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真空热压烧结纳米氮化铝陶瓷的研究 被引量:3
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作者 安晓燕 《陶瓷学报》 CAS 北大核心 2009年第4期519-524,共6页
在1500℃、1600℃和1700℃的烧结温度真空热压烧结出以MoSi2为助剂的纳米AlN陶瓷。XRD、SEM、力学性能检测等测试结果表明:制备出的氮化铝陶瓷晶粒细小(100nm左右),结构均匀,致密度较高、弹性模量和维氏硬度都明显低于纯AlN陶瓷。
关键词 纳米氮化铝陶瓷 真空热压烧结 MOSI2
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