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题名一种248nm光刻胶成膜树脂的合成及相关性能研究
被引量：8
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作者
刘建国
蒋明
曾晓雁
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机构
华中科技大学武汉光电国家实验室 激光与太赫兹技术功能实验室
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出处
《影像科学与光化学》
CAS
CSCD
北大核心
2013年第5期349-360,共12页
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基金
国家自然科学基金面上项目(51172081)和重点项目(51135005)
中央高校基本科研业务费资助(2013TS044)
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文摘
通过自由基共聚合,制备了前驱体共聚物聚对特丁氧酰氧基苯乙烯-共-N-羟基-5-降冰片烯-2,3-二甲酰亚胺甲基丙烯酸酯,该共聚物可以通过热解而部分脱除酚羟基上的保护基,得到目标共聚物聚对羟基苯乙烯-共-N-羟基-5-降冰片烯-2,3-二甲酰亚胺甲基丙烯酸酯-共-对特丁氧酰氧基苯乙烯.通过对具有合适分子量的目标共聚物的有机溶剂溶解性、热性能、成膜性、抗干蚀刻能力和在248nm处光学吸收(为0.212μm-1)性能进行研究,表明该聚合物能满足248nm光刻胶成膜树脂的要求;此外,目标共聚物还具有酸致脱保性能.具有合适分子量和脱保率的目标共聚物,通过对其酸解留膜率的测试,推测其可能满足248nm光刻胶的曝光显影工艺过程.
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关键词
248
nm光刻胶
成膜树脂
聚对羟基苯乙烯-共-n-羟基-5-降冰片烯-2
3-二甲酰亚胺甲基丙烯酸酯-共-对特丁氧酰氧基苯乙烯
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Keywords
248 nm photoresist
matrix resin
poly （p-hydroxystyrene-co-n-hydroxy-5-norbornene-2,3-dicarboximido methacrylate-co-p-tert-butoxycarbonyloxystyrene）
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分类号
O631.3
[理学—高分子化学]
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