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具有自洁和耐磨功能SiO_2/TiO_2减反膜的制备与研究 被引量:12
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作者 王建伍 白宇辰 +2 位作者 姚微 王红宁 陈若愚 《无机材料学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2011年第7期769-773,共5页
以正硅酸乙酯(TEOS)和钛酸正丁酯(TBOT)为原料,采用溶胶-凝胶法制备了SiO2溶胶和TiO2溶胶,利用浸渍提拉法制备了SiO2/TiO2双层减反膜.用紫外-可见分光光度计(UV-Vis)、X射线衍射仪(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、原子力显微镜(... 以正硅酸乙酯(TEOS)和钛酸正丁酯(TBOT)为原料,采用溶胶-凝胶法制备了SiO2溶胶和TiO2溶胶,利用浸渍提拉法制备了SiO2/TiO2双层减反膜.用紫外-可见分光光度计(UV-Vis)、X射线衍射仪(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、原子力显微镜(AFM)、椭圆偏振光谱仪和接触角测量仪等分析表征了薄膜的特性,以光催化降解甲基橙溶液实验来评价薄膜的自洁功能,考察了SiO2/TiO2双层减反膜的耐磨擦性.结果表明,SiO2/TiO2双层减反膜在400-800nm可见光波段的透光率最高可达97.2%,薄膜表面平整,结构致密且粗糙度小,经紫外灯照射后薄膜的水接触角接近0°,光催化2h后可将5mg/L的甲基橙溶液降解43.6%.SiO2/TiO2减反膜还具有优良的耐磨擦性能. 展开更多
关键词 溶胶-凝胶 减反膜 自洁功能 耐磨擦性
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不同厚度三倍频SiO_2增透膜的设计、制备与改性 被引量:3
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作者 张雨露 张欣向 +2 位作者 业海平 晏良宏 江波 《无机化学学报》 SCIE CAS CSCD 北大核心 2012年第1期119-124,共6页
本文通过光学计算设计了具有不同厚度的三倍频增透膜。以氨水为催化剂、正硅酸乙酯(TEOS)为前驱体,通过溶胶-凝胶(Sol-Gel)技术制得SiO2溶胶;采用浸渍提拉法镀膜得到符合设计要求的三倍频增透膜。研究结果表明,增透膜的耐磨擦性能随着... 本文通过光学计算设计了具有不同厚度的三倍频增透膜。以氨水为催化剂、正硅酸乙酯(TEOS)为前驱体,通过溶胶-凝胶(Sol-Gel)技术制得SiO2溶胶;采用浸渍提拉法镀膜得到符合设计要求的三倍频增透膜。研究结果表明,增透膜的耐磨擦性能随着膜层厚度的增大而增大,本文制得的厚度达到200 nm以上的三倍频增透膜耐磨擦性能显著优于传统的1/4波长三倍频增透膜。此外,本文以甲基含氢硅油为膜表面修饰剂,提出一种全新的超快的表面疏水性改性的方法。经该方法处理后,增透膜由亲水膜转变为疏水膜,对水的接触角从23.4°增大至95°,增透膜的耐环境性显著提高。 展开更多
关键词 溶胶-凝胶技术 三倍频 增透膜 甲基含氢硅油 耐磨擦性 耐环境
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多功能单层二氧化硅增透膜的设计与制备 被引量:2
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作者 张欣向 林丽晓 +2 位作者 苗霞 叶龙强 江波 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2014年第23期23147-23151,共5页
通过膜层设计软件(TFCalcTM )设计了在400-1100nm 波长范围内具有高透过率的单层增透膜.以正硅酸乙酯(TEOS)和甲基三乙氧基硅烷(MTES)为共混前驱体、盐酸为催化剂、十六烷基三甲基溴化铵(CTAB)为模板剂制得甲基修饰的二氧化硅溶... 通过膜层设计软件(TFCalcTM )设计了在400-1100nm 波长范围内具有高透过率的单层增透膜.以正硅酸乙酯(TEOS)和甲基三乙氧基硅烷(MTES)为共混前驱体、盐酸为催化剂、十六烷基三甲基溴化铵(CTAB)为模板剂制得甲基修饰的二氧化硅溶胶,通过浸渍提拉法结合溶剂挥发自组装技术成功制备了所设计的多功能单层增透膜.结果表明,(1)增透膜在650nm 的最大透过率可达到99.9%,在400-1100nm 波长范围内的光伏透过率(TPV )高达98.7%,与软件设计结果一致;(2)TEOS与MTES共聚后,显著提高增透膜的疏水性,其对水的接触角从24°提高至85°;(3)单层二氧化硅增透膜具有较好的耐磨擦性.这种兼具高透过率、耐磨擦性和一定疏水性的多功能增透膜在太阳能电池领域具有应用价值. 展开更多
关键词 膜层设计 溶剂挥发自组装技术 增透膜 耐磨擦性 溶胶G凝胶技术
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