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低温磁控溅射SnO_2:Sb透明导电膜的结构与导电性能 被引量:2
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作者 马瑾 刘晓梅 +2 位作者 张士勇 郝晓涛 马洪磊 《太阳能学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第2期148-151,共4页
采用射频磁控溅射法在7059玻璃衬底上低温制备出锑掺杂的氧化锡(SnO2:Sb)透明导电膜,对薄膜的结构和电学性质进行了研究。制备薄膜为多晶膜,并且保持了纯二氧化锡的金红石结构,而且具有明显的(110)择优取向。最低电阻率为2×10-3Ω&... 采用射频磁控溅射法在7059玻璃衬底上低温制备出锑掺杂的氧化锡(SnO2:Sb)透明导电膜,对薄膜的结构和电学性质进行了研究。制备薄膜为多晶膜,并且保持了纯二氧化锡的金红石结构,而且具有明显的(110)择优取向。最低电阻率为2×10-3Ω·cm,载流子浓度和迁移率分别为1 65×1020cm-3和19 0cm2·v-1·s-1。 展开更多
关键词 磁控溅射 SnO2:Sb薄膜 结构和电学性质
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