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反应溅射Ti-Al-Si-N纳米晶复合薄膜的微结构与力学性能
被引量：
1
1
作者
董云杉
孔明
+2 位作者
胡晓萍
李戈扬
顾明元
《功能材料》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2005年第1期44-46,共3页
采用 Ar、N2 和 SiH4 混合气体反应溅射制备了一系列不同 Si 含量的 Ti- Al- Si- N 薄膜,并采用EDS、AES、XRD、TEM和微力学探针研究了薄膜的微结构和力学性能。结果表明通过控制混合气体中SiH4 分压可以方便地获得不同 Si 含量的 Ti- A...
采用 Ar、N2 和 SiH4 混合气体反应溅射制备了一系列不同 Si 含量的 Ti- Al- Si- N 薄膜,并采用EDS、AES、XRD、TEM和微力学探针研究了薄膜的微结构和力学性能。结果表明通过控制混合气体中SiH4 分压可以方便地获得不同 Si 含量的 Ti- Al -Si N纳米晶复合薄膜。当 Si 含量达到 3. 5% (原子分数)时,薄膜中出现 TiSix 界面相,造成(Ti,Al)N 晶粒细化,使薄膜力学性能得到提高,硬度和弹性模量的最高值分别为 36.0GPa和 400GPa。进一步提高 Si 含量,薄膜的力学性能逐渐降低。
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关键词
反应溅射
纳米晶复合薄膜
微结构
力学性能
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职称材料
题名
反应溅射Ti-Al-Si-N纳米晶复合薄膜的微结构与力学性能
被引量：
1
1
作者
董云杉
孔明
胡晓萍
李戈扬
顾明元
机构
上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室
出处
《功能材料》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2005年第1期44-46,共3页
基金
上海市纳米专项基金资助项目(0352nm084)
文摘
采用 Ar、N2 和 SiH4 混合气体反应溅射制备了一系列不同 Si 含量的 Ti- Al- Si- N 薄膜,并采用EDS、AES、XRD、TEM和微力学探针研究了薄膜的微结构和力学性能。结果表明通过控制混合气体中SiH4 分压可以方便地获得不同 Si 含量的 Ti- Al -Si N纳米晶复合薄膜。当 Si 含量达到 3. 5% (原子分数)时,薄膜中出现 TiSix 界面相,造成(Ti,Al)N 晶粒细化,使薄膜力学性能得到提高,硬度和弹性模量的最高值分别为 36.0GPa和 400GPa。进一步提高 Si 含量,薄膜的力学性能逐渐降低。
关键词
反应溅射
纳米晶复合薄膜
微结构
力学性能
Keywords
Composite materials
Crystal microstructure
Mechanical properties
Methane
Nanostructured materials
Silicon compounds
Sputter deposition
Titanium compounds
分类号
O484 [理学—固体物理]
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作者
出处
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被引量
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1
反应溅射Ti-Al-Si-N纳米晶复合薄膜的微结构与力学性能
董云杉
孔明
胡晓萍
李戈扬
顾明元
《功能材料》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2005
1
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