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亚稳态氦原子束在纳米结构制作中的应用 被引量:3
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作者 陈献忠 姚汉民 陈旭南 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2003年第9期919-922,共4页
 介绍两种用亚稳态氦原子束制作纳米结构的新方法。亚稳态原子束从原子源喷出后首先对其进行横向激光冷却,准直后的原子束穿过与之垂直的激光驻波场时发生淬火过程,原子的密度分布出现沟道化效应,给出基于光掩模制作纳米图形的基本原...  介绍两种用亚稳态氦原子束制作纳米结构的新方法。亚稳态原子束从原子源喷出后首先对其进行横向激光冷却,准直后的原子束穿过与之垂直的激光驻波场时发生淬火过程,原子的密度分布出现沟道化效应,给出基于光掩模制作纳米图形的基本原理、理论分析及模拟结果。介绍基于物理掩模制作纳米图形的原理和SAM抗蚀剂,利用沉积在基底上的亚稳态原子破坏基底上的SAM膜,结合刻蚀技术可制作出纳米量级的图形。 展开更多
关键词 亚稳态原子束 纳米结构制作 光掩模 光驻波淬火 自组装单分子膜抗蚀剂
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用亚稳态氩原子束制作纳米结构
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作者 陈献忠 高洪涛 +4 位作者 姚汉民 陈旭南 李展 石建平 陈元培 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 2003年第1期6-10,共5页
纳米结构制作是纳米技术的重要组成部分 ,原子光刻技术是纳米图形制作的一项新方法。对直流高压放电产生的亚稳态氩原子束进行准直减小其发散角 ,亚稳态原子在与之传播方向垂直的激光驻波场中发生淬火并沉积在基底上 ,破坏吸附在基底表... 纳米结构制作是纳米技术的重要组成部分 ,原子光刻技术是纳米图形制作的一项新方法。对直流高压放电产生的亚稳态氩原子束进行准直减小其发散角 ,亚稳态原子在与之传播方向垂直的激光驻波场中发生淬火并沉积在基底上 ,破坏吸附在基底表面的SAM膜 (self_assembledmonolayers) ,结合刻蚀技术可制作出纳米量级的图形。给出该技术制作纳米图形的基本原理、方案、相关理论及模拟结果。 展开更多
关键词 亚稳态原子 纳米结构制作 光驻波淬火
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