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基于标准结构熵偏差率的软件网络度量研究
1
作者
李鹏
赵海
+1 位作者
李辉
刘铮
《东北大学学报（自然科学版）》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2010年第11期1558-1561,共4页
基于软件静态网络宏观拓扑特征值的特性,提出了软件网络特征值偏差率以及软件相对规模质量特征和结构有序性的概念.并使用标准结构熵偏差率来衡量软件网络特征值与目前被广泛使用且规模相同的开源软件的网络特征值平均值的差距,以此来...
基于软件静态网络宏观拓扑特征值的特性,提出了软件网络特征值偏差率以及软件相对规模质量特征和结构有序性的概念.并使用标准结构熵偏差率来衡量软件网络特征值与目前被广泛使用且规模相同的开源软件的网络特征值平均值的差距,以此来反映特征值对相应软件的相对规模有序性的影响.最后采用单样本K-S检验方法对标准结构熵偏差率进行验证,并得出结论:当标准结构熵偏差率大于0.05时,软件在系统设计以及代码编写方面均存在着一定的问题,软件的相对规模结构有序性存在较大的提高空间.
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关键词
软件网络
特征值
偏差率
标准
结构
熵
结构有序性
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职称材料
多层初始晶硅薄膜的微观结构及光电导特性分析
2
作者
于威
赵思铭
+4 位作者
牛继伟
杨彦斌
马登浩
李晓苇
傅广生
《人工晶体学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2014年第4期790-795,共6页
采用等离子体增强化学气相沉积技术通过高氢和低氢稀释层交替生长制备出多层初始晶硅薄膜,利用Raman散射、红外吸收、紫外可见吸收及I-V测量等技术分析了薄膜的微观结构、能带特征和光电导特性。结果显示,不同氢稀释层交替生长导致薄膜...
采用等离子体增强化学气相沉积技术通过高氢和低氢稀释层交替生长制备出多层初始晶硅薄膜,利用Raman散射、红外吸收、紫外可见吸收及I-V测量等技术分析了薄膜的微观结构、能带特征和光电导特性。结果显示,不同氢稀释层交替生长导致薄膜由非晶硅向初始晶硅结构转变,随高氢稀释层厚度的增加,薄膜微观结构有序性提高,所对应薄膜光学带隙减小,而带尾分布展宽。I-V测量显示,薄膜微观结构有序性提高和光学带隙降低的共同作用导致薄膜光敏性呈现先减小后增加趋势,然而,在高氢稀释层厚度较大时,纳米晶硅边界载流子快速复合导致薄膜光敏性的显著减小。
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关键词
多层初始晶硅
微
结构有序性
光敏性
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职称材料
题名
基于标准结构熵偏差率的软件网络度量研究
1
作者
李鹏
赵海
李辉
刘铮
机构
东北大学信息科学与工程学院
出处
《东北大学学报（自然科学版）》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2010年第11期1558-1561,共4页
基金
国家自然科学基金资助项目(60973022)
教育部高等学校科技创新工程重大培育资金资助项目(708026)
文摘
基于软件静态网络宏观拓扑特征值的特性,提出了软件网络特征值偏差率以及软件相对规模质量特征和结构有序性的概念.并使用标准结构熵偏差率来衡量软件网络特征值与目前被广泛使用且规模相同的开源软件的网络特征值平均值的差距,以此来反映特征值对相应软件的相对规模有序性的影响.最后采用单样本K-S检验方法对标准结构熵偏差率进行验证,并得出结论:当标准结构熵偏差率大于0.05时,软件在系统设计以及代码编写方面均存在着一定的问题,软件的相对规模结构有序性存在较大的提高空间.
关键词
软件网络
特征值
偏差率
标准
结构
熵
结构有序性
Keywords
software network
eigenvalue
deviation ratio
standard entropy
structural orderliness
分类号
TP311.56 [自动化与计算机技术—计算机软件与理论]
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职称材料
题名
多层初始晶硅薄膜的微观结构及光电导特性分析
2
作者
于威
赵思铭
牛继伟
杨彦斌
马登浩
李晓苇
傅广生
机构
河北大学物理科学与技术学院河北省光电信息材料重点实验室
出处
《人工晶体学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2014年第4期790-795,共6页
基金
河北省应用基础研究重点项目(12963930D)
河北省自然科学基金(F2013201250)
河北省科学技术研究计划(ZH2012030)
文摘
采用等离子体增强化学气相沉积技术通过高氢和低氢稀释层交替生长制备出多层初始晶硅薄膜,利用Raman散射、红外吸收、紫外可见吸收及I-V测量等技术分析了薄膜的微观结构、能带特征和光电导特性。结果显示,不同氢稀释层交替生长导致薄膜由非晶硅向初始晶硅结构转变,随高氢稀释层厚度的增加,薄膜微观结构有序性提高,所对应薄膜光学带隙减小,而带尾分布展宽。I-V测量显示,薄膜微观结构有序性提高和光学带隙降低的共同作用导致薄膜光敏性呈现先减小后增加趋势,然而,在高氢稀释层厚度较大时,纳米晶硅边界载流子快速复合导致薄膜光敏性的显著减小。
关键词
多层初始晶硅
微
结构有序性
光敏性
Keywords
protocrystalline silicon multilayer
microstructure order
photosensitivity
分类号
O613.72 [理学—无机化学]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
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1
基于标准结构熵偏差率的软件网络度量研究
李鹏
赵海
李辉
刘铮
《东北大学学报（自然科学版）》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2010
0
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职称材料
2
多层初始晶硅薄膜的微观结构及光电导特性分析
于威
赵思铭
牛继伟
杨彦斌
马登浩
李晓苇
傅广生
《人工晶体学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2014
0
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职称材料
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