纳米金刚石薄膜的制备特点及特性 被引量：13

1

作者 方静华 项金钟 +1 位作者 周桢来 吴兴惠 《材料导报》 EI CAS CSCD 2003年第10期44-47,共4页

纳米金刚石薄膜具有金刚石薄膜和纳米材料的双重优异特性,而在制备工艺上又与金刚石薄膜有所不同,通过与金刚石作比较,综述了纳米金刚石薄膜的制备特点,表征方法;并列举了其在场发射、耐磨减摩等领域的应用和其独特性能。

关键词 纳米金刚石薄膜 化学气相沉积 粗糙度 硬度 化学性质

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纳米金刚石薄膜研究进展 被引量：12

2

作者 王学根 孙方宏 +2 位作者 张志明 沈荷生 陈明 《金刚石与磨料磨具工程》 CAS 2003年第5期1-7,共7页

本文对纳米金刚石薄膜的研究现状和发展趋势进行了综合评述 ,从纳米金刚石薄膜的沉积原理和工艺以及纳米效应表征等方面分析了国内外最新研究成果 ,比较了常规和纳米金刚石薄膜不同沉积工艺和形核生长机理 ,对纳米金刚石薄膜的硬度、内... 本文对纳米金刚石薄膜的研究现状和发展趋势进行了综合评述 ,从纳米金刚石薄膜的沉积原理和工艺以及纳米效应表征等方面分析了国内外最新研究成果 ,比较了常规和纳米金刚石薄膜不同沉积工艺和形核生长机理 ,对纳米金刚石薄膜的硬度、内应力、摩擦特性等机械性能也作了概述 ,在此基础上 ,提出在常规金刚石薄膜基础上沉积纳米金刚石薄膜组成复合涂层的新方法。 展开更多

关键词 纳米金刚石薄膜 化学气相沉积 复合涂层 研究进展 CVD

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纳米金刚石薄膜的应用及其研究进展 被引量：9

3

作者 熊礼威 崔晓慧 +4 位作者 汪建华 张莹 易成 吴超 张林 《表面技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2013年第5期98-102,111,共6页

以纳米金刚石薄膜的应用为主线,讨论了它在机械、光学、声学、电学等应用领域的优势,以实例分析、证明了其在各领域中所展现出的优异性能。综述了纳米金刚石薄膜在上述应用领域的研究进展,同时从不同方向阐释了其研究应用过程中所存在... 以纳米金刚石薄膜的应用为主线,讨论了它在机械、光学、声学、电学等应用领域的优势,以实例分析、证明了其在各领域中所展现出的优异性能。综述了纳米金刚石薄膜在上述应用领域的研究进展,同时从不同方向阐释了其研究应用过程中所存在的不足,并对其今后的主要发展方向进行了展望。 展开更多

关键词 纳米金刚石薄膜 应用 研究进展

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纳米金刚石薄膜的光学性能研究 被引量：7

4

作者 蒋丽雯 王林军 +6 位作者 刘健敏 阮建锋 苏青峰 崔江涛 吴南春 史伟民 夏义本 《红外与毫米波学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2006年第3期195-198,共4页

用热丝化学气相(HFCVD)法在硅衬底上制备了表面光滑、晶粒致密均匀的纳米金刚石薄膜,用扫描电镜(SEM)和原子力显微镜(AFM)观测薄膜的表面形貌和粗糙度,拉曼光谱表征膜层结构,紫外-可见光分光光度计测量其光透过率,并用椭圆偏振仪测试、... 用热丝化学气相(HFCVD)法在硅衬底上制备了表面光滑、晶粒致密均匀的纳米金刚石薄膜,用扫描电镜(SEM)和原子力显微镜(AFM)观测薄膜的表面形貌和粗糙度,拉曼光谱表征膜层结构,紫外-可见光分光光度计测量其光透过率,并用椭圆偏振仪测试、建模、拟合获得了表征薄膜光学性质的n,k值.结果表明薄膜的晶粒尺寸在100nm以下,表面粗糙度仅为21nm;厚度为3.26(m薄膜在632.8nm波长处的透过率为25%,1100nm波长处达到50%.采用直接光跃迁机制估算得到纳米金刚石薄膜的光学能隙(Eg)为4.3 eV. 展开更多

关键词 纳米金刚石薄膜 光学透过性 热丝化学气相法 表面粗糙度

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纳米金刚石薄膜的制备和应用 被引量：15

5

作者 刘素田 唐伟忠 +1 位作者 耿春雷 吕反修 《金刚石与磨料磨具工程》 CAS 北大核心 2006年第1期75-79,共5页

纳米金刚石薄膜的优异性能吸引了众多学者的关注,同时也成为CVD金刚石薄膜研究领域的新热点。文章对国内外的纳米金刚石膜制备的研究状况做了详细介绍,并对纳米金刚石薄膜的应用进行了讨论。

关键词 纳米金刚石薄膜 CVD 制备和应用

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贫氢富氩气氛下超纳米金刚石薄膜的生长(英文) 被引量：6

6

作者 刘杰 黑立富 +3 位作者 陈广超 李成明 唐伟忠 吕反修 《新型炭材料》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2013年第2期134-139,共6页

利用微波等离子气相沉积法在5%～20%的氢气浓度下,制备出了超纳米金刚石薄膜(UNCD)。利用扫描电子显微镜、XRD、表面轮廓仪及拉曼光谱研究了氢气浓度对超纳米金刚石薄膜的微结构、形貌、以及相组成的影响。结果表明,随着氢气浓度的增加... 利用微波等离子气相沉积法在5%～20%的氢气浓度下,制备出了超纳米金刚石薄膜(UNCD)。利用扫描电子显微镜、XRD、表面轮廓仪及拉曼光谱研究了氢气浓度对超纳米金刚石薄膜的微结构、形貌、以及相组成的影响。结果表明,随着氢气浓度的增加,晶粒粒径及粗糙度都明显增加变大;在不大于10%的氢气浓度气氛下,可以发现晶粒粒径下降到6nm,甚至更低;即便氢气浓度达到20%,晶粒粒径仍然小于10 nm。讨论了在富氩气氛下沉积的UNCD的实验结果以及沉积机制。这种极其光滑的UNCD薄膜有望在医疗,声表面波器件以及微机电系统,尤其是在重载和恶劣环境下作为超级密封材料的应用。 展开更多

关键词 超纳米金刚石薄膜 氢气浓度 晶粒粒径

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硼源浓度对纳米金刚石薄膜掺硼的影响 被引量：4

7

作者 熊礼威 崔晓慧 +2 位作者 汪建华 龚国华 邹伟 《表面技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2014年第3期6-9,24,共5页

目的研究纳米金刚石薄膜生长掺硼的内在机理,实现对该过程的精确控制。方法采用微波等离子体化学气相沉积法,以氢气稀释的乙硼烷为硼源,进行纳米金刚石薄膜的生长过程掺硼实验,研究硼源浓度对掺硼纳米金刚石薄膜晶粒尺寸、表面粗糙度、... 目的研究纳米金刚石薄膜生长掺硼的内在机理,实现对该过程的精确控制。方法采用微波等离子体化学气相沉积法,以氢气稀释的乙硼烷为硼源,进行纳米金刚石薄膜的生长过程掺硼实验,研究硼源浓度对掺硼纳米金刚石薄膜晶粒尺寸、表面粗糙度、表面电阻和表面硼原子浓度的影响。结果随着硼源浓度的增加,纳米金刚石薄膜的表面粗糙度和晶粒尺寸增大,表面电阻则先下降,而后趋于平衡。结论纳米金刚石薄膜掺硼后,表面电导性能可获得改善,表面粗糙度和晶粒尺寸则会增大。在700℃条件下掺硼15 min,最佳的硼源浓度(以硼烷占总气体流量的百分比计)为0.02%。 展开更多

关键词 纳米金刚石薄膜 掺硼 硼源浓度 化学气相沉积

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原子氢在纳米金刚石薄膜生长中的作用 被引量：4

8

作者 林良武 唐元洪 朱利兵 《无机材料学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2005年第5期1263-1269,共7页

探索了原子氢在各类制备条件下对纳米金刚石薄膜生长所起的作用,指出贫氢环境并不是纳米金刚石薄膜制备的必备条件,原子氢与Ar在贫氢环境和富氢环境中的作用机理不尽相同.通过施加衬底偏压能促进氢离子的产生,氢离子刻蚀sp2碳的能力比刻... 探索了原子氢在各类制备条件下对纳米金刚石薄膜生长所起的作用,指出贫氢环境并不是纳米金刚石薄膜制备的必备条件,原子氢与Ar在贫氢环境和富氢环境中的作用机理不尽相同.通过施加衬底偏压能促进氢离子的产生,氢离子刻蚀sp2碳的能力比刻蚀sp3碳能力强很多,同时能产生表面缺陷,因而富原子氢环境更有利于纳米金刚石薄膜成核与生长. 展开更多

关键词 原子氢 纳米金刚石薄膜 衬底偏压 成核 生长

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纳米金刚石薄膜紫外探测器研究 被引量：3

9

作者 王兰喜 陈学康 +4 位作者 王云飞 郭晚土 吴敢 曹生珠 尚凯文 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2009年第S1期16-20,共5页

利用微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)技术,制备了高表面光洁度(其表面的高度标准偏差约为8.6nm)的纳米金刚石薄膜,在其表面上制作了共平面MSM结构的紫外探测器。电荷-深能级瞬态谱(Q-DLTS)测试表明,纳米金刚石薄膜的带隙中引入了一个能... 利用微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)技术,制备了高表面光洁度(其表面的高度标准偏差约为8.6nm)的纳米金刚石薄膜,在其表面上制作了共平面MSM结构的紫外探测器。电荷-深能级瞬态谱(Q-DLTS)测试表明,纳米金刚石薄膜的带隙中引入了一个能级,能级激活能E_a=0.134eV,俘获截面σ_s=2.81×10^(-22)cm^2,能级密度N_I～10^(12)cm^(-2)。利用脉冲氙灯作为光源对器件的紫外探测性能进行了测试,器件在10V偏压下的脉冲光电流峰值可达9μA,光电流的响应时间为ms量级。分析得出,纳米金刚石薄膜中存在的这个浅能级,由于其低的激活能和小的俘获截面起到非平衡载流子的陷阱作用,导致紫外探测器具有较慢的响应速度和较高的光电流。 展开更多

关键词 纳米金刚石薄膜 紫外探测器 粗糙度 深能级 电荷-深能级瞬态谱

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纳米金刚石薄膜的合成、表征及应用 被引量：5

10

作者 朱利兵 唐元洪 林良武 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第6期1052-1056,共5页

纳米金刚石薄膜具有众多优异性能 ,在众多领域有广泛的应用。本文在详细介绍纳米金刚石薄膜合成的基础上 ,着重阐述了对纳米金刚石薄膜的表征 。

关键词 纳米金刚石薄膜 表征 吸收光谱 合成 X射线 领域 性能

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PECVD法制备掺硼纳米金刚石薄膜的工艺研究进展 被引量：3

11

作者 熊礼威 彭环洋 +2 位作者 汪建华 崔晓慧 龚国华 《表面技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2016年第10期40-48,共9页

首先详细介绍了金刚石作为半导体材料的优异性能,然后从应用角度阐述了NCD薄膜掺B后形成半导体材料的优势,接着探讨了影响NCD薄膜性能(电性能、光学性能、生物性能等)的主要工艺条件(包括硼源种类、掺硼浓度、衬底温度、后处理)。研究发... 首先详细介绍了金刚石作为半导体材料的优异性能,然后从应用角度阐述了NCD薄膜掺B后形成半导体材料的优势,接着探讨了影响NCD薄膜性能(电性能、光学性能、生物性能等)的主要工艺条件(包括硼源种类、掺硼浓度、衬底温度、后处理)。研究发现,大多数研究者都采用液态和气态硼源,而固态硼源由于很难液化且浓度不易控制而不常被采用,掺B后NCD薄膜的电阻率急剧下降,紫外波段下透过率可达51%,磁阻效应变好。另外衬底温度对BD-NCD薄膜的质量以及性能都有影响,衬底温度太高,非晶碳含量增加,金刚石质量下降;衬底温度太低,能够进入NCD晶界或晶粒的有效硼原子减少,影响其电学性能、光学性能,在最佳衬底温度工艺下的电导率可达22.3 S/cm,而在电化学性能方面,其电化学窗口可达3.3 V。而选择合适的硼源浓度对BD-NCD的电性能、光学性能、生物性能也非常关键,硼源浓度过大,BD-NCD表面粗糙度和晶粒尺寸增大;硼源浓度过小,产生空穴进行导电的B原子就少,在合适硼源浓度工艺条件下其载流子浓度可达1021 cm-3,折射率可达2.45。还有研究者对BD-NCD薄膜进行后处理工艺(退火、等离子体处理等),发现后处理对其电性能也有一定的影响。因此,选择合适的工艺对生长质量高、性能优异的NCD薄膜尤为重要。最后对BD-NCD薄膜的发展以及后续研究方向进行了展望和期待。 展开更多

关键词 硼掺杂 纳米金刚石薄膜 电性能 硼源浓度 衬底温度

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正偏压对纳米金刚石薄膜结构和电阻率的影响 被引量：2

12

作者 吴南春 夏义本 +3 位作者 谭寿洪 刘健敏 苏青峰 王林军 《无机材料学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2007年第2期381-384,共4页

采用电子辅助热丝化学气相沉积工艺,在1kPa反应气压和施加不同的偏流条件下,沉积了纳米金刚石薄膜．用X射线衍射,场发射扫描电镜和半导体特性表征系统对该薄膜进行了表征和分析．结果表明,施加偏流可以使薄膜晶粒呈现明显的(110)晶面择... 采用电子辅助热丝化学气相沉积工艺,在1kPa反应气压和施加不同的偏流条件下,沉积了纳米金刚石薄膜．用X射线衍射,场发射扫描电镜和半导体特性表征系统对该薄膜进行了表征和分析．结果表明,施加偏流可以使薄膜晶粒呈现明显的(110)晶面择优取向,表面形貌发生较大变化．当偏流为8A时,薄膜晶粒达到最小值,约为20nm,薄膜表面也最光滑．本文讨论了在低气压和电子轰击条件下(110)晶面择优取向的形成机制及其对薄膜显微形貌和电阻率的影响关系． 展开更多

关键词 纳米金刚石薄膜 择优取向 显微形貌 电阻率

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甲烷体积分数对纳米金刚石薄膜形貌的影响 被引量：2

13

作者 熊礼威 彭环洋 +2 位作者 汪建华 崔晓慧 龚国华 《表面技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2016年第3期72-77,共6页

目的研究不同甲烷体积分数对纳米金刚石(NCD)薄膜生长的影响,实现较小晶粒尺寸、高平整度的NCD薄膜的制备。方法采用微波等离子体增强化学气相沉积的方法制备NCD薄膜,以CH4/H2为气源,在生长阶段控制其他条件不变的前提下,探讨不同甲烷... 目的研究不同甲烷体积分数对纳米金刚石(NCD)薄膜生长的影响,实现较小晶粒尺寸、高平整度的NCD薄膜的制备。方法采用微波等离子体增强化学气相沉积的方法制备NCD薄膜,以CH4/H2为气源,在生长阶段控制其他条件不变的前提下,探讨不同甲烷体积分数对NCD晶粒尺寸、表面形貌以及表面粗糙度的影响。采用SEM、XRD等观测NCD薄膜的表面形貌和晶粒尺寸大小,并利用Raman对NCD薄膜的不同散射峰进行分析。结果随着甲烷体积分数的增加,薄膜晶粒尺寸有减小的趋势。甲烷体积分数较低时,晶形比较完整,但致密度较小;甲烷体积分数较高时,晶形杂乱无章,但致密度较好。当甲烷体积分数为9%时NCD薄膜平均粒径达到最小,为21.3 nm,表面粗糙度较好,但非晶金刚石成分开始大量生成,NCD薄膜质量开始变差;当甲烷体积分数为8%时其形貌最好,且此时最小表面粗糙度小于20 nm。通过Raman分析可知NCD薄膜中出现了硅峰和石墨烯特征峰。结论甲烷体积分数对NCD薄膜形貌有较大影响,甲烷体积分数为8%时是表面平整度由较差变好再逐渐变差的分界点,且平均晶粒尺寸为23.6 nm,薄膜表面具有较好的平整度。 展开更多

关键词 纳米金刚石薄膜 MPCVD 晶粒尺寸 表面粗糙度 甲烷体积分数 表面形貌

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RF-HFCVD生长高质量纳米金刚石薄膜 被引量：2

14

作者 邱东江 吴惠桢 +1 位作者 陈奶波 石成儒 《红外与毫米波学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2002年第3期167-170,共4页

采用射频等离子体增强的热丝化学气相沉积 (RF HFCVD)技术在石英玻璃衬底上制备了高质量的纳米金刚石薄膜 .研究了衬底温度、反应气压及射频功率对金刚石膜的结晶习性和光学性质的影响 ,其最佳值分别为70 0℃、2× 133Pa和 2 0 0W ... 采用射频等离子体增强的热丝化学气相沉积 (RF HFCVD)技术在石英玻璃衬底上制备了高质量的纳米金刚石薄膜 .研究了衬底温度、反应气压及射频功率对金刚石膜的结晶习性和光学性质的影响 ,其最佳值分别为70 0℃、2× 133Pa和 2 0 0W .在该条件下金刚石成核密度达 10 11cm-2 ,经 1h生长即获得连续薄膜 ,其平均晶粒尺寸为 2 5nm ,表面粗糙度仅为 5 5 ,在近红外区域 (80 0nm处 )的光透过率达 90 % . 展开更多

关键词 RF-HFCVD 生长 纳米金刚石薄膜 射频等离子体增强热丝化学气相沉积 光透过率

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化学气相沉积法制备超纳米金刚石薄膜 被引量：2

15

作者 王玉乾 王兵 +1 位作者 孟祥钦 甘孔银 《材料导报》 EI CAS CSCD 北大核心 2009年第14期54-56,共3页

采用微波等离子体化学气相沉积法,利用CH4、SiO2和Ar的混合气体在单晶硅片基底上制备出高质量的超纳米金刚石薄膜。表征结果显示,制备的薄膜致密而均匀,晶粒平均尺寸约7.47nm,表面粗糙度约15.72nm,并且其金刚石相的物相纯度相对较高,是... 采用微波等离子体化学气相沉积法,利用CH4、SiO2和Ar的混合气体在单晶硅片基底上制备出高质量的超纳米金刚石薄膜。表征结果显示,制备的薄膜致密而均匀,晶粒平均尺寸约7.47nm,表面粗糙度约15.72nm,并且其金刚石相的物相纯度相对较高,是质量优异的超纳米金刚石薄膜材料。 展开更多

关键词 微波等离子体 化学气相沉积超 纳米金刚石薄膜

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超纳米金刚石薄膜及其在MEMS上的应用研究进展 被引量：7

16

作者 李建国 丰杰 梅军 《材料导报》 CSCD 北大核心 2008年第7期1-4,共4页

硅基MEMS器件最主要的问题是硅具有低的机械和摩擦性能,限制了其在弯折和运动MEMS器件中的应用。超纳米金刚石薄膜优异的机械、化学惰性、热稳定性、摩擦磨损性能使其成为能长期可靠运行的理想MEMS元件材料。阐述了微波化学气相沉积和Ar... 硅基MEMS器件最主要的问题是硅具有低的机械和摩擦性能,限制了其在弯折和运动MEMS器件中的应用。超纳米金刚石薄膜优异的机械、化学惰性、热稳定性、摩擦磨损性能使其成为能长期可靠运行的理想MEMS元件材料。阐述了微波化学气相沉积和Ar、CH4为主的超纳米金刚石薄膜的制备及其机理,综述了超纳米金刚石薄膜与MEMS相关性能及在微摩擦磨损、残余应力方面的研究现状,介绍了超纳米金刚石薄膜覆形沉积、选择性生长和光刻图形化等微加工技术及其在MEMS上的应用研究进展。 展开更多

关键词 超纳米金刚石薄膜 MEMS 微加工技术

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微波功率对掺氮纳米金刚石薄膜组成、结构及性能的影响 被引量：1

17

作者 王兵 王延平 +2 位作者 熊鹰 周亮 叶勤燕 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2012年第20期2848-2850,2854,共4页

以CH4和CO2作生长金刚石薄膜的反应气体,以Ar作载气将三聚氰胺甲醇饱和溶液带入沉积室内作氮掺杂源,用微波等离子体化学气相沉积法在单晶硅衬底上制备出掺氮纳米金刚石薄膜。通过拉曼光谱、原子力显微镜、霍尔效应研究了掺氮纳米金刚石... 以CH4和CO2作生长金刚石薄膜的反应气体,以Ar作载气将三聚氰胺甲醇饱和溶液带入沉积室内作氮掺杂源,用微波等离子体化学气相沉积法在单晶硅衬底上制备出掺氮纳米金刚石薄膜。通过拉曼光谱、原子力显微镜、霍尔效应研究了掺氮纳米金刚石薄膜的组成、结构和导电性能,重点研究了微波输入功率对薄膜特性的影响。结果表明,制备的掺氮纳米金刚石薄膜具有良好的电子导电性,且随着激发等离子体微波功率的增大,其晶粒尺寸、晶界宽度、表面粗糙度和电导率增大,在最佳微波功率条件下制备出电子电导率高、材料质量好的纳米金刚石薄膜。 展开更多

关键词 微波等离子体 纳米金刚石薄膜 掺杂 电导率

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大面积印刷纳米金刚石薄膜的场致发射的研究 被引量：3

18

作者 张秀霞 朱长纯 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第9期1488-1490,共3页

研制了特定比例的纳米金刚石浆料,采用了丝网印刷工艺在石墨衬底上大面积印制了纳米金刚石场发射薄膜,实验探索了石墨衬底纳米金刚石薄膜的烧结工艺和后处理过程,利用扫描电镜(SEM)观察了纳米金刚石膜的表面形貌,经后处理的薄膜中纳米... 研制了特定比例的纳米金刚石浆料,采用了丝网印刷工艺在石墨衬底上大面积印制了纳米金刚石场发射薄膜,实验探索了石墨衬底纳米金刚石薄膜的烧结工艺和后处理过程,利用扫描电镜(SEM)观察了纳米金刚石膜的表面形貌,经后处理的薄膜中纳米金刚石露出薄膜表面,纳米金刚石的棱角是天然的发射体。采用本课题组研制的多功能场发射测试台在10-6Pa的真空条件下进行了场发射特性的测试,结果发现石墨上低成本大面积印刷的纳米金刚石薄膜具有均匀稳定的场发射特性,作为电子器件的理想冷阴极发射,可在宇宙飞船、原子反应堆等恶劣条件下工作的平面显示器中得到应用。 展开更多

关键词 纳米金刚石薄膜 场发射特性 丝网印刷 大面积石墨衬底

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反应气体对纳米金刚石薄膜的显微力学特性影响 被引量：2

19

作者 李建国 丰杰 +1 位作者 胡东平 梅军 《金刚石与磨料磨具工程》 CAS 北大核心 2009年第1期13-17,共5页

本文采用电子辅助增强热丝化学气相沉积(HFCVD)系统,CH4/H2、CH4/H2/Ar气体和不同比例的四种气氛制备了纳米金刚石薄膜,利用Raman光谱和原子力显微镜(AFM)表征了薄膜的结构和显微形貌,采用纳米压入测试技术测量了纳米金刚石薄膜的显微... 本文采用电子辅助增强热丝化学气相沉积(HFCVD)系统,CH4/H2、CH4/H2/Ar气体和不同比例的四种气氛制备了纳米金刚石薄膜,利用Raman光谱和原子力显微镜(AFM)表征了薄膜的结构和显微形貌,采用纳米压入测试技术测量了纳米金刚石薄膜的显微力学特性,获得了加载、卸载曲线,以及硬度和模量随压入深度的变化曲线。结果表明:薄膜具有明显的纳米结构特点,随着CH4、Ar浓度的增加,晶粒更加细化,表面粗糙度更低。无Ar气氛制备的纳米金刚石薄膜的弹性恢复较好,硬度和模量较高,CH4和Ar含量越低的制备气氛,其硬度和模量相对较高。 展开更多

关键词 纳米金刚石薄膜 反应气体 纳米压入 显微力学

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超纳米金刚石薄膜场发射特性的研究 被引量：11

20

作者 丁明清 GRUEN Dieter 《液晶与显示》 CAS CSCD 2004年第4期239-243,共5页

超纳米金刚石(UNCD)是一种全新的纳米材料,具有许多独特性能。介绍了Si微尖和微尖阵列阴极沉积超纳米金刚石薄膜的工艺及其场发射特性。研究发现,适当的成核工艺和微波等离子体化学气相沉积工艺可在Si微尖上沉积一层光滑敷形的金刚石薄... 超纳米金刚石(UNCD)是一种全新的纳米材料,具有许多独特性能。介绍了Si微尖和微尖阵列阴极沉积超纳米金刚石薄膜的工艺及其场发射特性。研究发现,适当的成核工艺和微波等离子体化学气相沉积工艺可在Si微尖上沉积一层光滑敷形的金刚石薄膜;沉积后阴极的电压 电流特性、发射电流的稳定性以及工作在氧气环境下的发射特性都获得明显提高。讨论了超纳米晶金刚石薄膜阴极的发射机理。 展开更多

关键词 超纳米金刚石薄膜 场发射 微波等离子体化学气相沉积

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