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结构调制高硬度TiCu/TiN-Cu纳米多层复合膜制备及其机械性能 被引量:2
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作者 杨浩志 辛艳青 +4 位作者 郑小龙 石倩 代明江 林松盛 孙珲 《哈尔滨工业大学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2021年第8期56-63,共8页
为改善TiN硬质薄膜的硬度和耐摩擦磨损性能,采用多弧离子镀技术,在硬质合金基底上制备了单层TiN-Cu薄膜和调制周期Λ=5.9~62.1 nm的5组TiCu/TiN-Cu纳米多层复合膜。使用扫描电子显微镜(SEM)、X射线能谱仪(EDS)、X射线衍射仪(XRD)、纳米... 为改善TiN硬质薄膜的硬度和耐摩擦磨损性能,采用多弧离子镀技术,在硬质合金基底上制备了单层TiN-Cu薄膜和调制周期Λ=5.9~62.1 nm的5组TiCu/TiN-Cu纳米多层复合膜。使用扫描电子显微镜(SEM)、X射线能谱仪(EDS)、X射线衍射仪(XRD)、纳米压痕仪、划痕仪和摩擦磨损试验机等测试仪器,表征了薄膜的微观结构及机械性能,并研究了调制周期对纳米多层复合膜结构及机械性能的影响。实验结果表明:与单层TiN-Cu薄膜相比,TiCu/TiN-Cu纳米多层复合膜有效地抑制了晶粒生长,而且分层明显,薄膜均匀致密,薄膜中TiN晶粒以面心立方结构沿(111)方向生长。随着调制周期的减小,薄膜的结晶性有所下降,薄膜的硬度呈现先增大后减小的趋势。在调制周期为13.7 nm时,薄膜综合性能达到最佳,薄膜的硬度达到了42.6 GPa,H^(3)/E^(2)值也达到了0.689,摩擦系数为0.17,附着力为49.2 N,接近53.1 N的最高值,表明薄膜具有理想的硬度和耐摩擦磨损能力。在使用多弧离子镀工艺制备TiCu/TiN-Cu纳米多层复合多层膜的过程中,通过调整调制周期,有效地改善了膜层的机械性能,拓展了膜层的应用范围。 展开更多
关键词 多弧离子镀 纳米多层复合膜 TiN-Cu 调制周期 机械性能
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静电自组装法制备镧/铈掺杂锶铁氧体纳米复合多层膜 被引量:1
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作者 翟青霞 黄英 +1 位作者 李玉青 王艳丽 《西北工业大学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2010年第6期877-882,共6页
为制备具有良好吸波性能的锶铁氧体纳米薄膜,确定了静电自组装法制备掺杂态铁氧体与聚苯乙烯磺酸钠(PSS)多层复合膜的基片处理方法和单层膜的组装时间。用紫外-可见分光光度计、XRD、AFM、矢量网络分析仪对纳米薄膜的结构与性能进行研... 为制备具有良好吸波性能的锶铁氧体纳米薄膜,确定了静电自组装法制备掺杂态铁氧体与聚苯乙烯磺酸钠(PSS)多层复合膜的基片处理方法和单层膜的组装时间。用紫外-可见分光光度计、XRD、AFM、矢量网络分析仪对纳米薄膜的结构与性能进行研究。研究表明:所制得薄膜为非晶态,薄膜表面由球状颗粒组成,其平均粒径约150nm。通过SrLa0.4Fe11.6O19/PSS纳米复合多层薄膜的电磁参数分析,发现随层数的增加,薄膜的吸波性能增强;在9.21GHz和10.5GHz左右,且组装层数一定时,复合多层膜的吸波性能排序为SrCe0.2Fe11.8O19/PSS>SrLa0.2Fe11.8O19/PSS>S.rFe12O19/PSS。 展开更多
关键词 静电自组装 镧/铈掺杂 锶铁氧体 纳米复合多层 吸波
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多层纳米硅复合膜的共振光学非线性
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作者 郭震宁 郭亨群 +2 位作者 王加贤 张文珍 李世忱 《光子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2002年第11期1340-1343,共4页
本文采用简并四波混频技术在室温下研究晶化a Si:H/a SiNx:H多层纳米硅复合膜三阶非线性光学性质 ,首次观察到这种多层膜的相位共轭信号 ,在共振光波波长λ =5 89nm处实验所用样品的三阶非线性极化率为 χ(3) =1 .4× 1 0 - 6esu 。
关键词 多层纳米复合 简并四波混频 共振光学非线性 非线性光学性质 半导体 多层 量子点 强量子限域效应
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