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聚二甲基硅氧烷微流控芯片的紫外光照射表面处理研究
被引量：
26
1
作者
孟斐
陈恒武
+2 位作者
方群
朱海霖
方肇伦
《高等学校化学学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
2002年第7期1264-1268,共5页
研究了紫外光化学表面改性对聚二甲基硅氧烷 (PDMS)微流控芯片的片基间粘接力及毛细管通道电渗流性能的影响 .PDMS片基经紫外光射照后 ,粘接力增强 ,可实现 PDMS芯片的永久性封合 ,同时亲水性得到改善 ,通道中的电渗流增大 .与文献报道...
研究了紫外光化学表面改性对聚二甲基硅氧烷 (PDMS)微流控芯片的片基间粘接力及毛细管通道电渗流性能的影响 .PDMS片基经紫外光射照后 ,粘接力增强 ,可实现 PDMS芯片的永久性封合 ,同时亲水性得到改善 ,通道中的电渗流增大 .与文献报道的等离子体表面处理方法比较 ,采用紫外光表面处理 ,设备简单 ,操作方便 ,耗费少 ,是一种简单易行的聚二甲基硅氧烷芯片表面处理方法 .
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关键词
紫外光
微流控分析系统
聚二甲基硅氧烷芯片
光化学
表面处理
微型金分析系统
毛细管电泳
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职称材料
PDMS微流控芯片光刻加工的套刻对准方法
被引量：
2
2
作者
赵幸福
冯泽宇
+2 位作者
陈荣进
袁佳琪
赵晓晓
《实验室研究与探索》
CAS
北大核心
2021年第12期33-36,55,共5页
多层通道微流控芯片加工中套刻光刻的对准操作难度较大,结合使用两种对准方法并分步进行实验操作可以降低难度:使用圆套十字架对准标记的对准方法。圆便于识别,可用于粗对准,十字架线条用以精对准,充分发挥圆套十字架标记结构中“面”...
多层通道微流控芯片加工中套刻光刻的对准操作难度较大,结合使用两种对准方法并分步进行实验操作可以降低难度:使用圆套十字架对准标记的对准方法。圆便于识别,可用于粗对准,十字架线条用以精对准,充分发挥圆套十字架标记结构中“面”与“线”各自的优势,并将套刻对准分两步进行,降低难度;套刻光刻前后掩膜、硅片的原位安装也可实现对准。此方法可较大地减小掩膜硅片间的旋转偏差,并使掩膜及硅片标记相互靠近便于查找、对准。结合使用两对准方案可提高对准精度,可实现偏差小于5μm的对准,满足绝大多数微流控芯片的使用要求,降低难度并使套刻对准操作系统而规范化,提高操作速度与稳定性,适合微流控芯片的套刻加工。
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关键词
聚
二甲基硅氧烷
微流控
芯片
套刻
光刻对准
对准标记
掩膜
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职称材料
题名
聚二甲基硅氧烷微流控芯片的紫外光照射表面处理研究
被引量：
26
1
作者
孟斐
陈恒武
方群
朱海霖
方肇伦
机构
浙江大学化学系
出处
《高等学校化学学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
2002年第7期1264-1268,共5页
基金
国家自然科学基金 (批准号 :2 0 2 990 3 0
2 0 2 990 3 1)
文摘
研究了紫外光化学表面改性对聚二甲基硅氧烷 (PDMS)微流控芯片的片基间粘接力及毛细管通道电渗流性能的影响 .PDMS片基经紫外光射照后 ,粘接力增强 ,可实现 PDMS芯片的永久性封合 ,同时亲水性得到改善 ,通道中的电渗流增大 .与文献报道的等离子体表面处理方法比较 ,采用紫外光表面处理 ,设备简单 ,操作方便 ,耗费少 ,是一种简单易行的聚二甲基硅氧烷芯片表面处理方法 .
关键词
紫外光
微流控分析系统
聚二甲基硅氧烷芯片
光化学
表面处理
微型金分析系统
毛细管电泳
Keywords
Microfluidic analytical system
PDMS chip
Photochemical surface modification
分类号
O657.8 [理学—分析化学]
TN4 [电子电信—微电子学与固体电子学]
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职称材料
题名
PDMS微流控芯片光刻加工的套刻对准方法
被引量：
2
2
作者
赵幸福
冯泽宇
陈荣进
袁佳琪
赵晓晓
机构
南通大学医学院
出处
《实验室研究与探索》
CAS
北大核心
2021年第12期33-36,55,共5页
基金
国家自然科学基金面上项目(31770399)
南通市科技计划项目(JC2018089)
南通大学人才引进项目(03081068)。
文摘
多层通道微流控芯片加工中套刻光刻的对准操作难度较大,结合使用两种对准方法并分步进行实验操作可以降低难度:使用圆套十字架对准标记的对准方法。圆便于识别,可用于粗对准,十字架线条用以精对准,充分发挥圆套十字架标记结构中“面”与“线”各自的优势,并将套刻对准分两步进行,降低难度;套刻光刻前后掩膜、硅片的原位安装也可实现对准。此方法可较大地减小掩膜硅片间的旋转偏差,并使掩膜及硅片标记相互靠近便于查找、对准。结合使用两对准方案可提高对准精度,可实现偏差小于5μm的对准,满足绝大多数微流控芯片的使用要求,降低难度并使套刻对准操作系统而规范化,提高操作速度与稳定性,适合微流控芯片的套刻加工。
关键词
聚
二甲基硅氧烷
微流控
芯片
套刻
光刻对准
对准标记
掩膜
Keywords
polydimethylsiloxane(PDMS)microfluidic chip
mask-to-wafer alignment
lithography alignment
alignment marks
mask
分类号
TN492 [电子电信—微电子学与固体电子学]
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职称材料
题名
作者
出处
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被引量
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1
聚二甲基硅氧烷微流控芯片的紫外光照射表面处理研究
孟斐
陈恒武
方群
朱海霖
方肇伦
《高等学校化学学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
2002
26
在线阅读
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职称材料
2
PDMS微流控芯片光刻加工的套刻对准方法
赵幸福
冯泽宇
陈荣进
袁佳琪
赵晓晓
《实验室研究与探索》
CAS
北大核心
2021
2
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职称材料
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