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FIB/SEM双束系统在微纳加工与表征中的应用
被引量:
3
1
作者
彭开武
《中国材料进展》
CAS
CSCD
2013年第12期728-734,751,共8页
简要回顾了聚焦离子束/扫描电子显微镜双束系统在国家纳米科学中心的应用。围绕透射电镜样品制备、扫描电子显微镜与扫描离子显微镜、纳米材料的二维与三维表征等材料表征,以及离子束直接刻蚀加工如光子晶体阵列器件原型加工、材料沉积...
简要回顾了聚焦离子束/扫描电子显微镜双束系统在国家纳米科学中心的应用。围绕透射电镜样品制备、扫描电子显微镜与扫描离子显微镜、纳米材料的二维与三维表征等材料表征,以及离子束直接刻蚀加工如光子晶体阵列器件原型加工、材料沉积加工如用于电学性能测试的四电极制作、指定点加工如原子力显微镜针尖修饰、三维加工、电子束曝光及其与聚焦离子束联合加工等纳米结构加工两方面,以些具体实例分类进行了介绍。针对限制其应用的些不利因素,如加工效率低、面积小、精度不足、加工损伤等问题,些新技术如新型离子源Plasma、He+/Ne+离子等与现有Ga+聚焦离子束系统配合将成为未来发展方向。
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关键词
聚焦离子束
双束系统
纳米
材料表征
纳米结构加工
电子束曝光
透射电镜样品制备
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职称材料
题名
FIB/SEM双束系统在微纳加工与表征中的应用
被引量:
3
1
作者
彭开武
机构
国家纳米科学中心纳米检测实验室
出处
《中国材料进展》
CAS
CSCD
2013年第12期728-734,751,共8页
文摘
简要回顾了聚焦离子束/扫描电子显微镜双束系统在国家纳米科学中心的应用。围绕透射电镜样品制备、扫描电子显微镜与扫描离子显微镜、纳米材料的二维与三维表征等材料表征,以及离子束直接刻蚀加工如光子晶体阵列器件原型加工、材料沉积加工如用于电学性能测试的四电极制作、指定点加工如原子力显微镜针尖修饰、三维加工、电子束曝光及其与聚焦离子束联合加工等纳米结构加工两方面,以些具体实例分类进行了介绍。针对限制其应用的些不利因素,如加工效率低、面积小、精度不足、加工损伤等问题,些新技术如新型离子源Plasma、He+/Ne+离子等与现有Ga+聚焦离子束系统配合将成为未来发展方向。
关键词
聚焦离子束
双束系统
纳米
材料表征
纳米结构加工
电子束曝光
透射电镜样品制备
Keywords
focused ion beam (FIB)
dual beam system
micro-nanofabrication
nanocharacterizatiou
electron beamlithography (EBL)
TEM sample preparation
分类号
TN405 [电子电信—微电子学与固体电子学]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
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1
FIB/SEM双束系统在微纳加工与表征中的应用
彭开武
《中国材料进展》
CAS
CSCD
2013
3
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职称材料
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