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蔗糖羟基保护的选择性去除
被引量：
1
1
作者
吴福忠
张平
+2 位作者
蔡水洪
龙中柱
徐轶
《华东理工大学学报（自然科学版）》
CAS
CSCD
北大核心
2009年第1期21-24,共4页
将蔗糖全基团保护物(TRISPA)中羟基的保护基团进行选择性去除,制备出高纯度的2,3,6,3′,4′-五氧乙酰基蔗糖(6-PAS),并用1H-NMR和质谱、FT-IR表征了产物的结构特征。考察了水分和反应温度对选择性去除羟基上保护基团的影响,采用了去除...
将蔗糖全基团保护物(TRISPA)中羟基的保护基团进行选择性去除,制备出高纯度的2,3,6,3′,4′-五氧乙酰基蔗糖(6-PAS),并用1H-NMR和质谱、FT-IR表征了产物的结构特征。考察了水分和反应温度对选择性去除羟基上保护基团的影响,采用了去除羟基上保护基团和乙酰基迁移一体化反应,反应的选择性80%,6-PAS收率52%,液相色谱分析6-PAS的纯度为99%。
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关键词
羟基的去保护
选择性
6-PAS
一体化反应
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职称材料
题名
蔗糖羟基保护的选择性去除
被引量：
1
1
作者
吴福忠
张平
蔡水洪
龙中柱
徐轶
机构
华东理工大学化工学院
上海东岳生物化工有限公司
出处
《华东理工大学学报（自然科学版）》
CAS
CSCD
北大核心
2009年第1期21-24,共4页
文摘
将蔗糖全基团保护物(TRISPA)中羟基的保护基团进行选择性去除,制备出高纯度的2,3,6,3′,4′-五氧乙酰基蔗糖(6-PAS),并用1H-NMR和质谱、FT-IR表征了产物的结构特征。考察了水分和反应温度对选择性去除羟基上保护基团的影响,采用了去除羟基上保护基团和乙酰基迁移一体化反应,反应的选择性80%,6-PAS收率52%,液相色谱分析6-PAS的纯度为99%。
关键词
羟基的去保护
选择性
6-PAS
一体化反应
Keywords
detritylation
selectivity
6-PAS
integrative reaction
分类号
TQ028 [化学工程]
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题名
作者
出处
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被引量
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1
蔗糖羟基保护的选择性去除
吴福忠
张平
蔡水洪
龙中柱
徐轶
《华东理工大学学报（自然科学版）》
CAS
CSCD
北大核心
2009
1
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