离子(FIB) 失效分析 芯片去层处理
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