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低压力铜化学机械抛光集散控制系统
被引量:
3
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作者
门延武
张辉
+1 位作者
周凯
叶佩青
《计算机集成制造系统》
EI
CSCD
北大核心
2010年第12期2653-2660,共8页
针对化学机械抛光设备提出了PC+NC+实时网络分布式可编程自动控制器的控制方案,并介绍了该系统的总体结构和主控制系统、网络化协调控制子系统、分布式执行控制子系统等核心环节的软硬件实现技术。单区域抛光头气压控制结果表明,该系统...
针对化学机械抛光设备提出了PC+NC+实时网络分布式可编程自动控制器的控制方案,并介绍了该系统的总体结构和主控制系统、网络化协调控制子系统、分布式执行控制子系统等核心环节的软硬件实现技术。单区域抛光头气压控制结果表明,该系统具有较高的稳定性和可靠性,能很好地满足化学机械抛光项目的总体要求。
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关键词
化学机械抛光
运动控制
网络化递阶系统
分布式执行
可编程自动控制器
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职称材料
题名
低压力铜化学机械抛光集散控制系统
被引量:
3
1
作者
门延武
张辉
周凯
叶佩青
机构
清华大学摩擦学国家重点实验室
出处
《计算机集成制造系统》
EI
CSCD
北大核心
2010年第12期2653-2660,共8页
基金
国家科技重大专项资助项目(2008ZX02104)
摩擦学国家重点实验室基金资助项目(SKLT08B08)~~
文摘
针对化学机械抛光设备提出了PC+NC+实时网络分布式可编程自动控制器的控制方案,并介绍了该系统的总体结构和主控制系统、网络化协调控制子系统、分布式执行控制子系统等核心环节的软硬件实现技术。单区域抛光头气压控制结果表明,该系统具有较高的稳定性和可靠性,能很好地满足化学机械抛光项目的总体要求。
关键词
化学机械抛光
运动控制
网络化递阶系统
分布式执行
可编程自动控制器
Keywords
chemical mechanical polishing
motion control
network rank system
distributed implement
programmable automation controllers
分类号
TP14 [自动化与计算机技术—控制理论与控制工程]
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题名
作者
出处
发文年
被引量
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1
低压力铜化学机械抛光集散控制系统
门延武
张辉
周凯
叶佩青
《计算机集成制造系统》
EI
CSCD
北大核心
2010
3
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