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低压力铜化学机械抛光集散控制系统 被引量:3
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作者 门延武 张辉 +1 位作者 周凯 叶佩青 《计算机集成制造系统》 EI CSCD 北大核心 2010年第12期2653-2660,共8页
针对化学机械抛光设备提出了PC+NC+实时网络分布式可编程自动控制器的控制方案,并介绍了该系统的总体结构和主控制系统、网络化协调控制子系统、分布式执行控制子系统等核心环节的软硬件实现技术。单区域抛光头气压控制结果表明,该系统... 针对化学机械抛光设备提出了PC+NC+实时网络分布式可编程自动控制器的控制方案,并介绍了该系统的总体结构和主控制系统、网络化协调控制子系统、分布式执行控制子系统等核心环节的软硬件实现技术。单区域抛光头气压控制结果表明,该系统具有较高的稳定性和可靠性,能很好地满足化学机械抛光项目的总体要求。 展开更多
关键词 化学机械抛光 运动控制 网络化递阶系统 分布式执行 可编程自动控制器
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