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AgO_x掩膜的制备和性能研究 被引量:1
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作者 张约品 阮昊 +1 位作者 沈德芳 干福熹 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2003年第2期156-157,共2页
磁控反应溅射制备了AgOx掩膜,用聚焦激光热效应装置测得的光透过特性,分析了AgOx掩膜的开关性能。结果表明,AgOx 掩膜在较低的温度作用下有良好的开关性能,反应AgOx Ag+O2可逆,适用于LSC-super-RENS光盘。用X-ray和TEM分析了热处理后的A... 磁控反应溅射制备了AgOx掩膜,用聚焦激光热效应装置测得的光透过特性,分析了AgOx掩膜的开关性能。结果表明,AgOx 掩膜在较低的温度作用下有良好的开关性能,反应AgOx Ag+O2可逆,适用于LSC-super-RENS光盘。用X-ray和TEM分析了热处理后的AgOx薄膜的成分结构,表明200℃热处理AgOx掩膜存在纳米量级Ag颗粒。 展开更多
关键词 磁控反应溅射 AgOx掩膜 聚焦激光热效应 开关性能 制备 光盘
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