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磁响应聚二甲基硅氧烷阵列表面水滴的定向去除
1
作者
田永图
张洋
+2 位作者
李泓颉
来华
成中军
《高等学校化学学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
2024年第9期140-147,共8页
利用模板赋形和表面修饰方法,制备了具有磁响应性的聚二甲基硅氧烷(PDMS)柱状阵列(SMPA).该柱状阵列具有超疏水及低黏附特性,在外加磁场作用下表现出可逆弯曲形变,且弯曲程度随外加磁场强度和柱状阵列中磁性粒子含量的增加而增大.在磁...
利用模板赋形和表面修饰方法,制备了具有磁响应性的聚二甲基硅氧烷(PDMS)柱状阵列(SMPA).该柱状阵列具有超疏水及低黏附特性,在外加磁场作用下表现出可逆弯曲形变,且弯曲程度随外加磁场强度和柱状阵列中磁性粒子含量的增加而增大.在磁场作用下,柱状阵列弯曲能够挤压结构内的水滴,迫使其从表面跳离.研究结果表明,当柱状阵列表面尺寸一致时,与静态结构相比,磁响应动态结构可以实现更小水滴在表面的去除.同时,水滴离开的方向和体积与柱状阵列的结构参数和弯曲角度紧密相关.基于磁场作用,水滴跳离的体积大小和方向可以实现智能调控.
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关键词
超疏水
聚二甲基硅氧烷柱状阵列
磁响应
水滴跳离
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职称材料
题名
磁响应聚二甲基硅氧烷阵列表面水滴的定向去除
1
作者
田永图
张洋
李泓颉
来华
成中军
机构
哈尔滨工业大学化工与化学学院
出处
《高等学校化学学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
2024年第9期140-147,共8页
基金
国家自然科学基金(批准号:22075061)资助.
文摘
利用模板赋形和表面修饰方法,制备了具有磁响应性的聚二甲基硅氧烷(PDMS)柱状阵列(SMPA).该柱状阵列具有超疏水及低黏附特性,在外加磁场作用下表现出可逆弯曲形变,且弯曲程度随外加磁场强度和柱状阵列中磁性粒子含量的增加而增大.在磁场作用下,柱状阵列弯曲能够挤压结构内的水滴,迫使其从表面跳离.研究结果表明,当柱状阵列表面尺寸一致时,与静态结构相比,磁响应动态结构可以实现更小水滴在表面的去除.同时,水滴离开的方向和体积与柱状阵列的结构参数和弯曲角度紧密相关.基于磁场作用,水滴跳离的体积大小和方向可以实现智能调控.
关键词
超疏水
聚二甲基硅氧烷柱状阵列
磁响应
水滴跳离
Keywords
Superhydrophobicity
Polydimethylsiloxane columnar arrays
Magnetic responsiveness
Droplets jumping
分类号
O631 [理学—高分子化学]
O647 [理学—物理化学]
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作者
出处
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1
磁响应聚二甲基硅氧烷阵列表面水滴的定向去除
田永图
张洋
李泓颉
来华
成中军
《高等学校化学学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
2024
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