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平面发射极与绒面发射极银-硅接触的对比研究
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作者 姜辰明 尹庆磊 沈辉 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2015年第4期891-895,共5页
比较了平面发射极与绒面发射极表面通过丝网印刷烧结形成的银-硅接触。通过TLM测试发现,平面发射极与绒面发射极的银-硅接触电阻率平均值分别为4.4 mΩ·cm2和1.1 mΩ·cm2,平面发射极银-硅接触电阻率比绒面的高很多。绒面具有... 比较了平面发射极与绒面发射极表面通过丝网印刷烧结形成的银-硅接触。通过TLM测试发现,平面发射极与绒面发射极的银-硅接触电阻率平均值分别为4.4 mΩ·cm2和1.1 mΩ·cm2,平面发射极银-硅接触电阻率比绒面的高很多。绒面具有更大的相对表面积是一个较为直观的原因。通过SEM观察发射极剖面,发现金字塔顶部区域的掺杂较重,结深从顶峰到谷底沿着金字塔的[111]晶面逐渐减小;通过SEM观察银电极与硅表面的接触界面,总结分析银-硅接触的电流传输机制。然后将银电极块从硅表面剥离,用SEM和EDS观察露出的发射极表面,发现银结晶沉积体在平面上的分布很不均匀而在绒面上的分布较为均匀,密度也大很多,并且银结晶沉积体在掺杂较重的金字塔顶部密度更大。根据电流的传输机制分析得出,银结晶沉积体分布的这种差异性导致了平面发射极银-硅接触电阻率比绒面的高。 展开更多
关键词 发射极 绒面发射极 银-硅接触 电阻率 银结晶沉积体
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