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污水生物处理系统中纳米颗粒污染物的影响
被引量：
4
1
作者
陈良辉
刘美婷
余冉
《东南大学学报（自然科学版）》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2014年第3期598-604,共7页
重点探讨了水处理系统中纳米颗粒(NPs)污染物的分布和归趋特点,及其对系统中微生物菌群结构与功能、有机物与氮磷去除效率的影响.结果显示:反应器可拦截进水中90%以上NPs;NPs短期内对水处理系统有机物去除效率无明显抑制,当50 mg/L的纳...
重点探讨了水处理系统中纳米颗粒(NPs)污染物的分布和归趋特点,及其对系统中微生物菌群结构与功能、有机物与氮磷去除效率的影响.结果显示:反应器可拦截进水中90%以上NPs;NPs短期内对水处理系统有机物去除效率无明显抑制,当50 mg/L的纳米TiO2和ZnO作用70 d可使得污水总氮去除率从80.3%,81.5%降至24.4%和70.8%,纳米ZnO甚至可使除磷效率完全丧失.NPs还会造成反应器内硝化细菌浓度和比重的下降,如50 mg/L TiO2作用70d可使反应器内氨氧化菌和亚硝酸盐氧化菌含量分别由8%,6%降至1%和3%,但对聚磷菌种群的相关显著影响尚未发现.NPs的生物毒性作用机制主要包括氧化胁迫、细胞膜破坏与酶活性抑制等,如50 mg/L的纳米TiO2可分别对活性污泥中的氨单加氧酶和亚硝酸盐氧化还原酶活性产生80%和55%的抑制率.
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关键词
纳米颗粒污染物
污水生物处理系统
生物毒性
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职称材料
无损伤单晶圆兆声波清洗装置的研发
被引量：
2
2
作者
滕宇
陈洁
+3 位作者
冯晓敏
刘伟
刘效岩
吴仪
《半导体技术》
CAS
CSCD
北大核心
2016年第11期857-863,共7页
在半导体制造中,随着集成电路特征尺寸的不断缩小,晶圆表面纳米颗粒污染物的无损伤清洗变得越来越具有挑战。介绍了一种自主研发的单晶圆兆声波清洗装置,利用石英微共振腔阵列对到达晶圆表面的兆声波能量进行控制。研究了不同工艺条件...
在半导体制造中,随着集成电路特征尺寸的不断缩小,晶圆表面纳米颗粒污染物的无损伤清洗变得越来越具有挑战。介绍了一种自主研发的单晶圆兆声波清洗装置,利用石英微共振腔阵列对到达晶圆表面的兆声波能量进行控制。研究了不同工艺条件下该装置清洗后的颗粒去除效率,并与常规喷嘴的清洗结果进行比较。在图形损伤方面,采用该装置对具有40 nm线宽的多晶硅线条状栅极结构的图形晶圆进行了损伤测试,并与商业化的兆声波清洗装置的清洗结果进行对比。结果表明,该自主研发的装置能够在保证对晶圆表面图形结构没有损伤的前提下,有效地去除颗粒污染物,在40 nm及以下的半导体清洗工艺中应用前景广阔。
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关键词
颗粒
去除效率
兆声波清洗
无损伤
图形晶圆
纳米颗粒污染物
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职称材料
题名
污水生物处理系统中纳米颗粒污染物的影响
被引量：
4
1
作者
陈良辉
刘美婷
余冉
机构
东南大学能源与环境学院
东南大学无锡太湖水环境工程研究中心
出处
《东南大学学报（自然科学版）》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2014年第3期598-604,共7页
基金
国家自然科学基金资助项目(51208092)
国家教育部博士学科点专项科研基金资助项目(20120092120010)
江苏省自然科学基金资助项目(BK2012124)
文摘
重点探讨了水处理系统中纳米颗粒(NPs)污染物的分布和归趋特点,及其对系统中微生物菌群结构与功能、有机物与氮磷去除效率的影响.结果显示:反应器可拦截进水中90%以上NPs;NPs短期内对水处理系统有机物去除效率无明显抑制,当50 mg/L的纳米TiO2和ZnO作用70 d可使得污水总氮去除率从80.3%,81.5%降至24.4%和70.8%,纳米ZnO甚至可使除磷效率完全丧失.NPs还会造成反应器内硝化细菌浓度和比重的下降,如50 mg/L TiO2作用70d可使反应器内氨氧化菌和亚硝酸盐氧化菌含量分别由8%,6%降至1%和3%,但对聚磷菌种群的相关显著影响尚未发现.NPs的生物毒性作用机制主要包括氧化胁迫、细胞膜破坏与酶活性抑制等,如50 mg/L的纳米TiO2可分别对活性污泥中的氨单加氧酶和亚硝酸盐氧化还原酶活性产生80%和55%的抑制率.
关键词
纳米颗粒污染物
污水生物处理系统
生物毒性
Keywords
nanoparticle pollutants
biological wastewater treatment system
biotoxicity
分类号
X592 [环境科学与工程—环境工程]
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职称材料
题名
无损伤单晶圆兆声波清洗装置的研发
被引量：
2
2
作者
滕宇
陈洁
冯晓敏
刘伟
刘效岩
吴仪
机构
北京七星华创电子股份有限公司
出处
《半导体技术》
CAS
CSCD
北大核心
2016年第11期857-863,共7页
基金
国家科技重大专项资助项目(2013ZX02103)
文摘
在半导体制造中,随着集成电路特征尺寸的不断缩小,晶圆表面纳米颗粒污染物的无损伤清洗变得越来越具有挑战。介绍了一种自主研发的单晶圆兆声波清洗装置,利用石英微共振腔阵列对到达晶圆表面的兆声波能量进行控制。研究了不同工艺条件下该装置清洗后的颗粒去除效率,并与常规喷嘴的清洗结果进行比较。在图形损伤方面,采用该装置对具有40 nm线宽的多晶硅线条状栅极结构的图形晶圆进行了损伤测试,并与商业化的兆声波清洗装置的清洗结果进行对比。结果表明,该自主研发的装置能够在保证对晶圆表面图形结构没有损伤的前提下,有效地去除颗粒污染物,在40 nm及以下的半导体清洗工艺中应用前景广阔。
关键词
颗粒
去除效率
兆声波清洗
无损伤
图形晶圆
纳米颗粒污染物
Keywords
particle removal efficiency
megasonic cleaning
damage-free
pattern wafer
nanoparticle contamination
分类号
TN305.97 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
污水生物处理系统中纳米颗粒污染物的影响
陈良辉
刘美婷
余冉
《东南大学学报（自然科学版）》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2014
4
在线阅读
下载PDF
职称材料
2
无损伤单晶圆兆声波清洗装置的研发
滕宇
陈洁
冯晓敏
刘伟
刘效岩
吴仪
《半导体技术》
CAS
CSCD
北大核心
2016
2
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职称材料
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