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一种控制明胶材料微浮雕结构线性蚀刻深度的新方法 被引量:1
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作者 董小春 杜春雷 +3 位作者 陈波 潘丽 王永茹 刘强 《光子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2001年第8期1006-1009,共4页
提出了一种用于扩展固定配方明胶版蚀刻范围的新方法—预曝光蚀刻法 ( for-exposuremothod) ,并通过对光刻过程中各参量的控制 ,最终实现了用固定配方明胶版对多种不同线性深度微浮雕透镜列阵的蚀刻 ,该方法在蚀刻范围、蚀刻效果等方面... 提出了一种用于扩展固定配方明胶版蚀刻范围的新方法—预曝光蚀刻法 ( for-exposuremothod) ,并通过对光刻过程中各参量的控制 ,最终实现了用固定配方明胶版对多种不同线性深度微浮雕透镜列阵的蚀刻 ,该方法在蚀刻范围、蚀刻效果等方面都大大地优于传统的蚀刻方法 .本文通过对比预曝光蚀刻法与常用的几种蚀刻方法 ,详尽的阐述了预曝光蚀刻法的原理及优点 ,为深浮雕光刻工艺的进一步发展奠定了基础 . 展开更多
关键词 连续深浮雕微透镜列阵 预曝光蚀刻法 线性深度 线性面形 深浮雕光刻工艺 明胶材料 微光学元件
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光学镜头、光学零部件
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《中国光学》 EI CAS 1999年第5期10-10,共1页
TH703 99052868特殊面形的菲涅尔透镜的设计与分析=Design andanalysis of Fresnel lens.with a special profile[刊,中]/桑涛,王汝笠,严义埙(中科院上海技物所光电研究中心.上海(200083))//红外与毫米波学报.—1998,17(2).—142—146... TH703 99052868特殊面形的菲涅尔透镜的设计与分析=Design andanalysis of Fresnel lens.with a special profile[刊,中]/桑涛,王汝笠,严义埙(中科院上海技物所光电研究中心.上海(200083))//红外与毫米波学报.—1998,17(2).—142—146对连续位相型菲涅尔透镜的设计,采用筒单的线性面形代替复杂的抛物面(二次)面形有可能降低控制面形的难度,分材了这两种面形的差异,通过数值模拟,发现采用线性面形时光学传递函数和点扩散函数十分接近理想函数,从而在理论上论证了这种代替的可行性,并提出了进一步的改进措施。图4表1参4(方舟) 展开更多
关键词 菲涅尔透镜 线性面形 设计与分析 光学传递函数 毫米波 连续位相 数值模拟 点扩散函数 改进措施 控制
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